本技术涉及抛光领域,具体为一种上料机构及双轴环形抛光机。
背景技术:
1、抛光机也称为研磨机,常常用作机械式研磨、抛光及打蜡,具有两个不同轴的环形抛光轮盘,可对物料进行抛光研磨的抛光机称为双轴环形抛光机,抛光机使用时将物料传送至操作位置后,利用抛光盘对其抛光打磨。
2、现有的抛光机在上料时往往人工将物料放置在抛光盘底部的放置位置,虽一般可以放置在正确位置,但因抛光盘高速转动时存在一定的危险性,且部分需要抛光的物体较重,长期人工搬运上料对操作人员的健康造成一定的影响,且存在安全隐患,故我们提出一种上料机构及双轴环形抛光机。
技术实现思路
1、本实用新型的目的在于提供一种上料机构及双轴环形抛光机,以解决上述背景技术中提出的问题。
2、为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种上料机构及双轴环形抛光机,所述上料机构包括上料支架和抬升组件,所述上料支架的内部前后两壁顶端均设置有电机,且上料支架的内部前后两壁底端均设置有螺杆,所述抬升组件设置于螺杆靠近上料支架中轴线的一侧,且抬升组件包括滑块和抬升板,所述滑块的内侧设置有抬升板,所述抬升板的顶端内部前后两侧均设置有电动导轨,且电动导轨的顶端设置有支撑移动组件。
3、优选的,所述支撑移动组件包括移动支杆和防滑垫块,且移动支杆的顶端左右两侧均嵌有防滑垫块。
4、优选的,所述上料支架的左端底部设置有限位侧板,且上料支架的右端底部设置有辅助组件。
5、优选的,所述辅助组件包括定位连接杆和斜板,且定位连接杆的右端设置有斜板。
6、在上料支架的右侧前后两端各设有一根定位连接杆,然后将斜坡状的斜板与定位连接杆的右端连接,连接完毕的斜板的底部与设备底部齐平,当设备放置在地面上,抬升板移动至最低点时,将所需上料的物料通过斜板向上推至移动支杆的顶端。
7、优选的,所述上料支架的内部顶壁左端设置有伸缩杆一,且伸缩杆一的底端设置有定位连接组件。
8、优选的,所述定位连接组件包括连接横板和安装套环,且连接横板的底端设置有安装套环。
9、优选的,所述安装套环的内部设置有伸缩杆二,且伸缩杆二的左端设置有推板。
10、控制伸缩杆二伸长,从而使推板向左移动,将物料推动至合适的加工位置,移动支杆抽出时推板对物料顶动限位,从而避免物料被向右带出滑动。
11、一种双轴环形抛光机,包括双轴环形抛光机主体,该双轴环形抛光机主体上安装有如上所述的一种上料机构。
12、与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:该装置便于对不同的物料抬升上料,有利于保障设备上料的安全性,该装置便于提高上料的便利性,有利于保障物料抬升的稳定性,该装置便于根据操作位置对物料限位推动,便于保障移动支杆抽出顺畅。
13、1、本实用新型将上料支架安装在双轴环形抛光机主体的右侧,双轴环形抛光机主体和上料支架的底部齐平,打开电机控制螺杆转动,从而带动滑块和抬升板下降至最低点,然后控制电动导轨带动移动支杆向右移动至最右端,将需要进行抛光打磨的物体放置在移动支杆的上方,放置完毕后,操作人员打开电机带动螺杆转动,从而带动抬升板上升,从而将物料抬升至与双轴环形抛光机主体的内部操作台齐平,然后控制电动导轨带动移动支杆向左移动,从而带动物料向左移动至内部操作台上方,然后控制抬升板下降,从而使物料被放置在操作台上,然后控制电动导轨带动移动支杆向右移动抽出,该装置便于对不同的物料抬升上料,有利于保障设备上料的安全性。
14、2、本实用新型将物料抬升完毕后,物料被放置在内部操作台的上方,然后控制伸缩杆一伸长,从而使推板下降至对应物料右端的高度,然后控制伸缩杆二伸长,从而使推板向左移动,将物料推动至合适的加工位置,移动支杆抽出时推板对物料顶动限位,从而避免物料被向右带出滑动,该装置便于根据操作位置对物料限位推动,便于保障移动支杆抽出顺畅。
1.一种上料机构,其特征在于:所述上料机构包括上料支架(2)和抬升组件(5),所述上料支架(2)的内部前后两壁顶端均设置有电机(3),且上料支架(2)的内部前后两壁底端均设置有螺杆(4),所述抬升组件(5)设置于螺杆(4)靠近上料支架(2)中轴线的一侧,且抬升组件(5)包括滑块(501)和抬升板(502),所述滑块(501)的内侧设置有抬升板(502),所述抬升板(502)的顶端内部前后两侧均设置有电动导轨(6),且电动导轨(6)的顶端设置有支撑移动组件(7)。
2.根据权利要求1所述的一种上料机构,其特征在于:所述支撑移动组件(7)包括移动支杆(701)和防滑垫块(702),且移动支杆(701)的顶端左右两侧均嵌有防滑垫块(702)。
3.根据权利要求1所述的一种上料机构,其特征在于:所述上料支架(2)的左端底部设置有限位侧板(8),且上料支架(2)的右端底部设置有辅助组件(9)。
4.根据权利要求3所述的一种上料机构,其特征在于:所述辅助组件(9)包括定位连接杆(901)和斜板(902),且定位连接杆(901)的右端设置有斜板(902)。
5.根据权利要求1所述的一种上料机构,其特征在于:所述上料支架(2)的内部顶壁左端设置有伸缩杆一(10),且伸缩杆一(10)的底端设置有定位连接组件(11)。
6.根据权利要求5所述的一种上料机构,其特征在于:所述定位连接组件(11)包括连接横板(1101)和安装套环(1102),且连接横板(1101)的底端设置有安装套环(1102)。
7.根据权利要求6所述的一种上料机构,其特征在于:所述安装套环(1102)的内部设置有伸缩杆二(12),且伸缩杆二(12)的左端设置有推板(13)。
8.一种双轴环形抛光机,包括双轴环形抛光机主体(1),其特征在于,所述双轴环形抛光机主体(1)上安装有如权利要求1-7任一所述的一种上料机构。