本发明属于低温无铅硼釉
技术领域：
，具体涉及一种改善低温无铅硼釉表面性状的方法。
背景技术：
：釉是覆盖在陶瓷坯体表面上的富有光泽度玻璃状薄层，其功能不仅具有装饰作用，而且能改善坯体表面的物理性能和化学性能，提高制品的硬度、增加其热稳定性，基于釉在陶瓷制品上的作用，釉料在陶瓷行业的重要性在不断突出和增强，直接影响陶瓷制品的品质和成本；传统的制釉技术需要在高温条件下烧成（-1350℃），烧成周期较长（14-16小时），进管能使所制备的釉层具有较强的力学性能和高的光泽度，但是技术条件苛刻、能耗居高不下，不符合节能环保的要求，如何降低釉层的烧制温度和制作周期，一直面临着挑战；在陶瓷工业中，氧化铅作为一种主要助熔剂在陶瓷釉料已经被使用了很长时间，由于含铅釉在生产和使用中都会给人带来一定的健康危害，人们一直寻求减少铅溶出的方法，随着人们对自身的生存环境和身体健康有了较高的认识，碱硼硅酸盐釉以其适用性强、成本低在无铅釉体系中显出先进性，但现在主要是集中在高温油和中温釉的研究，对低温无铅釉的研究设计不多，低温无铅釉的关键技术是利用多种氧化物取代氧化铅在釉中的使用量，而釉面形状的光泽度、白度和其外观效果是我们所要研究的方向。技术实现要素：本发明的目的是针对现有的问题，提供了一种改善低温无铅硼釉表面性状的方法。本发明是通过以下技术方案实现的：一种改善低温无铅硼釉表面性状的方法，所述坯料试透明釉烧制完成后的平均白度为38.4，所述釉料包括以下组分：三氧化二硼、三氧化二铝、氧化镁、氧化钠、氧化硼、氧化锌、氧化钙、六氯化钨、氧化锂、三氧化二钒，余量为二氧化硅；其中三氧化二硼的含量大于氧化钠、氧化硼、氧化锂、三氧化二钒的含量和；所述三氧化二硼的含量低于二氧化硅含量的二分之一；所述六氯化钨的含量低于三氧化二硼含量的二分之一；所述二氧化硅原料中粒径为60-80nm的二氧化硅占其总重量的16-25%；六氯化钨的粒径为20-30nm。作为对上述方案的进一步改进，所述坯料的化学组成为：二氧化硅65.96wt%、三氧化二铝25.32wt%、氧化钙0.73wt%、氧化镁0.45wt%、氧化钠1.47wt%、氧化钾1.86wt%、三氧化二铁4.13wt%、二氧化钛0.08wt%；坯料的细度为万孔筛余0.1-0.3%。作为对上述方案的进一步改进，所述釉料的化学组分为：三氧化二硼12.24-12.37wt%、三氧化二铝5.4-5.7wt%、氧化镁0.83-1.25wt%、氧化钠4.35-6.28wt%、氧化硼2.2-2.6wt%、氧化锌2.28-2.65wt%、氧化钙6.75-7.45wt%、六氯化钨4.73-6.08wt%、氧化锂3.14-3.28wt%、三氧化二钒0.02-0.06wt%，余量为二氧化硅。作为对上述方案的进一步改进，所述粒径为60-80nm的二氧化硅由sol-gel技术制取。作为对上述方案的进一步改进，所述六氯化钨中氯氧化物的杂质小于0.5wt%。作为对上述方案的进一步改进，所述施釉料的制备方法为：将除粒径为60-80nm的二氧化硅外的二氧化硅、三氧化二硼、三氧化二铝、氧化镁、氧化钠、氧化硼、氧化锌、氧化钙、氧化锂、三氧化二钒混合，在球磨机中球磨至粒径小于0.1mm后，加入粒径为60-80nm的二氧化硅和六氯化钨，在坩埚中升温至380-420℃，保温30-40分钟，完成后继续升温至820-880℃，保温40-60分钟，然后继续加热至1050-1150℃，保温20-30分钟后，以30-40℃快速降至常温，干燥后用球磨机球磨，完成后过325目筛余0.02-0.08%。作为对上述方案的进一步改进，所述烧成温度为760-880℃。本发明相比现有技术具有以下优点：本发明中方法通过合理配比釉料组分，能够有效降低烧结温度，且其表面光泽度和透明度都保持在较高水平，纳米二氧化硅以及六氯化钨和三氧化二钒的配合作用，能够使施釉料在熔融温度较低的条件下，还能使结合能和表面光洁度提高，表面无针孔缺陷，在低于900℃的温度烧成产品具有较好的光泽度和白度。具体实施方式实施例1一种改善低温无铅硼釉表面性状的方法，所述坯料试透明釉烧制完成后的平均白度为38.4，所述釉料的化学组分为：三氧化二硼12.29wt%、三氧化二铝5.55wt%、氧化镁1wt%、氧化钠5.26wt%、氧化硼2.4wt%、氧化锌2.43wt%、氧化钙7.13wt%、六氯化钨5.26wt%、氧化锂3.22wt%、三氧化二钒0.04wt%，余量为二氧化硅；所述二氧化硅原料中粒径为60-80nm的二氧化硅占其总重量的21%；六氯化钨的粒径为20-30nm。