一种超平熔块干粒釉全抛砖及其制备方法与流程

本发明涉及一种超平熔块干粒釉全抛砖及其制备方法，属于陶瓷砖生产领域。

背景技术：

陶瓷砖作为主要的建筑装饰材料，被广泛应用于工程领域及家庭装修，全抛釉陶瓷砖由于其光亮的表面深得市场消费者的喜爱。目前大部分全抛釉陶瓷砖的全抛釉主要采用喷釉或淋釉的方式生产，透明釉层厚度在0.1～0.2mm的厚度，且耐磨性能较抛光砖差，因此，随着使用时间的推移，砖面会出现一定程度的划痕，亮度会有所降低，甚至会出现透明釉层磨穿的现象。目前湿法施釉的生产方式限制了透明釉层的厚度，抛光后砖面平整度相对较差。

技术实现要素：

针对上述问题，本发明的目的在于提供一种超平熔块干粒釉全抛釉砖的制备方法以及由该制备方法制得的超平熔块干粒釉全抛砖，该超平熔块干粒釉全抛砖的透明釉层厚度较厚，且抛光后砖面平整度较高。

一方面，本发明提供一种超平熔块干粒釉全抛砖的制备方法，包括以下步骤：

(1)在砖坯表面布熔块干粒釉并将熔块干粒釉固定；

(2)将步骤(1)所得的砖坯烧成，抛光。

本发明采用了布熔块干粒釉并将其固定的生产方式生产超平熔块干粒釉全抛砖，透明釉层可达到0.3～0.5mm，抛光后砖面平整度得到很大程度的提高。

较佳地，所述熔块干粒釉的化学组成为：按质量计，sio2：54～58％、al2o3：6～11％、cao：10～13％、mgo：0.4～0.8％、k2o：5～7.0％、na2o：1.0～2.5％、zno：10～13％、bao：1.0～2.5％、烧失：0.2～0.5％。

较佳地，所述熔块干粒釉的颗粒级配为60目上：45％～55％，60～80目：25～35％，80～100目：10～15％，100～140目：2％～6％，140目以下：≤5％。

较佳地，所述熔块干粒釉的布釉量为800～1200g/m²。

较佳地，将熔块干粒釉固定的方法为：在布熔块干粒釉之前在坯体上施加胶水和/或在布熔块干粒釉之后施加固定剂。

较佳地，所述胶水的施加量为35～60g/m²。

较佳地，所述固定剂以水溶液的形式喷洒，优选地，喷洒压力在3公斤以内。

较佳地，步骤(1)中，所述砖坯通过在坯体上施面釉以及装饰图案而得。

较佳地，所述面釉的化学组成为：按质量计，sio2：57～60％、al2o3：23～25％、fe2o3：0.3～0.4％、tio2：0.1～0.2％、cao：0.3～0.4％、mgo：0.1～0.3％、k2o：4～6％、na2o：2～3.0％、zro2：6～12％、烧失：3～5％。

较佳地，面釉比重为1.40～1.45，施釉量为400～600g/m²。

较佳地，装饰图案的方法为喷墨打印。

较佳地，所述烧成的烧成周期为100～140分钟，最高烧成温度为1200～1220℃。

较佳地，抛光采用180目模块起抛，180目抛光模块3～5组，320目抛光模块4～6组，400目抛光模块4～6组，800目抛光模块6组，1000目抛光模块4组，1500抛光模块4组，2000目抛光模块4组，3000目抛光模块4组，抛光磨头压力为2.5～3mpa。

另一方面，本发明提供由上述任一制备方法制得的超平熔块干粒釉全抛砖，所述超平熔块干粒釉全抛砖在表面具有透明釉层，所述透明釉层在抛光前的厚度为0.4～0.6mm，抛光后的厚度为0.2～0.4mm。

