1.一种茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，包括玻璃基板，以及设置在玻璃基板表面的介质-金属-介质-金属-介质的叠层结构，所述叠层结构包括依次在所述玻璃基板表面贴合的第一介质复合层、第一金属复合层、第二介质复合层、第二金属复合层和第三介质复合层。
2.如权利要求1所述的茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一介质复合层为单层的透明介质材料层或多层叠合设置的透明介质材料层组成的透明介质复合结构层；所述第一介质复合层的厚度为25纳米-65纳米。
3.如权利要求1所述的茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一金属复合层为单层的金属材料层或多层叠合设置的金属材料层组成的金属复合结构层；所述第一金属复合层的厚度为3纳米-15纳米。
4.如权利要求1所述的茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第二介质复合层为单层的透明介质材料层或多层叠合设置的透明介质材料层组成的透明介质复合结构层；所述第二介质复合层的厚度为15纳米-55纳米。
5.如权利要求1所述的茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第二金属复合层单层的金属材料层或多层叠合设置的金属材料层组成的金属复合结构层；所述第二金属复合层的厚度为5纳米-20纳米。
6.如权利要求1所述的茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第三介质复合层为单层的透明介质材料层或多层叠合设置的透明介质材料层组成的透明介质复合结构层；所述第三介质复合层的厚度为25纳米-65纳米。
7.如权利要求1-6任一项所述的茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一介质复合层包括依次贴合设置在所述玻璃基板上的Si3N4层和ZnO层，所述第一金属复合层包括依次贴合设置在所述第一介质复合层上的Cu层和NiCr层，所述第二介质复合层包括依次贴合设置在第一金属复合层上的ZnO层、Si3N4层和ZnO层，所述第二金属复合层包括依次贴合设置在所述第二介质复合层上的Ag层和NiCr层，所述第三介质复合层包括依次贴合设置在第二金属复合层上的ZnO层、Si3N4层和TiO2层。
8.如权利要求1-6任一项所述的茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一介质复合层包括依次贴合设置在所述玻璃基板上的Si3N4层和ZnO层，所述第一金属复合层包括依次贴合设置在所述第一介质复合层上的Ag层、Cu层和NiCr层，所述第二介质复合层包括贴合设置在第一金属复合层上的ZnO层，所述第二金属复合层包括依次贴合设置在所述第二介质复合层上的Ag层和NiCr层，所述第三介质复合层包括依次贴合设置在第二金属复合层上的ZnO层、Si3N4层和TiO2层。
9.如权利要求1-6任一项所述的茶色基片效果的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一介质复合层包括依次贴合设置在所述玻璃基板上的Si3N4层和ZnO层，所述第一金属复合层包括依次贴合设置在所述第一介质复合层上的Ag层、Cu层和NiCr层，所述第二介质复合层包括依次贴合设置在第一金属复合层上的ZnO/SnO2混合层和ZnO层，所述第二金属复合层包括依次贴合设置在所述第二介质复合层上的Ag层和NiCr层，所述第三介质复合层包括依次贴合设置在第二金属复合层上的ZnO层、Si3N4层和TiO2层。