其中，所述坯料的化学组成为：二氧化硅65.96wt%、三氧化二铝25.32wt%、氧化钙0.73wt%、氧化镁0.45wt%、氧化钠1.47wt%、氧化钾1.86wt%、三氧化二铁4.13wt%、二氧化钛0.08wt%；坯料的细度为万孔筛余0.1-0.3%。其中，所述粒径为60-80nm的二氧化硅由sol-gel技术制取；所述六氯化钨中氯氧化物的杂质小于0.5wt%。其中，所述施釉料的制备方法为：将除粒径为60-80nm的二氧化硅外的二氧化硅、三氧化二硼、三氧化二铝、氧化镁、氧化钠、氧化硼、氧化锌、氧化钙、氧化锂、三氧化二钒混合，在球磨机中球磨至粒径小于0.1mm后，加入粒径为60-80nm的二氧化硅和六氯化钨，在坩埚中升温至400℃，保温35分钟，完成后继续升温至850℃，保温50分钟，然后继续加热至1100℃，保温25分钟后，以35℃快速降至常温，干燥后用球磨机球磨，完成后过325目筛余0.02-0.08%。其中，所述烧成温度为820℃。实施例2一种改善低温无铅硼釉表面性状的方法，所述坯料试透明釉烧制完成后的平均白度为38.4，所述釉料的化学组分为：三氧化二硼12.24wt%、三氧化二铝5.7wt%、氧化镁0.83wt%、氧化钠6.28wt%、氧化硼2.6wt%、氧化锌2.28wt%、氧化钙6.75wt%、六氯化钨6.08wt%、氧化锂3.14wt%、三氧化二钒0.02wt%，余量为二氧化硅；所述二氧化硅原料中粒径为60-80nm的二氧化硅占其总重量的16%；六氯化钨的粒径为20-30nm。其中，所述坯料的化学组成为：二氧化硅65.96wt%、三氧化二铝25.32wt%、氧化钙0.73wt%、氧化镁0.45wt%、氧化钠1.47wt%、氧化钾1.86wt%、三氧化二铁4.13wt%、二氧化钛0.08wt%；坯料的细度为万孔筛余0.1-0.3%。其中，所述粒径为60-80nm的二氧化硅由sol-gel技术制取；所述六氯化钨中氯氧化物的杂质小于0.5wt%。其中，所述施釉料的制备方法为：将除粒径为60-80nm的二氧化硅外的二氧化硅、三氧化二硼、三氧化二铝、氧化镁、氧化钠、氧化硼、氧化锌、氧化钙、氧化锂、三氧化二钒混合，在球磨机中球磨至粒径小于0.1mm后，加入粒径为60-80nm的二氧化硅和六氯化钨，在坩埚中升温至380℃，保温40分钟，完成后继续升温至820℃，保温60分钟，然后继续加热至1050℃，保温30分钟后，以40℃快速降至常温，干燥后用球磨机球磨，完成后过325目筛余0.02-0.08%。其中，所述烧成温度为760℃。实施例3一种改善低温无铅硼釉表面性状的方法，所述坯料试透明釉烧制完成后的平均白度为38.4，所述釉料的化学组分为：三氧化二硼12.37wt%、三氧化二铝5.4wt%、氧化镁1.25wt%、氧化钠4.35wt%、氧化硼2.2wt%、氧化锌2.65wt%、氧化钙7.45wt%、六氯化钨4.73wt%、氧化锂3.28wt%、三氧化二钒0.06wt%，余量为二氧化硅；所述二氧化硅原料中粒径为60-80nm的二氧化硅占其总重量的25%；六氯化钨的粒径为20-30nm。其中，所述坯料的化学组成为：二氧化硅65.96wt%、三氧化二铝25.32wt%、氧化钙0.73wt%、氧化镁0.45wt%、氧化钠1.47wt%、氧化钾1.86wt%、三氧化二铁4.13wt%、二氧化钛0.08wt%；坯料的细度为万孔筛余0.1-0.3%。其中，所述粒径为60-80nm的二氧化硅由sol-gel技术制取；所述六氯化钨中氯氧化物的杂质小于0.5wt%。其中，所述施釉料的制备方法为：将除粒径为60-80nm的二氧化硅外的二氧化硅、三氧化二硼、三氧化二铝、氧化镁、氧化钠、氧化硼、氧化锌、氧化钙、氧化锂、三氧化二钒混合，在球磨机中球磨至粒径小于0.1mm后，加入粒径为60-80nm的二氧化硅和六氯化钨，在坩埚中升温至420℃，保温30分钟，完成后继续升温至880℃，保温40-60分钟，然后继续加热至1150℃，保温20分钟后，以30℃快速降至常温，干燥后用球磨机球磨，完成后过325目筛余0.02-0.08%。其中，所述烧成温度为880℃。设置对照组1将实施例1中六氯化钨去掉，其余内容不变；设置对照组2，将实施例1中三氧化二钒去掉，其余内容不变；设置对照组3，将实施例1中粒径为60-80nm的二氧化硅替换为常规二氧化硅，其余内容不变；对各组釉面的光泽度、白度以及外观效果进行检测，得到以下结果：表1组别光泽度白度实施例198.482.3实施例298.782.5实施例398.582.3对照组189.270.8对照组282.742.7对照组386.448.5通过表1中数据可以看出，本发明中在烧结温度低于900℃的前提下，能够保证较高的光泽度和白度，适于推广。当前第1页12