根据本发明，采用干粒釉熔块制备的全抛砖，砖面颜色发色艳丽纯正，抛光后砖面釉层厚度可达到0.2～0.4mm厚，且通透感很强，通过放大镜观测釉层几乎无细小气泡，防污效果很好。无普通抛釉砖水波纹现象，平整度非常好。

附图说明

图1示出本发明一实施方式的超平干粒釉全抛砖的照片。

具体实施方式

以下，参照下述实施方式进一步说明本发明，应理解，下述实施方式仅用于说明本发明，而非限制本发明。以下各百分含量如无特别说明均指质量百分含量。

本发明一实施方式中，在砖坯表面布熔块干粒釉并将熔块干粒釉固定，然后将所得的砖坯烧成，抛光，得到超平熔块干粒釉全抛砖。

“熔块干粒釉”是指釉料经过熔融水淬后再破碎成一定颗粒级配的细小颗粒状釉料。

“全抛釉砖”是指通过在砖坯表层施釉然后烧成抛光的釉面砖。

砖坯包括坯体。坯体可由公知的陶瓷原料按常规方法制备，例如依次进行坯料球磨、喷粉造粒、压坯干燥，得到干燥坯。干燥温度可为140～160℃，干燥时间可为1～1.5h。干燥坯水分可控制在0.5％以内。

优选实施方式中，砖坯通过在坯体上施面釉以及装饰图案而得。施面釉可以起遮盖坯体和便于陶瓷墨水发色的作用。

一实施方式中，面釉的化学组成为：按质量计，sio2：57～60％、al2o3：23～25％、fe2o3：0.3～0.4％、tio2：0.1～0.2％、cao：0.3～0.4％、mgo：0.1～0.3％、k2o：4～6％、na2o：2～3.0％、zro2：6～12％、烧失：3～5％。该化学组成的面釉白度较高，烧成温度范围较宽且多种陶瓷墨水的发色都较好。

施面釉方式包括但不限于喷釉、淋釉等。面釉釉浆的细度可为325目筛余小于0.6％。面釉釉浆的比重可为1.40～1.45，在该比重下喷釉后砖面细腻平整。面釉釉浆的流速可为20～25秒。这里的流速是指将流速杯装满待测物，打开流速杯下面小孔，将待测物从开始到流尽后的时间记为待测物的流速。单位面积所施的面釉重量可为400～600g/m²。采用该施釉量时发色较好砖形状易于调整。面釉层的厚度可为0.1～0.15mm。

装饰图案的方法可为喷墨打印等。

可选地，在砖坯上布熔块干粒釉之前，先施加胶水，这样可以粘附一层干粒且胶水在窑炉中对干粒起到一定的助溶作用。施加胶水的方式可为数码机胶水机喷胶水。胶水的材质没有特别限定，可以是本领域公知的胶水。胶水的施加量为35～60g/m²。采用该胶水量对干粒有很好的粘结力，同时又可以较快干燥。

在砖坯上布熔块干粒釉。在施加有胶水的情况下，可以待施胶水后2～5秒内布熔块干粒釉。

优选实施方式中，熔块干粒釉的化学组成为：按质量计sio2：54～58％、al2o3：6～11％、cao：10～13％、mgo：0.4～0.8％、k2o：5～7.0％、na2o：1.0～2.5％、zno：10～13％、bao：0.8～2.5％、烧失：0.2～0.5％。zno含量较多，可以降低干粒釉的熔融温度的同时能够促使墨水更好的发色，便于干粒釉熔融的更平，抛光后砖面的平整度、镜面度更高。

更优选实施方式中，熔块干粒釉的化学组成为：按质量计，sio2：55～58％、al2o3：6.0～10.0％、cao：10～13.0％、mgo：0.5～0.8％、k2o：5.5～7％、na2o：1.5～2.5％、zno：10.5～12.5％、bao：1.0～2.5％，烧失：0.3～0.45％。

