1.一种蓝宝石复合基材，包括：
无机玻璃基板；
所述无机玻璃基板上的聚乙烯醇缩丁醛或二氧化硅的中间膜；以及
所述中间膜上的单晶蓝宝石膜。
2.根据权利要求1所述的蓝宝石复合基材，其中，所述二氧化硅的中间膜是使全氢聚硅氮烷进行二氧化硅转化而成的膜。
3.根据权利要求1或2所述的蓝宝石复合基材，其中，所述单晶蓝宝石膜具有0.05μm～2μm的厚度。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的蓝宝石复合基材，其中，所述无机玻璃基板选自由在20℃～400℃下具有5×10-6/℃以上且1×10-5/℃以下的膨胀率的钠钙玻璃、硼硅酸盐玻璃、以及化学强化玻璃所组成的群组。
5.一种蓝宝石复合基材的制造方法，其至少包括：
从单晶蓝宝石基板的表面注入氢离子，在所述单晶蓝宝石基板的内部形成离子注入层的工序；
对选自由所述单晶蓝宝石基板的进行离子注入前的所述表面、所述单晶蓝宝石基板的进行了离子注入的表面以及要与所述单晶蓝宝石基板进行贴合的无机玻璃基板的表面所组成的群组中的至少一个表面，涂布包含聚乙烯醇缩丁醛或二氧化硅前驱体的溶液之后进行加热，形成聚乙烯醇缩丁醛或二氧化硅的中间膜的工序；
经由所述中间膜，贴合所述单晶蓝宝石基板的进行了离子注入的表面、与要跟所述单晶蓝宝石基板进行贴合的无机玻璃基板的表面而获得接合体的工序；以及
将所述接合体沿所述离子注入层予以剥离，并经由所述中间膜将单晶蓝宝石膜转印至所述无机玻璃基板上的工序。
6.根据权利要求5所述的蓝宝石复合基材的制造方法，其中，所述二氧化硅前驱体是全氢聚硅氮烷。
7.根据权利要求5或6中任一项所述的蓝宝石复合基材的制造方法，其中，所述氢离子为氢分子离子，所述氢分子离子的注入量为1.0×1016atoms/cm2以上且2.5×1017atoms/cm2以下。
8.根据权利要求5至7中任一项所述的蓝宝石复合基材的制造方法，其中，在所述进行转印的工序中，所述剥离是面向所述离子注入层，通过机械冲击、光照射和/或加热来进行。
9.根据权利要求5至8中任一项所述的蓝宝石复合基材的制造方法，其中，所述单晶蓝宝石膜具有0.05μm～2μm的厚度。
10.根据权利要求5至9中任一项所述的蓝宝石复合基材的制造方法，其中，所述无玻璃基板选自由在20℃～400℃下具有5×10-6/℃以上且1×10-5/℃以下的膨胀率的钠钙玻璃、硼硅酸盐玻璃、以及化学强化玻璃所组成的群组。