功能层40的厚度按优选性增加的顺序为7至12nm、8至IOnm ; -第二金属功能层80的厚度按优选性增加的顺序为14至18nm、15至17nm ; -第三金属功能层120的厚度按优选性增加的顺序为18至24nm、19至23nm ; -金属功能层40，80，120的总厚度介于30和60nm之间（包括这些值)，优选地介于 40和50nm之间。
[0024] 第二金属功能层和第三金属功能层的厚度平均值与第一金属功能层的厚度的比 率介于1. 50和2. 50之间，包括这些值。观察这些比率有助于在外反射中获得呈蓝绿色的 颜色。
[0025] 金属功能层的这些厚度范围为获得以下最佳结果的范围：双层窗用玻璃中大约 50%的透光率、低的光反射和较低的日光因子，使得可获得高选择性以及在来自外部和来自 内部的反射中以及中性透射中获得在蓝绿色范围内的颜色。
[0026] 根据本发明，阻挡层可插入一个或每个抗反射涂层与相邻功能层之间。沿着基底 方向布置在功能层下方的阻挡层被称为阻挡垫层"UB"。沿着与基底相反的方向布置在 功能层上的阻挡层被称为阻挡覆层"0B"。阻挡层常规上具有的作用是保护功能层免于在 上抗反射涂层沉积期间以及退火、弯曲和/或回火型的任选高温处理期间发生可能的劣化 (degradation) 〇
[0027] 关于设置为与功能层接触的阻挡层，标注"第一"、"第二"和"第三"从承载叠堆的 基底开始并且相对于与所存在的阻挡层接触的功能层的标注"第一"、"第二"和"第三"进 行定义。例如，第二功能层可包括选自第二阻挡垫层和第二阻挡覆层的一个或两个第二阻 挡层。
[0028] 申请人已意外地发现，通过增加功能层从基底开始的厚度和集中阻挡层或围绕第 二功能层各层的厚度这两种方式的组合来获得本发明基底的有利结果。
[0029] 根据本发明，如果两个阻挡层均与第一功能层接触，则第一阻挡层的厚度应理解 为是指第一阻挡垫层和第一阻挡覆层的厚度总和。同样，如果两个阻挡层均与第二功能层 接触，则第二阻挡层的厚度应理解为是指第二阻挡垫层和第二阻挡覆层的厚度总和。最后， 如果两个阻挡层均与第三功能层接触，则第三阻挡层的厚度应理解为是指第三阻挡垫层和 第二阻挡覆层的厚度总和。
[0030] 根据本发明的基底包括设置与第二金属功能层80接触的至少一个第二阻挡层和 选自以下的任选的至少一个阻挡层： -设置与第一金属功能层40接触的第一阻挡层； -设置与第三金属功能层120的第三阻挡层； 所述第一阻挡层、第二阻挡层和/或第三阻挡层分别表现出满足以下公式的厚度CB1、 CB2和CB3:CB1 + CB3〈 1. 10 CB2,其中至少厚度CB2不为零。
[0031] 根据本发明的基底包括选自以下的至少一个阻挡层： -设置在第一金属功能层40下方并且与其接触的第一阻挡垫层UBl ; -设置在第一金属功能层40上方并且与其接触的第一阻挡覆层OBl ; -设置在第二金属功能层80下方并且与其接触的第二阻挡垫层UB2 ; -设置在第二金属功能层80上方并且与其接触的第二阻挡覆层0B2 ; -设置在第三金属功能层120下方并且与其接触的第三阻挡垫层UB3 ; -设置在第三金属功能层120上方并且与其接触的第三阻挡覆层0B3 ; 分别表现出满足以下公式的厚度耶1、(》1、耶2、(》2、耶3和(》3:(耶1+(?1) + (耶3 + 0B3)〈 1.10 (UB2 + 0B2)，其中至少厚度UB2或0B2不为零。
[0032] 从本发明的定义看，厚度CB1、UB1、OBI、CB3、UB3、0B3、CB2、UB2和0B2满足以下 公式： -CBl 等于 UBl + OBl ; -CB3等于UB3 + 0B3 ;以及 -CB2 等于 UB2 + 0B2。
