1.一种表面具有图形化氮空位色心区域的金刚石的制备方法，其特征在于，所述金刚石的制备方法包括：
2.根据权利要求1所述的金刚石的制备方法，其特征在于，所述本征硅衬底的电阻率大于2000ω·cm，厚度为1-3mm，晶向为(100)、(110)或者(111)。
3.根据权利要求1所述的金刚石的制备方法，其特征在于，所述步骤2包括：
4.根据权利要求1所述的金刚石的制备方法，其特征在于，所述步骤2.5包括：
5.根据权利要求1所述的金刚石的制备方法，其特征在于，所述步骤4包括：
6.根据权利要求1所述的金刚石的制备方法，其特征在于，所述步骤5包括：
7.根据权利要求1所述的金刚石的制备方法，其特征在于，所述步骤5.2中h2的流量为100-800sccm，所述步骤5.3中n2的流量为5-40sccm。
8.根据权利要求1所述的金刚石的制备方法，其特征在于，所述步骤6包括：
9.一种表面具有图形化氮空位色心区域的金刚石，其特征在于，所述表面具有图形化氮空位色心区域的金刚石利用权利要求1至8任一项所述的制备方法制备形成。