AG玻璃及其制备方法与流程

本申请涉及防眩光玻璃，特别是涉及一种ag玻璃及其制备方法。

背景技术：

1、ag(anti-glare)玻璃，又称抗反射玻璃或防眩光玻璃。通常，对光滑玻璃表面进行加工处理，使玻璃表面由光面变成糙面，使其由镜面反射，变成漫反射，使其达到防眩的效果，从而得到ag玻璃。

2、目前，ag玻璃基本上是通过化学蒙砂的方式制得，即，需要对玻璃表面进行蒙砂处理。化学蒙砂是指采用蒙砂液(一般主要成分包括氟化氢铵等氟化铵盐、柠檬酸等有机酸或硫酸等无机酸以及水等)对玻璃基材进行浸泡或冲刷处理，使玻璃表面蒙砂雾化。化学蒙砂作为ag玻璃的常规加工方式，可以得到不同应用场景及不同功能的ag产品，但由于其主要使用氟化氢铵、有机酸等物质，其物质本身对环境影响较大，且废水废渣处理困难，与人们对环境要求日益提高的需求相违背，且操作时对操作人员伤害性大，该蒙砂方式存在的弊端较为明显。

3、ag玻璃可应用于玻璃滑鼠板、手机后盖等产品上。关于玻璃滑鼠板，通常需要ag玻璃的粗糙度为0.4μm-0.6μm，雾度为28％-38％。现有的能满足玻璃滑鼠板使用要求的ag玻璃主要是通过上述化学蒙砂制得，不仅对操作人员伤害性大，污染环境，并且操作工艺也比较复杂，一般需要使用含氢氟酸及氟化铵盐的蒙砂液对玻璃基材进行蒙砂，其蒙砂溶液不但具备一定的挥发性，同时因为其cod值及氨氮值居高不下，导致处理难度大且成本高。

技术实现思路

1、针对传统方法存在的上述缺陷，本申请的目的在于提供一种ag玻璃及其制备方法。本申请的方法能取代传统的化学蒙砂工艺，得到可满足使用要求的玻璃。

2、第一方面，本申请提供一种ag玻璃的制备方法，该制备方法包括：

3、1)镀膜

4、将玻璃基板的一个表面进行镀膜处理，膜层为氮化硅(si3n4)，制得具有氮化硅膜层的玻璃基板；

5、2)蚀刻

6、采用蚀刻液对所述具有氮化硅膜层的玻璃基板进行蚀刻，所述蚀刻液中包含酸，所述酸为氢氟酸，所述蚀刻液中的酸浓度为0.2mol/l-5mol/l。

7、可选地，步骤1)中，所述玻璃基板为硼硅玻璃、高铝玻璃或钠钙玻璃。

8、可选地，步骤1)中，所述镀膜处理包括磁控溅射。

9、进一步地，所述磁控溅射的条件包括：本底气压≤0.001pa，工作压力：0.2pa-0.5pa，氩气流量：100sccm-140sccm，氮气流量：100sccm-140sccm，靶功率：9kw-11kw，靶材：硅靶。

10、进一步地，所述镀膜的过程包括：在电场e的作用下，电子在飞向玻璃基板的过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出氩正离子和新的电子，新电子飞向基片，氩正离子在电场作用下加速飞向硅靶，并以高能量轰击靶表面，使靶发生溅射。

11、可选地，步骤1)中，通过所述镀膜使得玻璃基板上的氮化硅膜层厚度为100nm-800nm。

12、可选地，步骤2)中，所述蚀刻液中还包含一价碱金属盐，所述一价碱金属盐与氢氟酸的摩尔比为1∶(1-10)。

13、进一步地，所述一价碱金属盐为氯化钠和/或氯化钾。

14、可选地，所述蚀刻液中，氢氟酸的浓度为1mol/l-3mol/l，所述一价碱金属盐与氢氟酸的摩尔比为1∶(2-5)。

15、可选地，步骤2)包括：将所述具有氮化硅膜层的玻璃基板浸泡于所述蚀刻液中，在鼓泡条件下，使氮化硅与蚀刻液进行反应。

16、进一步地，所述鼓泡中的鼓泡气体为空气，鼓泡流量为150l/min-250l/min。

17、进一步地，步骤2)中，所述氮化硅与蚀刻液进行反应的温度为10℃-40℃，反应时间为5min-30min。

18、可选地，所述制备方法还包括：对所述蚀刻后的玻璃进行洗涤。

19、第二方面，本申请提供由本申请第一方面所述的制备方法制备得到的ag玻璃。

20、可选地，所述ag玻璃的粗糙度为0.4μm-0.6μm，雾度为28％-38％，rsm为70μm-150μm，光泽度为25gu-35gu。

21、本申请提供的ag玻璃的制备方法，在不使用传统化学蒙砂液的基础上，能制得具有较好ag性能的ag玻璃产品。相较于传统的化学蒙砂工艺，具有工艺简单、环境污染小等优点。不仅如此，本申请的制备方法所制备的ag玻璃的ag参数稳定，特别适合(但不局限于)滑鼠板ag产品。

技术特征：

1.一种ag玻璃的制备方法，其特征在于，该制备方法包括：

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤1)中，所述玻璃基板为硼硅玻璃、高铝玻璃或钠钙玻璃。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤1)中，所述镀膜处理包括磁控溅射，所述磁控溅射的条件包括：本底气压≤0.001pa，工作压力：0.2pa-0.5pa，氩气流量：100sccm-140sccm，氮气流量：100sccm-140sccm，靶功率：9kw-11kw，靶材：硅靶。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤1)中，通过所述镀膜使得玻璃基板上的氮化硅膜层的厚度为100nm-800nm。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤2)中，所述蚀刻液中还包含一价碱金属盐，所述一价碱金属盐与氢氟酸的摩尔比为1∶(1-10)；

6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述蚀刻液中，氢氟酸的浓度为1mol/l-3mol/l，所述一价碱金属盐与氢氟酸的摩尔比为1∶(2-5)。

7.根据权利要求1-6任一项所述的制备方法，其特征在于，步骤2)包括：

8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，步骤2)中，所述氮化硅与蚀刻液进行反应的温度为10℃-40℃，反应时间为5min-30min。

9.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，该制备方法还包括：对所述蚀刻后的玻璃进行洗涤。

10.由权利要求1-9任一项所述的制备方法制备得到的ag玻璃。

11.根据权利要求10所述的ag玻璃，其特征在于，所述ag玻璃的粗糙度为0.4μm-0.6μm，雾度为28％-38％，rsm为70μm-150μm，光泽度为25gu-35gu。

技术总结
本申请涉及防眩光玻璃技术领域，特别是涉及一种AG玻璃及其制备方法。所述AG玻璃的制备方法包括：1)镀膜：将玻璃基板的一个表面进行镀膜处理，膜层为氮化硅，制备具有氮化硅膜层的玻璃基板；2)蚀刻：采用蚀刻液对所述具有氮化硅膜层的玻璃基板进行蚀刻，所述蚀刻液中包含酸，所述酸为氢氟酸。本申请提供的制备方法，可以在不使用传统化学蒙砂液的基础上，得到具有高粗糙度的AG玻璃产品，且相较于传统的化学蒙砂工艺，具有工艺简单、环境污染小等优点。

技术研发人员：张迅,易伟华,谢凯立,杨会良,张纬康
受保护的技术使用者：江西沃格光电股份有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/11