一种哑光砖的制备方法及设备的制造方法
【技术领域】
[0001] 本发明设及陶瓷砖的生产技术领域，尤其设及一种哑光砖的制备方法及设备。
【背景技术】
[0002] 哑光是相对于抛光而言的，也就是非亮光面。哑光的易脏，不好打理，抛光亮面砖、 哑光砖所用的釉料不同，一般哑光砖烧成溫度要比亮面砖高，哑光釉面相对亮面砖容易吸 脏，不但会渗到釉面内，用常见的清洁剂难W去除。目前，在所有哑光砖的生产加工中，其哑 光面的获取采用的是磨抛工艺。如中国专利申请号为200510035090. 9,发明名称为一种哑 光瓷质抛光砖的生产工艺，包括成型、干燥、烧成和干巧抛光工序，其特征在于：在生产工艺 流程中，干巧抛光工序设置在干燥工序之后烧成工序之前，在烧成工序之后增设有研磨工 序，其主要生产工艺流程为：成型一干燥一干巧抛光一烧成一研磨。此专利工艺能使抛光砖 表面呈现砖体深层布料装饰纹理，并且具有一定的防污、防滑、耐磨性质。但缺点是：第一， 用机械研磨的方式在陶瓷砖形成的哑光面，其纹理单一，加工的质量好坏很大程度上取决 于砖体的硬度，在砖体硬度较高的情况下，加工困难，而且产品的质感不够细腻，难W满足 人们的装饰要求；第二，机械研磨的方式形成的哑光面容易吸收粉尘，不能用作地面砖。
【发明内容】
[0003] 本发明的目的就是为了解决现有技术之不足而提供的一种不仅生产工艺简单，审U 造成本低、制备的产品花色纹理自然，质感细腻，防污效果好的、可作为地面砖的哑光砖的 制备方法。
[0004] 本发明的另一目的是提供一种哑光砖的制备设备。
[0005] 本发明是采用如下技术解决方案来实现上述目的：一种哑光砖的制备方法，其特 征在于，它是采用含有氣化物的酸性溶液侵蚀砖体的方式，使该酸性溶液与砖体表面的二 氧化娃、金属氧化物等成分发生不等速化学反应，从而在砖体表面形成哑光面。
[0006] 进一步地，在所述加工哑光面的过程中，包括采用在酸性溶液中添加并控制不均 匀腐蚀反应促进剂，使砖体表面的不同部位的酸蚀速度形成差异，达到不均匀腐蚀的效果， 此后经过化学抛光，从而使哑光面的纹理更为自然、随机，质感细腻。
[0007] 所述酸性溶液是采用无机氣化物，包括氨氣酸与盐酸、硫酸、硝酸、憐酸中的一种 或几种混合而成的强酸溶液混合形成。
[0008] 优选地，所述氣化物采用氣化氨锭。
[0009] 所述不均匀腐蚀反应促进剂采用径甲基纤维素、淀粉及Ca2\Ba2\NH/、硝酸盐中 的一种或几种。
[0010] 进一步地，它是采用浸泡法或淋泡法，先将化学药剂浸泡成酸性溶液，让砖面在该 酸性溶液中浸泡或被该酸性溶液喷淋一段时间，然后用水洗净。
[0011] 所述酸性溶液由氨氣酸及添加剂配制而成，其配方按重量份包括：
[001引HF5-15 份、K2SO41-3 份、&0 80-120 份；或是，
[0013]HF15-25份、饥巧25-35份、&0 45-55份；或是，
[0014]HF35-45份、NH4F/NH4HF290-110份、&0 90-110份；或是，
[0015]HF 35-45份、饥巧25-28 份、&0 25-32份；或是，
[0016]HF 45-50份、饥巧23-30 份、&0 25-30份；或是，
[0017]HF 20-24 份、饥巧20-25 份、肥 1 35-40、&0 15-20 份；或是，
[0018]HF 3-5份、NH4HF260-65份、K2SO4 5-9份、（畑4)25〇4 1. 5-2 份、&0 25-30份、H2SO4 3-6份、&0 15-20份；或是，
[0019]HF10-14份、NH4HF35-43份、&0 10-15份。
[0020] 所述酸性溶液由氨化物及添加剂制成粉状物，使用时加入盐酸或硫酸，产生氨氣 酸；
