专利名称：一种浸液式抛光机的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种对物件表面粗糙度进行光整处理的设备，特别是一种液浸式抛光机。
目前应用的抛光机，是采用以管路将研磨抛光液输送到被抛光物件表面或者抛光轮上的管式输液结构，同时，抛光加工工位呈敞开式。由于设备本身缺陷所致，造成研磨液在抛光加工工位尤其是抛光面的液量少、滞流时间短，从而导致抛光处理效率低、效果差，又由于抛光处理时间长、甚至使被抛光加工的金属物件表层材料疲劳等问题出现。另外，由于抛光加工工位敞开暴露、形成公害。
本实用新型的目的在于克服上述现有技术中之严重缺陷，向社会提供一种以半封闭的箱体涵装抛光加工工位，抛光轮对被抛光加工物件在浸液状态下实施抛光加工的液浸式抛光机。
本实用新型的任务是按照下述的技术方案完成的这种液浸式抛光机，是由液槽、主轴、抛光轮、波轮、马达及链条为其主要部件所组成，该机构思独特之处是设置的液槽为一个带有能开关的活门并可充放研磨抛光液的半封闭的箱体，抛光轮居间、波轮分设其两侧并与之同心配置于主轴之上，整体涵装于箱体内。
液轮直径小于抛光轮20—50mm，其相对于抛光轮之轮面，可制成平面，平面上带放射状凸条或沟槽以抑制箱体内的研磨抛光液呈紊流，产生层流和朝向抛光面的冲击液流。
液槽为半封闭的箱体，其外接进液管、出液管、并同外置的液泵、液罐连通成一体机。
在出液管与液罐相接处，可附设过滤器，用以净化研磨抛光液，得以降低耗量。
本实用新型的
图1是液浸式抛光机整机结构图；图2液槽部分结构图；图中箱体[1]、活门[2]、主轴[3]、抛光轮[4]、波轮[5]、链条[6]、马达[7]。进液管[8]、液泵[9]、液罐[10]、出液管[11]、过滤器[12]、被抛光物件[13]。
将本实用新型结合附图对实施例作进一步说明。
本实用新型之液浸式抛光机，如图1和2所示这种液浸式抛光机的抛光加工工位是将抛光轮[4]居间摆布，波轮[5]可以是两片以上呈偶数多片等量分设于抛光机轮[4]两侧并与之同心配置于主轴[3]上；波轮[5]的直径要小于前者20—50mm。所述之整体涵装于箱体[1]内，箱体[1]的上部设有可开关的活门[2]。主轴[3]一端伸入箱体[1]，通过链条[6]与箱体[1]外置的马达[7]连体形成驱动机构。
被抛光物件[13]由活门[2]放入箱体[1]，抛光加工工位连同抛光轮[4]、波轮[5]均浸进研磨抛光液中，当马达[7]运转经链条[6]拖动主轴[3]旋转时，抛光轮[4]挟带研磨抛光液对被抛光物件[13]实施抛光加工处理，此时波轮[5]随动，产生流向抛光面的冲击液流，达到强化研磨抛光效果，液体波动浸润，也减缓了抛光物件表面因摩擦所导致的温升。
该机还可以在箱体[1]上外接进液管[8]和出液管[11]，并与贮存研磨抛光液的液罐[10]及输向液槽的液泵[9]连通成一体机。当箱体[1]内的研磨抛光液经使用一段时间后脏化时，可开启出液管[11]并通过附设的过滤器[12]过滤净化后注入液罐[10]，再启动液泵[9]经进液管[8]向液槽补充研磨抛光液至工艺要求液位而止，从而减低研磨抛光液的耗量，降低加工成本。
本实用新型之液浸式抛光机与现有技术相比较由于加工工位中波轮的设置，以及抛光轮对被抛光物件是在浸液状态液流冲击下实施抛光加工的创新结构所致，所以抛光效率高、效果好，被抛光物件的表面粗糙度可达到0.03—0.01，而且抛光处理时间大为缩短，杜绝了金属物件表层材料疲劳等问题产生。又由于整个加工工位都涵装在半封闭的箱体中，有效地防止了污染，操作者的健康得到保护。该机具有显著优越之处。
权利要求1.一种液浸式抛光机，是由液槽、主轴、抛光轮、波轮、马达及链条之主要部件所组成的，其特征在于所说的液槽是一个半封闭的箱体，抛光轮居间、波轮分设其两侧并同心配置于主轴上，涵装在箱体内。
2.按照权利要求1所述之液浸式抛光机，其特征在于所说的液槽经外接之进液管、出液管而与外置的液泵、液罐连通成一体机。
专利摘要本实用新型涉及一种对物体表面粗糙度进行光整处理的设备，特别是一种液浸式抛光机。该机独特构思之处在于采用抛光轮居间摆布、波轮分设其两侧并同心配置于主轴之上，整体涵装在一个带有可开关的活门的半封闭箱体中之结构。抛光轮对被抛光物件的抛光加工位于液浸状态下进行，另外，还可附加外接进、出液管与外置之液泵、液罐连通成一体，用以净化研磨抛光液。整个装置构成一体机。
文档编号B24B29/00GK2222585SQ9521059
公开日1996年3月20日 申请日期1995年5月18日 优先权日1995年5月18日
发明者翟羽倬, 赵学通 申请人:翟羽倬