钕铁硼薄片的热处理方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及稀±材料的热处理领域，尤其是涉及钦铁测薄片的热处理方法。
【背景技术】
[0002] 钦铁测合金的微观组织是制备高性能磁体的关键技术之一。速凝工艺制备的速凝 薄片，虽然具有精细的微结构，但厚度为0. 15mm-0. 45mm，均匀性较差，其中的主相成分多少 还是有点偏析。在贴親面处，有时会由于德注时的快速冷却，产生急冷层，形成一层细晶粒 区，平均晶粒尺寸< 1 y m，制粉中不易被破碎，W多晶体的形式存在，影响W后的磁场取向， 从而对磁性能造成影响。
【发明内容】
[0003] 为了克服上述现有技术存在的问题，为了进一步研究速凝薄片对烧结钦铁测的磁 性能的影响，改善速凝薄片的相组织，消除铸片组织的不均匀，本发明对速凝薄片进行了等 温热处理，研究了等温热处理的方法对其组织的影响，然后采用热处理之后的速凝薄片制 作烧结钦铁测永磁体，从而提高了烧结钦铁测永磁体的磁性能。
[0004] 根据本发明的一方面，本发明提供了一种钦铁测薄片的热处理方法，所述热处理 方法包括如下步骤；（1)在15Kg真空烙炼炉中将高温钦铁测合金烙液通过冷却親快速甩成 速凝薄片；（2)在真空烙炼炉中，氮气气氛下，速凝薄片散落在水冷盘上缓冷，水冷盘的进 水温度为8C~29C，并同时风冷，冷却时间为30min，速凝薄片温度降到5(TC W下出炉；取 出后，将速凝薄片装入带盖铁盒，放入真空实验烧结炉；（3)对速凝薄片在真空环境下在温 度为70(TC~lOOOC进行等温热处理；（4)经氨化、气流磨制成VMD为5 y m~8 y m的微粉 后，用压机垂直压制成块逐状，取向磁场为1. 2T~2. OT 及（5)经烧结、缓冷，制成钦铁测 磁体毛逐，其中，烧结工艺为；a〇4(TC~1064°C)*化，时效工艺为；93(TC *2.化+ (480°C~ 515°C)巧.5h。
[0005] 优选地，所述钦铁测合金为按质量分数配比（Nd，Pr)x (皿）yFej(余MzBi.。。的合金， 皿为 Gd、Tb、Dy 或 Ho, M 为 A1、Co、Cu、Ga 或化，x=27 ~32, y=0-5, z=0-5。
[0006] 优选地，步骤（1)中的高温钦铁测合金烙液的温度为142(TC~146(TC。
[0007] 优选地，步骤（1)中的冷却親的转速为1~2m/s，冷却親中的进水水温为8C~ 29 V
[0008] 优选地，步骤（1)中的速凝薄片的厚度为0. 20~0. 30mm。
[0009] 优选地，步骤（2)中的带盖铁盒底部铺一层干净纯铁片膜异防止铁盒底部的杂质 进入速凝薄片中，污染样品；上面覆铁膜是为了防止抽真空时薄片中细小的粉末被抽走； 放入薄片后上覆一层干净铁膜再盖紧。
[0010] 优选地，步骤（3)中的等温热处理的升温速度为8C /min,等温时间为化。
[0011] 采用本发明的钦铁测速凝薄片等温热处理技术后，不仅可W解决急冷所造成的 微晶区晶粒过小的问题，使急冷层的晶粒有了明显的长大，温度越高晶粒越大，可长大至 20 y m左右。而且其微观组织形貌发生了显著的变化，主要表现为随等温温度的升高，薄片 状的主相和沿晶界分布的富钦相融合长大，使柱状晶变为等轴晶，该样在后续的气流磨工 艺中使磁粉的表面应力能比未处理的大为减少，从而提高了粉末的抗氧性，同时提高了磁 体的取向度。热处理后的速凝薄片表面为光亮的银色，被氧化而产生的蓝色、黄色等颜色消 失。随着热处理温度的提高，主相和富钦相更加接近合理的配比，因此引起烧结磁体的化 的提高，磁能积也有了明显的提高。经热处理后的磁体剩磁化提高约0. 02 - 0. 3KGS，磁能 积（BH) max 提高约 0. 2-2MGOe。
【具体实施方式】
[0012] W下将结合实施例对本发明做进一步说明，本发明的实施例仅用于说明本发明的 技术方案，并非限定本发明。
[001引 实施例1
[001 4] 風气气巧下，在15kg真全烙炼炉中将按Nd21.44Pr6.9Cl化。.。3〇72.95化。.mGcI。.。2化65.97八1〇. 2并〇1.。1化。.isGa。. 2井。.W质量分数配比的合金烙液德注到冷却親上甩成速凝薄片，速凝薄片的 厚度约为0. 30mm，冷却親的进水温度为17°C，冷却親的转速为1. 24m/s，速凝薄片的冷却方 式为水冷盘冷却加风冷，冷却时间为30min，速凝薄片温度降到5(TCW下即可出炉。将速凝 薄片装入底面铺有干净铁膜的带盖铁盒内，上覆干净铁膜盖紧，装入真空实验烧结炉中，在 真空环境下进行等温热处理。等温热处理的升温速度为8C /min,热处理工艺为；75(TC *6h 气浑，氮气气氛下缓冷至55°C W下即可出炉。经氨化、气流磨制成VMD为7. 18 y m的微粉， 垂直压制成63. 9*36. 3*29. 2mm的块逐，取向磁场为1. 87T。经烧结、时效，制成钦铁测磁体 毛逐，其中，烧结工艺为；l〇64°C *6h，时效工艺为；93(TC *2.化+485C巧.5h。六面磨光处 理后，测量其测性能。经热处理后的磁体剩磁化提高约0. 02~0. 04KGS，磁能积（BH) max 提高约 0. 33 ~0. 54MG0e。
[001引 实施例2
[0016] 氮气气氛下，在15kg真空烙炼炉中将按刷21.42口与.84化。.。3〇73.。1化。.。16屯.。2化66.。8八1〇. 2击0。. 99化。.isGa。. 2iBi.。。质量分数配比的合金烙液德注到冷却親上甩成速凝薄片，速凝薄片的 厚度约为0. 25mm，冷却親的进水温度为14°C，冷却親的转速为1. 37m/s，速凝薄片的冷却方 式为水冷盘冷却加风冷，冷却时间为30min，速凝薄片温度降到5(TCW下即可出炉。将速凝 薄片装入底面铺有干净铁膜的带盖铁盒内，上覆干净铁膜盖紧，装入真空实验烧结炉中，在 真空环境下进行等温热处理。等温热处理的升温速度为8C /min,热处理工艺为；75(TC *6h 气浑，氮气气氛下缓冷至55°C W下即可出炉。经氨化、气流磨制成VMD为5. 51 y m的微粉， 垂直压制成59. 4*37. 3*47. 6mm的块逐，取向磁场为1. 83T。经烧结、时效，制成钦铁测磁体 毛逐，其中，烧结工艺为；l〇48°C *6h，时效工艺