一种磁控溅射靶材隔离装置及机构的制作方法

文档序号:36749274发布日期:2024-01-23 10:33阅读:15来源:国知局
一种磁控溅射靶材隔离装置及机构的制作方法

本技术涉及薄膜制备,更具体的说,本技术涉及一种磁控溅射靶材隔离装置及机构。


背景技术:

1、导电金属薄膜是一类具有多种良好性能的材料,现已广泛应用于电池中作为正极集流体或者负极集流体。

2、在现有的磁控溅射镀膜中,通常是在冷却主辊的外周周向设置若干个靶材,便于靶材上的金属原子均匀的溅射在基膜上,形成金属薄膜,而为了实现同时镀上不同功能的薄膜,需要使每个靶材的耗材不同,从而形成不同的金属层。

3、但不同耗材的靶材,在溅射时,不同的靶材之间会互相污染,导致影响镀膜效果。因此,需要一种隔离方案,以避免不同靶材间的相互污染。


技术实现思路

1、为了克服现有技术的不足,本实用新型提供了一种磁控溅射靶材隔离装置及机构。

2、本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:一种磁控溅射靶材隔离装置,其改进之处在于:包括固定安装于磁控溅射模块上的两个安装座、安装架和至少一个隔离板,两个安装座分设于冷却主辊的上方和下方,安装架的两端插接安装于两个安装座上,隔离板间隔安装于安装架上,用于对各个靶材进行隔离。

3、在上述结构中,所述的安装座上设有安装槽,安装架的两端设有相应于安装槽的插接块,安装架的两端通过插接块与安装槽的配合,插接安装于两个安装座上。

4、在上述结构中,所述的安装架包括外半环和内半环,外半环和内半环的圆心,与冷却主辊的圆心,在同一轴线上;

5、外半环和内半环的两端插接安装于两个安装座上;

6、所述的隔离板间隔安装于外半环和内半环上。

7、在上述结构中,所述的外半环和内半环设有两组,一组外半环和内半环安装于磁控模块的前侧,另一组外半环和内半环安装于磁控模块的后侧;

8、安装座与外半环和内半环相应,磁控模块的前侧的外半环和内半环的两端插接安装于磁控模块的前侧的上下两个安装座上;磁控模块的后侧的外半环和内半环的两端插接安装于磁控模块的后侧的上下两个安装座上;

9、隔离板的前端安装于前侧的外半环和内半环上,隔离板的后端安装于后侧的外半环和内半环上。

10、在上述结构中,所述的外半环和内半环中的至少一个上,间隔安装有限位块,限位块上设有插槽,所述的隔离板插接于插槽内。

11、在上述结构中,所述的限位块,安装于外半环和内半环上。

12、在上述结构中,所述的隔离板上设有限位板,用于限制隔离板插接于插槽内的长度。

13、在上述结构中,所述的限位块上设有两个插槽,两个插槽均插接安装有隔离板。

14、在上述结构中,所述的两个插槽中的隔离板的远冷却主辊端,均向相向的靶材方向弯曲延伸,形成挡板,使挡板形成对相向的靶材溅射的遮挡。

15、本实用新型还提供了一种磁控溅射靶材隔离机构,包括两个左右对称的所述的磁控溅射靶材隔离装置。

16、本实用新型的有益效果是:通过间隔安装的隔离板,对沿冷却主辊周向设置的各个靶材进行隔离,使不同靶材之间至少有一个隔离板,实现了对每个靶材进行隔离,有效的防止不同耗材的靶材之间的互相污染;并且隔离板通过插接安装,便于对隔离板进行更换并清洁;并且隔离板沿冷却主辊的外周周向设置,可以更好地隔离沿冷却主辊周向设置的各个靶材。



技术特征:

1.一种磁控溅射靶材隔离装置,其特征在于:包括固定安装于磁控溅射模块上的两个安装座、安装架和至少一个隔离板,两个安装座分设于冷却主辊的上方和下方,安装架的两端插接安装于两个安装座上,隔离板间隔安装于安装架上,用于对各个靶材进行隔离。

2.如权利要求1所述的一种磁控溅射靶材隔离装置,其特征在于:所述的安装座上设有安装槽,安装架的两端设有相应于安装槽的插接块,安装架的两端通过插接块与安装槽的配合,插接安装于两个安装座上。

3.如权利要求1所述的一种磁控溅射靶材隔离装置,其特征在于:所述的安装架包括外半环和内半环,外半环和内半环的圆心,与冷却主辊的圆心,在同一轴线上;

4.如权利要求3所述的一种磁控溅射靶材隔离装置,其特征在于:所述的外半环和内半环设有两组,一组外半环和内半环安装于磁控溅射模块的前侧,另一组外半环和内半环安装于磁控溅射模块的后侧;

5.如权利要求3或4所述的一种磁控溅射靶材隔离装置,其特征在于:所述的外半环和内半环中的至少一个上,间隔安装有限位块,限位块上设有插槽,所述的隔离板插接于插槽内。

6.如权利要求5所述的一种磁控溅射靶材隔离装置,其特征在于:所述的限位块,安装于外半环和内半环上。

7.如权利要求5或6所述的一种磁控溅射靶材隔离装置,其特征在于:所述的隔离板上设有限位板,用于限制隔离板插接于插槽内的长度。

8.如权利要求5或6所述的一种磁控溅射靶材隔离装置,其特征在于:所述的限位块上设有两个插槽,两个插槽均插接安装有隔离板。

9.如权利要求8所述的一种磁控溅射靶材隔离装置,其特征在于:所述的两个插槽中的隔离板的远冷却主辊端,均向相向的靶材方向弯曲延伸,形成挡板,使挡板形成对相向的靶材溅射的遮挡。

10.一种磁控溅射靶材隔离机构,其特征在于:包括两个左右对称的如权利要求1-9中任一权利要求所述的磁控溅射靶材隔离装置。


技术总结
本技术提供了一种磁控溅射靶材隔离装置及机构,涉及薄膜制备技术领域,包括固定安装于磁控溅射模块上的两个安装座、安装架和至少一个隔离板,两个安装座分设于冷却主辊的上方和下方,安装架的两端插接安装于两个安装座上,隔离板间隔安装于安装架上,用于对各个靶材进行隔离,通过间隔安装的隔离板,对沿冷却主辊周向设置的各个靶材进行隔离,使不同靶材之间至少有一个隔离板,实现了对每个靶材进行隔离,有效的防止不同耗材的靶材之间的互相污染。

技术研发人员:臧世伟
受保护的技术使用者:深圳金美新材料科技有限公司
技术研发日:20230816
技术公布日:2024/1/22
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