专利名称：一种在常温弱碱性条件下制备强还原性二氧化硫脲溶液的方法
技术领域：
本发明属于精细化工技术领域，具体为一种在常温弱碱性条件下制备强还原性二氧化硫脲溶液的方法。
背景技术：
二氧化硫脲(简称TD，分子式=CH4N2O2S)系硫脲含氧衍生物，由于硫原子的成键特点而具较大的反应活性，存在着以下两种同分异构体。
权利要求
1.一种在常温弱碱性条件下制备强还原性二氧化硫脲溶液的方法，其特征在于包括以下步骤 第一步先将二氧化硫脲加入水中配制二氧化硫脲溶液； 第二步将碘代烷、胺类、腐植酸钠加入到第一步配制的二氧化硫脲溶液中； 第三步将第二步的混合溶液经搅拌后，置于超声波振荡器中进行催化反应后，获得强还原性的二氧化硫脲溶液。
2.根据权利要求I所述的制备强还原性二氧化硫脲溶液的方法，其特征在于所述第一步配制的二氧化硫脲溶液的质量百分比浓度为3 10%。
3.根据权利要求I所述的制备强还原性二氧化硫脲溶液的方法，其特征在于所述第二步中的碘代烷为CH3I或CH2I215
4.根据权利要求I所述的制备强还原性二氧化硫脲溶液的方法，其特征在于所述第二步中的胺类为氨水、甲胺或乙二胺。
5.根据权利要求I所述的制备强还原性二氧化硫脲溶液的方法，其特征在于所述第三步中的超声波振荡器输出功率为200 1000W，频率为20 40kHz。
6.根据权利要求1-5任一所述的制备强还原性二氧化硫脲溶液的方法，其特征在于所述第二步中的碘代烷添加量为二氧化硫脲质量的O. I 2%。
7.根据权利要求1-5任一所述的制备强还原性二氧化硫脲溶液的方法，其特征在于所述第二步中的胺类的添加量为二氧化硫脲质量的O. 2 3%。
8.根据权利要求1-5任一所述的制备强还原性二氧化硫脲溶液的方法，其特征在于所述第二步中的腐植酸钠的添加量为二氧化硫脲质量的O. I 1%。
9.根据权利要求1-5任一所述的制备强还原性二氧化硫脲溶液的方法，其特征在于所述第三步中的催化反应时间为5 15min。
10.根据权利要求1-5任一所述的制备强还原性二氧化硫脲溶液的方法，其特征在于所述第三步获得的二氧化硫脲溶液在常温弱碱性条件下的还原电位达至Ij -800mV -IOOOmV。
全文摘要
本发明公开一种在常温弱碱性条件下制备强还原性二氧化硫脲溶液的方法，先配制一定浓度的二氧化硫脲溶液，再分别加入一定量的碘代烷、胺类和腐植酸钠，后搅拌并将混合溶液置于超声波振荡器中催化反应一定时间，即得到在常温、弱碱性条件下还原电位达到-800mV～-1000mV的二氧化硫脲溶液，比未活化的二氧化硫脲溶液的还原电位高出300～700mV，达到了其在加热和强碱性条件下的还原电位值。可以摆脱目前二氧化硫脲需在加热和强碱性条件下才能获得强还原性的限制，极大的扩大二氧化硫脲的应用范围，降低其应用成本，因此具有广阔的市场空间。
文档编号C01B17/98GK102976286SQ20121052987
公开日2013年3月20日 申请日期2012年12月11日 优先权日2012年12月11日
发明者夏光华, 谭训彦, 赵晓东 申请人:景德镇陶瓷学院