1.一种无机氧化物粒子，其在平均粒径为2～100nm的改性金属氧化物胶体粒子(c)的表面结合有具有含氮杂环基的有机硅化合物，所述改性金属氧化物胶体粒子(c)以平均一次粒径为2～60nm的金属氧化物胶体粒子(a)为核，其表面被覆着由平均一次粒径为1～4nm的无机氧化物胶体粒子(b)形成的被覆物。
2.根据权利要求1所述的无机氧化物粒子，所述具有含氮杂环基的有机硅化合物基于所述改性金属氧化物胶体粒子(c)的金属氧化物和无机氧化物的合计100质量％，以0.1～6.0质量％的量存在。
3.根据权利要求1或2所述的无机氧化物粒子，所述具有含氮杂环基的有机硅化合物具有包含1～3个氮原子的含氮杂环基。
4.根据权利要求3所述的无机氧化物粒子，所述具有含氮杂环基的有机硅化合物具有包含1～3个氮原子、且环形成原子数为5～30的含氮杂环基。
5.根据权利要求1～3中任一项所述的无机氧化物粒子，所述具有含氮杂环基的有机硅化合物为下述式(iii)所示的化合物，
在式(iii)中，
r5表示碳原子数1～8的烷基、烷氧基烷基、或酰基，
r6表示亚甲基或碳原子数2～20的亚烷基，
r7表示包含1～3个氮原子的含氮杂环基，
n表示1～3的整数。
6.根据权利要求5所述的无机氧化物粒子，所述r7为包含1～3个氮原子、且环形成原子数为5～30的含氮杂环基。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的无机氧化物粒子，所述含氮杂环基中的含氮杂环为吡咯环、吡咯烷酮环、吲哚环、二氢吲哚环、咔唑环、吡啶环、哌啶环、嘧啶环、喹啉环、吡唑环、咪唑环、咪唑啉环、咪唑烷环、苯并咪唑环、三唑环、苯并三唑环、或三嗪环。
8.根据权利要求1～7中任一项所述的无机氧化物粒子，所述金属氧化物胶体粒子(a)为选自ti、fe、cu、zn、y、zr、nb、mo、in、sn、sb、ta、w、pb、bi和ce中的至少1种金属的氧化物的胶体粒子。
9.根据权利要求1～8中任一项所述的无机氧化物粒子，所述无机氧化物胶体粒子(b)为选自si、al、sn、zr、mo、sb和w中的至少1种原子的氧化物的胶体粒子，并且为与所述金属氧化物胶体粒子(a)不同的胶体粒子。
10.根据权利要求1～9中任一项所述的无机氧化物粒子，所述改性金属氧化物胶体粒子(c)为1层以上中间薄膜层介于成为所述核的金属氧化物胶体粒子(a)与成为所述被覆物的无机氧化物胶体粒子(b)之间的改性金属氧化物胶体粒子(c)，所述中间薄膜层由选自si、al、sn、zr、sb、nb、ta和w中的至少1种原子的单独氧化物、选自si、al、sn、zr、sb、nb、ta和w中的2种以上原子的复合氧化物、或该单独氧化物和该复合氧化物的混合物的任1种形成。
11.一种无机氧化物水性溶胶或无机氧化物有机溶剂溶胶，其是将权利要求1～10中任一项所述的无机氧化物粒子分散于水性介质或有机溶剂中而得的。
12.一种涂布组合物，其包含下述(s)成分和(t)成分，
(s)成分：含硅物质，所述含硅物质为有机硅化合物、和/或其水解物；
(t)成分：权利要求1～10中任一项所述的无机氧化物粒子，
所述(s)成分的有机硅化合物包含选自下述式(i)所示的化合物和下述式(ii)所示的化合物中的至少1种有机硅化合物，
(r1)a(r3)bsi(or2)4-(a+b)(i)
式中，
r1和r3各自独立地表示烷基、芳基、卤代烷基、卤代芳基或烯基，或者
r1和r3各自独立地表示具有环氧基、异氰酸酯基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、巯基、脲基、氨基或氰基的1价有机基，并且该有机基通过si-c键与硅原子结合，
r2表示碳原子数1～8的烷基、芳基、芳烷基、烷氧基烷基、或酰基，
a和b各自独立地表示0、1或2，并且a+b为0、1或2；
〔(r4)csi(ox)3-c〕2y(ii)
式中，
r4表示碳原子数1～5的烷基，
x表示碳原子数1～4的烷基或酰基，
y表示亚甲基或碳原子数2～20的亚烷基，
c表示0或1。
13.根据权利要求12所述的涂布组合物，相对于所述(t)成分的无机氧化物粒子100质量份，其以25～400质量份的质量比例含有所述(s)成分。
14.一种涂布组合物，其包含下述(k)成分和(t)成分，
(k)成分：选自热固性树脂、热塑性树脂和紫外线固化树脂中的至少1种树脂；
(t)成分：权利要求1～10中任一项所述的无机氧化物粒子。
15.根据权利要求14所述的涂布组合物，相对于所述(t)成分的无机氧化物粒子100质量份，其以20～400质量份的质量比例含有所述(k)成分。
16.一种光学构件，其在光学基材表面具有由权利要求12～15中任一项所述的涂布组合物形成的固化膜。
17.一种光学构件，其特征在于，其在权利要求16记载的光学基材表面所形成的固化膜的表面进一步具有防反射膜。