优选实施方式中，熔块干粒釉的颗粒级配为：60目上：45％～55％，60～80目：25～35％，80～100目：10～15％，100～140目：2％～6％，140目以下：≤5％。采用该颗粒级配可以细粉较少，不容易扬尘，干粒较粗，熔融后釉面通透性更好。与cn109293399a中的颗粒级配相比，本实施方式采用上述颗粒级配粗颗粒相对更多，烧成抛光后砖面釉层的通透性更好。

熔块干粒釉的布施方法可为数码干粒机布干粒和/或皮带式布料机布干粒，需用震动筛网分散。

熔块干粒釉的布釉量为800～1200g/m²。采用该布釉量可使烧成后干粒釉层厚度达到0.4mm-0.6mm厚，抛光釉层厚度在0.2mm以上，具有砖面更加平整的优点。

可选地，在布有熔块干粒釉的砖面上施加固定剂，从而将熔块干粒釉固定。

固定剂的材质没有特别限定，可以是本领域公知的固定剂。一实施方式中，将固定剂与水以1：2～3的质量比混合，采用喷釉柜喷釉的方式在布过干粒的砖面均匀的喷洒一层固定剂。优选为喷釉柜雾化好且压力不宜过大，例如釉泵压力控制在3公斤以内，这样可以达到雾化效果同时又不至于压力太大将干粒层冲击的不平整。

优选实施方式中，在布熔块干粒釉之前施加胶水，且在布熔块干粒釉之后施加固定剂，这样可以将熔块粘结的更加牢固。

本实施方式中，布施干粒量大且布施后不抽走表面的干粒。

然后，可将所得砖坯干燥。干燥温度可为100～200℃，干燥时间可为0.15～0.4h。干燥后水分可控制在0.9％以内。

然后进行烧成。可以采用低温快烧，例如，烧成周期可为100～140分钟，最高烧成温度可为1200～1220℃。经过烧成，可以在砖面上形成透明釉层，该透明釉层的厚度可达0.4～0.6mm。

优选实施方式中，在干粒釉上不再布施其它釉层，直接进行烧成。本发明干粒层替换了传统的抛釉，施釉量上干料可以达到1kg以上，抛光后砖面釉层厚度还可达到0.2-0.4mm厚，且通透感很强，通过放大镜观测釉层几乎无细小气泡，防污效果很好。无普通抛釉砖水波纹现象，平整度非常好，采用干粒釉，墨水发色艳丽。干粒层烧成后形成一层透明釉层，如再施覆盖釉釉层会失透，造成图案纹理模糊。

烧成后进行全抛。优选实施方式中，抛光采用180目模块起抛，180目抛光模块3～5组，320目抛光模块4～6组，400目抛光模块4～6组，800目抛光模块6组，1000目抛光模块4组，1500抛光模块4组，2000目抛光模块4组，3000目抛光模块4组。采用该抛光方式可以将釉层抛的更平。抛光磨头压力可为2.5～3mpa。抛光厚度可为0.15～0.25mm。

抛光后砖面釉层厚度可达0.2～0.4mm。抛光后砖面平整度较高。砖面美观，且耐磨性好。

下面进一步例举实施例以详细说明本发明。同样应理解，以下实施例只用于对本发明进行进一步说明，不能理解为对本发明保护范围的限制，本领域的技术人员根据本发明的上述内容作出的一些非本质的改进和调整均属于本发明的保护范围。下述示例具体的工艺参数等也仅是合适范围中的一个示例，即本领域技术人员可以通过本文的说明做合适的范围内选择，而并非要限定于下文示例的具体数值。

实施例1

1、压机压砖。

2、干燥窑干燥，干燥时间1h，干燥坯水分控制在0.5％以内。

3、喷面釉，面釉比重1.40，施釉量450g/m²；sio2：58.2％、al2o3：24.16％、fe2o3：0.31％、tio2：0.14％、cao：0.35％、mgo：0.18％、k2o：4.44％、na2o：2.73％、zro2：6.12％、烧失：3.37％。

