一种定位天线用的微波介质陶瓷材料及其制备方法与流程

文档序号:32112011发布日期:2022-11-09 05:30阅读:来源:国知局

技术特征:
1.一种定位天线用的微波介质陶瓷材料,其特征在于,由按照摩尔份数计的以下组分制备而成:2份碳酸钡、9份二氧化钛、0.02-0.05份(zr
0.8
sn
0.2
)tio4材料;该微波介质陶瓷材料的介电常数为40,所述微波介质陶瓷材料的品质因数q
·
f>45000,抗折强度>250mpa。2.如权利要求1所述的定位天线用的微波介质陶瓷材料,其特征在于,所述碳酸钡、二氧化钛的粒径小于2.0μm,且纯度>99.5%。3.如权利要求1所述的定位天线用的微波介质陶瓷材料,其特征在于,所述(zr
0.8
sn
0.2
)tio4材料的制备方法为:按摩尔比准确称取以下物料:0.8份二氧化锆、0.2份二氧化锡、1份二氧化钛,加入上述物料2倍重量的去离子水、上述物料0.5%重量的分散剂,研磨至粒径d
50
=0.5
±
0.1μm,d
90
=1.0
±
0.4μm,得混料浆料a;通过压力式喷雾干燥塔将混料浆料a干燥完毕,然后在1220
±
20℃保温3
±
1h下合成,自燃冷却,得到(zr
0.8
sn
0.2
)tio4材料。4.如权利要求3所述的定位天线用的微波介质陶瓷材料,其特征在于,所述二氧化锆、二氧化锡,粒径小于2.0μm,且纯度>99.5%。5.一种定位天线用的微波介质陶瓷材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)配料:按照摩尔份数计,准确称取以下原料:2份碳酸钡、9份二氧化钛、0.02-0.05份(zr
0.8
sn
0.2
)tio4材料;(2)一次研磨:将步骤(1)得到的配料混合物、配料混合物2倍重量的去离子水、配料混合物0.5%重量的分散剂,加入到搅拌罐、高速分散均匀,然后采用砂磨机砂磨至粒径d
50
=1.0
±
0.1μm,d
90
=1.8
±
0.4μm,得一次料浆料;(3)喷雾干燥:采用压力式喷雾干燥塔将步骤(2)得到的一次料浆料进行干燥,得到干燥料;(4)烧块:将步骤(3)得到的干燥料在温度1150
±
10℃下,保温3
±
1h,自然冷却后,得到烧块料;(5)二次研磨:将步骤(4)得到的烧块料进行物料破碎,然后过40目筛,称取通过40目筛的烧块的重量,同时称取其重量0.1%-0.15%的ca
1-2x
li
x
sm4ti5o
17
材料,称取其重量70%的去离子水、称取其重量0.5%的分散剂,将以上通过40目筛的烧块、去离子水、分散剂加入至砂磨机搅拌罐中,高速分散均匀,然后采用砂磨机砂磨至粒径d
50
=1.2
±
0.2μm,d
90
=2.0
±
0.4μm,得二次料浆料;(6)喷雾造粒:向二次料浆料中加入重量分数16%的聚乙烯醇pva溶液,加入量为步骤(5)中通过40目筛的烧块的重量的12%
±
4%,同时加入步骤(5)中通过40目筛的烧块的重量0.5%的脱模剂;搅拌均匀后将浆料喷雾造粒,经过筛60目筛去粗粉、过筛250目筛去细粉,得到60目~250目的造粒料,即得定位天线用的微波介质陶瓷材料。6.如权利要求5所述定位天线用的微波介质陶瓷材料的制备方法,其特征在于,所述ca
1-2x
li
x
sm4ti5o
17
材料由如下方法制备而得:按摩尔比准确称取以下物料:(1-2x)份碳酸钙、x份碳酸锂、5份二氧化钛、4份氧化钐,加入上述物料2倍重量的去离子水、上述物料重量0.5%的分散剂,研磨至粒径d
50
=0.8
±
0.1μm,d
90
=1.5
±
0.4μm,得混料浆料b;通过压力式喷雾干燥塔将混料浆料b干燥完毕,然后在900
±
20℃保温3
±
1h下合成,自燃冷却,得到ca
1-2x
li
x
sm4ti5o
17
材料;所述x的范围为0.33<x<0.42。7.如权利要求6所述定位天线用的微波介质陶瓷材料的制备方法,其特征在于,所述碳
酸钙、氧化钐、碳酸锂的粒径小于2.0μm,且纯度>99.5%。8.如权利要求5所述定位天线用的微波介质陶瓷材料的制备方法,其特征在于,所述分散剂为聚羧酸铵、柠檬酸铵、葡萄糖酸铵分散剂中的至少一种。9.如权利要求5所述定位天线用的微波介质陶瓷材料的制备方法,其特征在于,所述脱模剂为聚酰胺乳液、石蜡乳液、硬脂酸乳液、聚氨酯乳液、有机硅乳液中的至少一种。10.如权利要求5所述定位天线用的微波介质陶瓷材料的制备方法,其特征在于,所述pva溶液中的pva选自市售型号为1788、2488、3088、1288、0588中的至少一种。

技术总结
本发明公开了一种定位天线用的微波介质陶瓷材料及其制备方法,该微波介质陶瓷材料由按照摩尔份数计的以下组分制备而成:2份碳酸钡、9份二氧化钛、0.02-0.05份(Zr


技术研发人员:谢义鹏 林小冬 符仁敏 薛伟志
受保护的技术使用者:广东康荣高科新材料股份有限公司
技术研发日:2022.08.26
技术公布日:2022/11/8
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