[0033] 根据本发明的有利实施方案，一个或多个阻挡层满足以下条件中的一个或多个： -每个金属功能层40，80，120与至少一个阻挡层接触； -每个金属功能层40, 80，120与单一阻挡层接触； -一个或多个阻挡层设置与金属功能层接触并设置在其上方并且对应于阻挡覆层 "0B"； -每个金属功能层40, 80，120与作为相对于基底、第一阻挡覆层、第二阻挡覆层和第 三阻挡覆层的位置的函数示出的阻挡覆层接触； -一个或多个阻挡层设置与金属功能层接触并设置在其下方并且对应于阻挡垫层 "UB"； -每个金属功能层40, 80，120与作为相对于基底、第一阻挡垫层、第二阻挡垫层和第 三阻挡垫层的位置的函数示出的阻挡垫层接触； -所述第一阻挡覆层、第二阻挡覆层和第三阻挡覆层分别表现出满足以下公式的厚度 0B1、0B2 和 0B3 :0B1 + 0B3〈 1. 10 0B2 ; -第一阻挡垫层、第二阻挡垫层和第三阻挡垫层分别表现出满足以下公式的厚度UB1、 UB2 和 UB3 : UBl + UB3〈 I. 10 UB2 ; -第二阻挡层CB2的厚度与第一阻挡层CBl的厚度的比率大于I. 10,优选地介于I. 10 和10之间，更佳地介于1. 10和2. 00之间，优选地介于1. 40和1. 70之间，包括这些值； -第二阻挡层CB2的厚度与第三阻挡层CB3的厚度的比率大于1. 10,优选地介于2. 00 和10之间，优选地介于2. 90和3. 20之间，包括这些值； -第二阻挡覆层OB2的厚度与第一阻挡覆层OBl的厚度的比率大于1. 10,优选地介于 1. 10和10. 00之间，更佳地介于1. 10和2. 00之间，优选地介于1. 40和1. 70之间，包括这 些值； -第二阻挡覆层0B2的厚度与第三阻挡覆层0B3的厚度的比率大于1. 10,优选地介于 2. 00和10. 00之间，优选地介于2. 90和3. 20之间，包括这些值； -第二阻挡垫层UB2的厚度与第一阻挡垫层UBl的厚度的比率大于1. 10,优选地介于 1. 10和10. 00之间，更佳地介于1. 10和2. 00之间，优选地介于1. 40和1. 70之间，包括这 些值； -第二阻挡垫层UB2的厚度与第三阻挡垫层UB3的厚度的比率大于1. 10,优选地介于 2. 00和10之间，优选地介于2. 90和3. 20之间，包括这些值； -每个阻挡垫层和覆层的厚度为至少0. 5nm，优选至少0. 8nm ; -第一阻挡层CBl的厚度按优选性增加的顺序为1至2. 5nm，L 5至2nm ; -第一阻挡覆层OBl 50的厚度按优选性增加的顺序为1至2. 5nm，L 5至2nm ; -第一阻挡垫层UBl的厚度按优选性增加的顺序为1至2. 5nm，L 5至2nm ; -第二阻挡层CB2的厚度按优选性增加的顺序为L 5至3. 5nm，2至3nm ; -第二阻挡覆层0B2 90的厚度按优选性增加的顺序为L 5至3. 5nm，2至3nm ; -第二阻挡垫层UB2的厚度按优选性增加的顺序为L 5至3. 5nm，2至3nm ; -第三阻挡层CB3的厚度按优选性增加的顺序为0· 5至I. 5nm，0· 5至Inm ; -第三阻挡覆层0B3 130的厚度按优选性增加的顺序为0· 5至I. 5nm，0· 5至Inm ; -第三阻挡垫层UB3的厚度按优选性增加的顺序为0· 5至I. 5nm，0· 5至Inm ; -阻挡层50，90，130的总厚度介于3和7nm之间（包括这些值)，优选地介于3. 5和 5nm，更佳地介于4和5nm之间。
[0034] 根据本发明的有利实施方案，阻挡层选自金属和金属合金、氮化物和氮氧化物。因 此，阻挡层选自基于金属或金属合金的金属层、金属氮化物层和金属氮氧化物层，优选选自 钛、镍、铬和铌的一种或多种元素的层，例如Ti、TiN、Nb、NbN、Ni、NiN、Cr、CrN、NiCr或NiCrN 的层。
[0035] 尽管这些阻挡层以金属、氮化物或氮氧化物形式沉积，但显然这些层可例如在下 一层沉积时根据它们的厚度经受部分或完全氧化。
[0036] 根据本发明的有利实施方案，抗反射涂层满足以下条件中的一个或多个： -对应于从基底开始限定的第一抗反射涂层、第二抗反射涂层和第三抗反射涂层的抗 反射涂层具有基本上相同的厚度； -对应于从基底开始限定的第一