4、喷墨打印图案。

5、数码机胶水机喷胶水(购自西蒂贝恩特公司)胶水量35-60g/m²。

6、数码喷胶水后2-5s内布熔块干粒釉，熔块干粒釉釉量900g/m²，熔块干粒釉的化学组成为：sio2：57.8％、al2o3：7.93％、cao：11.01％、mgo：0.62％、k2o：6.85％、na2o：1.94％、zno：11.9％、bao：1.61％，烧失：0.34％。熔块干粒釉的颗粒级配为：60目上：47.5％，60～80目：30.36％，80～100目：12.72％，100～140目：5.48％，140目以下：3.94％。

7、喷固定剂，将水和固定剂(购自意达加公司，型号为al-2253)按1：3的比例混合，采用喷釉柜喷釉的方式在布过干粒的砖面均匀的喷洒一层固定剂，釉泵压力控制在3公斤以内。

8、干燥，采用电窑干燥，干燥后水分控制在0.9％以内。

9、辊道窑低温快烧，烧成周期60min，最高烧成温度1200-1220℃。

10、抛光分级；抛光采用180目模块起抛，180目抛光模块3-5组，320目抛光模块4-6组，400目抛光模块4-6组，800目抛光模块6组，1000目抛光模块4组,1500抛光模块4组，2000目抛光模块4组，3000目抛光模块4组，抛光磨头压力2.5-3mpa。

图1为实施例1所得的超平干粒釉全抛砖的照片，可以看出砖面颜色发色艳丽纯正，抛光后砖面釉层厚度达到0.2-0.4mm厚，且通透感很强，通过放大镜观测釉层几乎无细小气泡，防污效果很好。无普通抛釉砖水波纹现象，平整度非常好。

实施例2

基本同实施例1，不同之处在于，熔块干粒釉的化学组成为：sio2：56.81％、al2o3：8.95％、cao：11.06％、mgo：0.57％、k2o：6.55％、na2o：1.65％、zno：11.81％、bao：1.36％、，烧失：0.36％。

采用此熔块干粒釉化学组成，砖面质量及效果和实施例1对比，无明显差别，砖面颜色发色艳丽纯正，抛光后砖面釉层厚度达到0.2-0.4mm厚，且通透感很强，通过放大镜观测釉层几乎无细小气泡，防污效果很好。无普通抛釉砖水波纹现象，平整度非常好。

实施例3

基本同实施例1，不同之处在于，熔块干粒釉的颗粒级配为：60目上：50.8％，60～80目：32.1％，80～100目：10.6％，100～140目：3.1％，140目以下：3.4％。

和实施例1化学组成相同的干粒，按此颗粒级配，生产过程干粒布料均匀，烧成抛光后砖面质量及效果和实施例1对比，无明显差别，砖面颜色发色艳丽纯正，抛光后砖面釉层厚度达到0.2-0.4mm厚，且通透感很强，通过放大镜观测釉层几乎无细小气泡，防污效果很好。无普通抛釉砖水波纹现象，平整度非常好。

对比例1

基本同实施例1，不同之处在于，熔块干粒釉的化学组成为：sio2：63.52％、al2o3：8.76％、cao：11.02％、mgo：0.36％、k2o：8.14％、zno：7.52％、nao2：0.26％，烧失：0.42％。此化学组成的干粒，烧成后砖面光泽度较低，烧成温度较高，砖面平整度较差，抛光后砖面存在较多毛孔。

对比例2

基本同实施例1，不同之处在于，熔块干粒釉的颗粒级配为：60目上：30.2％，60～80目：33.2％，80～100目：22.4％，100～140目：8％，140目以下：6.2％。

此颗粒级配的干粒，由于粗颗粒较少，60目上：30.2％，140目以下细干粒量达到6.2％，在布料时，细颗粒粉料容易结团，造成干粒布撒不均匀，烧成后砖面平整度较差。