一种耐高温低形变的陶瓷架的制作方法

文档序号:17086554发布日期:2019-03-13 22:54阅读:210来源:国知局
一种耐高温低形变的陶瓷架的制作方法

本发明涉及陶瓷制品的加工技术领域,尤其是涉及一种耐高温、低形变、不易断裂的网格状陶瓷架。



背景技术:

目前陶瓷制品应用较广的是陶瓷基片,为了提高产品性能,一般都研究将其制成超薄结构,以减轻产品重量,氧化铝陶瓷基片的配方一般采用99.9%纯度的氧化铝,经过原料配制、成型、烧结和磨加工等步骤,制成成品,但是传统的成型(流延和铸模)无法制成理想的厚度。

烧结是陶瓷制品生产过程中最关键的技术环节,一般的陶瓷制品多采用再窑炉中结合煅烧密切采用一次烧结工艺,但是这样存在一些问题,比如陶瓷找那个的增塑剂等不能顺利排出,一次烧结烧成合格率较低,因此选择合适的烧结工艺,对产品的成形和产品质量有着至关重要的影响。



技术实现要素:

针对现有技术存在的上述问题,本发明申请人提供了一种一种耐高温低形变的陶瓷架。本发明采用网状结构减轻产品重量,同时经过排蜡、低温烧结和高温烧结等处理步骤,最终制得产品具有耐高温、低形变、不易断裂的优势。

本发明的技术方案如下:

一种耐高温低形变的陶瓷架,所述陶瓷架设有网格,所述陶瓷架所含原料为氧化镁0.3%,二氧化硅0.15%,氧化铝99.5%,粘结剂0.05%。

所述陶瓷架为方形。

所述陶瓷架的两个对角位置设有锥形脚,相对应的另外两个对角位置设有与锥形脚匹配的凹槽。

所述陶瓷架平行的两边上分别设有一个缺口。

一种耐高温低形变的陶瓷架的制备方法,所述制备方法包括如下步骤:

(1)将0.3%氧化镁、0.2%二氧化硅、0.05%粘结剂和99.5%氧化铝混合,采用注浆成型工艺制成陶瓷架坯料;

(2)将步骤(1)制成的坯料置于排蜡专用填料中,于200-240℃的烤箱中烘烤排蜡,排蜡时间为8-10h,排蜡完毕后冷却至室温;

(3)将步骤(2)排蜡处理坯料置于终烧专用填料中,在烧炉中,于800-900℃下,烧结5-7h;

(4)将步骤(3)处理的坯料再置于1700-1750℃条件下高温烧结12h;

(5)最终对烧结的坯料进行清洗,抛光处理,制得所述耐高温低形变的陶瓷架。

所述排蜡专用填料为400目的氧化铝。

所述终烧专用填料为200目高纯氧化铝粉。

一种耐高温低形变的陶瓷架的应用,所述陶瓷架用于高温制品烧结的托盘。

所述陶瓷架可以多层罗列,相近的两个陶瓷架的锥形脚与另一个陶瓷架的凹槽匹配,达到两个陶瓷架的稳定叠加。

发明有益的技术效果在于:

本发明采用网格结构的设置减轻产品质量,通过排蜡、两段烧结的工艺,制得的产品具有耐高温、低形变且不易断裂;

本发明在陶瓷架的两个角上设有两个圆锥状的脚,在后期应用时,利于热量的传输和待处理产品的受热均匀。

本发明采用排蜡专用填料和终烧专用填料,最终产品表面光滑,产品纯度较高。

本发明申请陶瓷架上锥形脚和凹槽的设计,使陶瓷架罗列时相互之间配合,具有较好的稳定性,同时节省空间,在后期作为托盘对其他产品进行加工提高效率、提高能源利用率。

附图说明

图1为本发明示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例,对本发明进行具体描述。

实施例1

一种耐高温低形变的陶瓷架的制备方法,所述制备方法包括如下步骤:

(1)将0.3%氧化镁、0.2%二氧化硅、0.05%粘结剂和99.5%氧化铝混合,采用注浆成型工艺制成4×4的网格的方形陶瓷架坯料;所述陶瓷架的两个对角位置设有锥形脚;平行的两边上分别设有一个缺口;

(2)将步骤(1)制成的坯料置于为400目的氧化铝填料中,于200℃的烤箱中烘烤排蜡,排蜡时间为10h,排蜡完毕后冷却至室温;

(3)将步骤(2)排蜡处理坯料置于200目高纯氧化铝粉填料中,在烧炉中,于900℃下,烧结5h;

(4)将步骤(3)处理的坯料再置于1700℃条件下高温烧结12h;

(5)最终对烧结的坯料进行清洗,抛光处理,制得所述耐高温低形变的陶瓷架。最终产品形变率为17%。

实施例2

一种耐高温低形变的陶瓷架的制备方法,所述制备方法包括如下步骤:

(1)将0.3%氧化镁、0.2%二氧化硅、0.05%粘结剂和99.5%氧化铝混合,采用注浆成型工艺制成4×4的网格的方形陶瓷架坯料;所述陶瓷架的两个对角位置设有锥形脚;平行的两边上分别设有一个缺口;

(2)将步骤(1)制成的坯料置于为400目的氧化铝填料中,于240℃的烤箱中烘烤排蜡,排蜡时间为8h,排蜡完毕后冷却至室温;

(3)将步骤(2)排蜡处理坯料置于200目高纯氧化铝粉填料中,在烧炉中,于800℃下,烧结7h;

(4)将步骤(3)处理的坯料再置于1750℃条件下高温烧结12h;

(5)最终对烧结的坯料进行清洗,抛光处理,制得所述耐高温低形变的陶瓷架。最终产品形变率为17%。

实施例3

一种耐高温低形变的陶瓷架的制备方法,所述制备方法包括如下步骤:

(1)将0.3%氧化镁、0.2%二氧化硅、0.05%粘结剂和99.5%氧化铝混合,采用注浆成型工艺制成4×4的网格的方形陶瓷架坯料;所述陶瓷架的两个对角位置设有锥形脚;平行的两边上分别设有一个缺口;

(2)将步骤(1)制成的坯料置于为400目的氧化铝填料中,于220℃的烤箱中烘烤排蜡,排蜡时间为9h,排蜡完毕后冷却至室温;

(3)将步骤(2)排蜡处理坯料置于200目高纯氧化铝粉填料中,在烧炉中,于850℃下,烧结6h;

(4)将步骤(3)处理的坯料再置于1720℃条件下高温烧结12h;

(5)最终对烧结的坯料进行清洗,抛光处理,制得所述耐高温低形变的陶瓷架。最终产品形变率为16.5%。



技术特征:

技术总结
本发明公开了一种耐高温低形变的陶瓷架,所述陶瓷架设有网格,所述陶瓷架所含原料为氧化镁0.3%,二氧化硅0.15%,氧化铝99.5%,粘结剂0.05%;本发明通过注浆成型、排蜡、两段烧结的过程,制得所述陶瓷架。本发明陶瓷架具有耐高温、低收缩率、成形率高等特点。

技术研发人员:王相飞
受保护的技术使用者:无锡市杰美特科技有限公司
技术研发日:2018.12.05
技术公布日:2019.03.12
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