一种带有抽气系统的pecvd工艺设备腔室的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及PECVD技术领域，尤其涉及一种带有抽气系统的PECVD工艺设备腔室。
【背景技术】
[0002]PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposit1n)即等离子体增强化学气相沉积，它是借助微波或射频使含有薄膜组成原子的气体发生电离，在局部形成等离子体，借助等离子体活泼易反应的化学特性，在基片上沉积出所期望的薄膜。该技术被广泛应用于晶体硅太阳能电池的生产中。
[0003]晶体硅太阳能电池的主要生产流程为制绒、扩散、湿法刻蚀、减反射膜的沉积、丝网印刷和烧结等工序，PECVD工艺正是应用在减反射膜的沉积工序上。
[0004]太阳能行业所用的PECVD —般分为管式和链式两种，链式PECVD采用真空腔室作为反应室，因此在工艺过程中需要用真空栗不停地对设备腔室进行抽真空。
[0005]但是，由于PECVD工艺过程中会有氮化硅产生，真空栗会将氮化硅抽到栗体内，而氮化硅长时间在栗体内沉积会造成真空栗的卡死，从而导致工艺的被迫中断，给减反射膜沉积工序带来麻烦，甚至影响整个生产线的生产效率。
【实用新型内容】
[0006]本实用新型要解决的技术问题是:针对上述现有技术的不足，提供一种带有抽气系统的PECVD工艺设备腔室，该装置在抽气管道上设置有过滤器，能够对各种渣粒粉尘进行充分拦截，保护真空栗免受伤害，从而防止真空栗卡死，延长了真空栗的使用寿命，并保证了减反射膜沉积工序的正常运行，提高了生产效率。
[0007]为解决上述技术问题，本实用新型所采取的技术方案是:
[0008]一种带有抽气系统的PECVD工艺设备腔室，其包括真空栗和设备腔室，真空栗和设备腔室通过抽气管道连接，抽气管道上设有过滤器，过滤器将抽气管道分为两段，与设备腔室连接的一段为第一抽气管道，与真空栗连接的一段为第二抽气管道。
[0009]具体地，过滤器与抽气管道通过法兰连接，过滤器与抽气管道之间设有密封圈，过滤器的两端设有拦网，过滤器内装有吸附剂，吸附剂可以采用活性炭；拦网不仅起到约束吸附剂的作用，还能拦截第一抽气管道处的较大颗粒；法兰连接方式不仅紧密，而且易于拆卸，可以在必要的时候对过滤器进行更换，非常方便。
[0010]具体地，第一抽气管道上靠近过滤器的位置处设有清理开口，清理开口上设有密封盖，密封盖和清理开口可以采用螺纹连接方式连接，从而便于装卸，这样能够随时对过滤器前积攒的残渣进行清理。
[0011]采用上述技术方案所产生的有益效果在于:本实用新型在抽气管道上设置有过滤器，能够对各种渣粒粉尘进行充分拦截，保护真空栗免受伤害，从而防止真空栗卡死，延长了真空栗的使用寿命，并保证了减反射膜沉积工序的正常运行，提高了生产效率。本实用新型与现有技术相比，其在结构上的改动不大，但设计合理，使用效果良好，非常实用。
【附图说明】
[0012]图1是本实用新型的结构示意图；
[0013]图2是图1中过滤器的结构示意图。
[0014]图中:1、设备腔室；2、真空栗；31、第一抽气管道；310、清理开口 ；32、第二抽气管道；4、过滤器；41、连接法兰；42、密封圈；43、拦网；44、吸附剂。
【具体实施方式】
[0015]下面结合附图和【具体实施方式】对本实用新型作进一步详细的说明。
