一种硅胶改质设备的制作方法

本实用新型涉及硅胶加工设备技术领域，尤指一种能一次性实现硅胶清洁干燥改质的硅胶改质设备。

背景技术：

硅胶（Silicon dioxide）别名硅橡胶，是一种高活性吸附材料，属非晶态物质，不溶于水和任何溶剂，无毒无味，化学性质稳定，除强碱、氢氟酸外不与任何物质发生反应，硅胶的化学组份和物理结构，决定了它具有许多其他同类材料难以取代的特点：吸附性能高、热稳定性好、化学性质稳定、有较高的机械强度等，所以被广泛应用于各种产品；然而硅胶生产出来后，为了增强其物理化学性能，以及改善手感等，要对硅胶进行改质后处理，传统的后处理工艺为人工表面清洁—人工喷涂手感漆—人工传送至烤箱烘烤，这样的后处理工艺中涉及手感漆的大量使用造成车间及外排环保问题，不仅对环境造成危害，同时也容易导致作业人员有机溶剂中毒，另外手感漆喷涂于硅胶基材表面容易与人体肌肤接触造成过敏或带来人体伤害，同时硅胶经喷涂制程后会环测后会有脱落情况以及摩擦后会有基材见底的现象造成消费者对产品品质的质疑。

技术实现要素：

为了克服上述问题，本实用新型旨在提供一种硅胶改质设备，尤指一种能一次性实现硅胶清洁干燥改质并且能避免使用手感漆的硅胶改质设备。

本实用新型采用的技术方案是：一种硅胶改质设备，所述的设备主要包括机架、传送装置和反应炉，所述的传送装置安装在机架上，反应炉安装在传送装置上方，所述的反应炉为腔体式结构，左侧设置有进料口，右侧设置有出料口，反应炉内部的上表面和左右侧面均安装有UV光照射光管和臭氧发生器，传送装置可将硅胶从进料口传送到反应炉内部进行反应后再从出料口传出。

所述的传送装置主要包括主动滚轴、从动滚轴和传送皮带，传送皮带左端套设在主动滚轴上，右端套设在从动滚轴上，形成一个闭合环形结构，传送皮带从机架左侧通过反应炉后传送到机架右侧。

所述的主动滚轴与电机电性相连。

所述的反应炉为方体形的腔体式结构。

所述的反应炉顶部设置有散热孔。

所述的反应炉外表面设置有控制面板，与传送装置、UV光照射光管和臭氧发生器电性相连。

所述的UV光照射光管和臭氧发生器能照射出UVC185nm+254nm波段。

本实用新型的有益效果是：本实用新型结构简单，易于实现，直接将硅胶材料放置在传送皮带上，启动传送装置即可将硅胶传送到反应炉里进行UVC185nm+254nm波段照射和臭氧反应等工艺，反应完毕后经冷却即可传送出改质后的硅胶；同时，本实用新型针对目前对硅胶加工的缺点进行改良，采用擦干式制程，不使用挥发性溶剂手感漆，直接经由UVC185nm+254nm波段照射于硅胶表面使其达到滑溜手感，作业者能避免因为挥发性溶剂的使用对身体带来的伤害，另外由于硅胶基材表层无加工喷涂层，不会造成类脱漆现象，使用者不会造成过敏的排斥反应，改质后的材质视感和触感都会变得更好，且无毒无害。

附图说明

图1是本实用新型的立体结构示意图。

图2是本实用新型的反应炉内部结构示意图。

附图标注说明：1-机架，2-传送装置，3-反应炉，31-UV光照射光管和臭氧发生器，32-散热孔，33-进料口，34-出料口，4-控制面板。

具体实施方式

以下结合说明书附图详细说明本实用新型的具体实施方式：

一种硅胶改质设备，所述的设备主要包括机架1、传送装置2和反应炉3，所述的传送装置2安装在机架1上，反应炉3安装在传送装置2上方，所述的传送装置2主要包括主动滚轴、从动滚轴和传送皮带，主动滚轴与电机电性相连，传送皮带左端套设在主动滚轴上，右端套设在从动滚轴上，形成一个闭合环形结构，传送皮带从机架1左侧通过反应炉3后传送到机架1右侧；所述的反应炉3为方体形的腔体式结构，顶部设置有散热孔32，左侧设置有进料口33，右侧设置有出料口34，反应炉3内部的上表面和左右侧面均安装有UV光照射光管和臭氧发生器31，传送装置2可将硅胶从进料口33传送到反应炉3内部进行反应后再从出料口34传出；所述的反应炉3外表面设置有控制面板4，与传送装置2、UV光照射光管和臭氧发生器31电性相连。

本实用新型的工作原理是，直接将硅胶材料放置在传送皮带上，通过控制面板4启动传送装置2即可将硅胶传送到反应炉3里进行UVC185nm+254nm波段照射和臭氧反应等工艺，反应完毕后经冷却即可传送出改质后的硅胶。采用本实用新型的工艺原理是，将硅胶表面的无机物去除，即除尘，然后将除尘后的硅胶放置在传送皮带上，启动传送装置2将硅胶从进料口33传送到反应炉3里，启动反应炉3里的UV光照射光管和臭氧发生器31，使得硅胶在反应炉3里在设定的温度下进行光敏照射作用和与臭氧充分反应，反应时间根据所需改质的效果设定，充分反应后硅胶表面滑溜且无菌，创造出来的手感效果不会因为使用后消失，本工艺原理主要是利用硅胶特性的原理，直接将光敏和臭氧作用在欲改变物质的表面，由于大多数的碳氢化合物对其有较强的吸收能力，在吸收光子能量后分解成离子、游离态原子、受激分子和中性分子，并产生出光敏作用，空气中的氧分子在吸收光子后产生强烈的吸收作用，物质表面上的碳和碳氢化合物的分解物化合成可挥发的气体，如二氧化碳、氧气和水蒸气等逸出表面，彻底清除了粘在物质表面上的碳和有机污染物，达到清洁的效果，增加了处理物质的亲水基，借此达到光滑不粘黏的表面接触层；本设备结构简单，工作原理易于实现，并针对目前对硅胶加工的缺点进行改良，采用擦干式制程，不使用挥发性溶剂手感漆，直接经由UVC185nm+254nm波段照射于硅胶表面使其达到滑溜手感，作业者能避免因为挥发性溶剂的使用对身体带来的伤害，另外由于硅胶基材表层无加工喷涂层，不会造成类脱漆现象，使用者不会造成过敏的排斥反应，改质后的材质视感和触感都会变得更好，且无毒无害。

以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例，并非对本实用新型的技术范围作任何限制，本行业的技术人员，在本技术方案的启迪下，可以做出一些变形与修改，凡是依据本实用新型的技术实质对以上的实施例所作的任何修改、等同变化与修饰，均仍属于本实用新型技术方案的范围内。