[0016]如图1和2所示，一种带有抽气系统的PECVD工艺设备腔室，其包括真空栗2和设备腔室I，真空栗2和设备腔室I通过抽气管道连接，抽气管道上设有过滤器4，过滤器4将抽气管道分为两段，与设备腔室I连接的一段为第一抽气管道31，与真空栗2连接的一段为第二抽气管道32 ;过滤器4与抽气管道通过法兰连接，过滤器4与抽气管道之间设有密封圈42，过滤器4的两端设有拦网43，过滤器4内装有吸附剂44，吸附剂44可以采用活性炭；第一抽气管道31上靠近过滤器4的位置处设有清理开口 310，清理开口 310上设有密封盖，密封盖和清理开口 310可以采用螺纹连接方式连接。
[0017]使用时只要开动真空栗2即可对设备腔室I进行抽真空，从而使设备腔室I维持必要的工作条件，设备腔室I中的各种渣粒随气流向真空栗2方向流动；在第一抽气管道31与过滤器4的连接处，较大地渣粒被拦网43拦截，滞留在清理开口 310处，较小的渣粒进入过滤器4，被吸附剂44吸附，最终进入第二抽气管道32的气体其含尘量已极大降低，大大减少了对真空栗2的伤害；当本装置运行一段时间后，第一抽气管道31内将沉积较多渣粒，此时可以打开密封盖，通过清理开口 310对第一抽气管道31内的渣粒进行清理。
[0018]本实用新型在抽气管道上设置有过滤器，能够对各种渣粒粉尘进行充分拦截，保护真空栗免受伤害，从而防止真空栗卡死，延长了真空栗的使用寿命，并保证了减反射膜沉积工序的正常运行，提高了生产效率。本实用新型与现有技术相比，其在结构上的改动不大，但设计合理，使用效果良好，非常实用。
[0019]需要指出的是，以上【具体实施方式】只是本专利实现方案的具体个例，没有也不可能覆盖本专利的所有实现方式，因此不能视作对本专利保护范围的限定；凡是与以上案例属于相同构思的实现方案，均在本专利的保护范围之内。
【主权项】
1.一种带有抽气系统的PECVD工艺设备腔室，其包括真空栗(2)和设备腔室(I )，真空栗(2 )和设备腔室(I)通过抽气管道连接，其特征在于:抽气管道上设有过滤器(4)，过滤器(4)将抽气管道分为两段，与设备腔室(I)连接的一段为第一抽气管道(31)，与真空栗(2)连接的一段为第二抽气管道(32 )。2.根据权利要求1所述的带有抽气系统的PECVD工艺设备腔室，其特征在于:所述过滤器(4)与抽气管道通过法兰连接，过滤器(4)与抽气管道之间设有密封圈(42)，过滤器(4)的两端设有拦网(43)，过滤器(4)内装有吸附剂(44)。3.根据权利要求2所述的带有抽气系统的PECVD工艺设备腔室，其特征在于:所述吸附剂(44)为活性炭。4.根据权利要求1所述的带有抽气系统的PECVD工艺设备腔室，其特征在于:所述第一抽气管道(31)上靠近过滤器(4)的位置处设有清理开口(310)，清理开口(310)上设有密封盖。
【专利摘要】本实用新型公开了一种带有抽气系统的PECVD工艺设备腔室，涉及PECVD技术领域，其包括真空泵和设备腔室，真空泵和设备腔室通过抽气管道连接，抽气管道上设有过滤器，过滤器将抽气管道分为两段，与设备腔室连接的一段为第一抽气管道，与真空泵连接的一段为第二抽气管道。本装置通过过滤器对进入真空泵的气体进行过滤，能够对各种渣粒粉尘进行充分拦截，保护真空泵免受伤害，从而防止真空泵卡死，延长了真空泵的使用寿命，并保证了减反射膜沉积工序的正常运行，提高了生产效率。
【IPC分类】H01L31/18, C23C16/513, H01L31/0216
【公开号】CN204898067
【申请号】CN201520666090
【发明人】曹锦鹏, 杨川, 张自成
【申请人】英利能源（中国）有限公司
【公开日】2015年12月23日
【申请日】2015年8月31日