[0021] 酸性溶液的配方，按重量份包括：
[0022]饥巧45-55份、（畑4)25〇4 3-7份、H2SO46-12份、&0 45-55份；或是，
[0023]饥巧35-43份、肥1 15-23份、&0 230-250份；或是，
[0024]饥巧95-105份、（畑4)25〇4 8-12份、H2SO418-22份、&0 95-105份；或是，
[00巧]KHFz20-28份、K2SO412-16份、H2SO418-22份、&0 95-105份；或是，
[0026]CaFz8-12份、肥 1 0-3份、&0 95-105份；或是，
[0027]饥巧8-12份、（畑4)25〇4 8-12份、肥 1 1-4份、&0 95-105份；
[002引酸性溶液中加入氣娃化钢，氣化氨锭、BaS04、BaC03、PbSO冲的一种或几种。
[0029] 在所述陶瓷砖表面生产哑光面后，还要经过水洗、风干和在哑光面上涂覆一层防 污剂。
[0030] 在所述陶瓷砖表面生产哑光面后，还要经过水洗、风干和在哑光面上涂覆一层防 污剂，W增加防污效果。
[0031] 一种哑光砖的制备设备，其特征在于，它包括依次设置的装有含有氣化物的酸性 溶液的反应池、水洗池，反应池外设置装有促进剂的容器，容器的出料口引向反应池。
[003引所述容器的出料口设置连接有控制系统的阀n，反应池中设置有PH计，PH计的信 号输出端连接有控制系统，通过控制系统控制阀口的开闭程度，使促进剂的添加量W及下 料速度均可控。
[0033] 所述反应池、水洗池的输入和输出端分别设置有瓷砖输送装置，使瓷砖能够自动 送入反应池中，经过腐蚀反应后再送进水洗池中进行水洗。
[0034] 所述水洗池的输出端设置风干装置，该风干装置包括风干平台和设置在风干平台 外并朝风干平台送风的风机，加快瓷砖的干燥速度。
[0035] 本发明采用上述技术解决方案所能达到的有益效果是：
[0036] 1、本发明采用化学腐蚀的方法使陶瓷抛光砖、抛釉砖、抛晶砖等表面生成哑光面， 并更是通过在腐蚀反应过程中添加不均匀腐蚀促进剂，调节控制砖体表面的不同部位的酸 蚀速度，使其形成不均匀腐蚀的效果，与传统的机械研磨方式相比，哑光面的质感更加细 腻，哑光面的光泽度更低，低至10°仍能防污，作地面砖，质感丰满、晶奎剔透、从而更加柔 和、自然。
[0037]2、本发明采用化学腐蚀陶瓷的方式，使其表面形成哑光面后，并在哑光面上作防 污处理，能进一步的提高哑光砖产品的防污效果，可W达到普通抛光砖的防污效果。
【附图说明】
[0038] 图1为本发明的哑光砖生产设备结构示意图。
[0039] 附图标记说明：1、反应池2、水洗池3、容器4、阀口 5、PH计6、PLC控制系统7、 水洗喷头8、风干装置9、净化池。
【具体实施方式】
[0040]W下结合具体实施例对本技术方案作详细的描述。
[0041] 本发明是一种哑光砖的制备方法，它是采用含有氣化物的酸性溶液侵蚀砖体的方 式，使陶瓷砖表面生成哑光面。其中，在加工哑光面的过程中，是采用酸性溶液侵蚀砖体，使 酸性溶液与砖体表面的二氧化娃、金属氧化物等成分发生化学反应，从而在砖体表面形成 哑光面。
[0042] 更进一步地，在酸性溶液中还添加有不均匀腐蚀促进剂，并通过控制促进剂用量， 使砖体表面的不同部位的酸蚀速度形成差异，达到预定不均匀腐蚀的效果，从而使哑光面 的纹理更为自然、随机，质感细腻，即达到设计产品性能的效果。
[0043] 值得注意的是，本发明采用的哑光砖的制备方法具体包括W下两种：
[0044] 1、涂布法
[0045] 将化学药剂制成膏状物涂布于砖面上，然后用水洗净。
[0046] 2、浸泡法或淋泡法
[0047] 将化学药剂浸泡成水溶液，让砖面在该药剂中浸泡或被该药剂喷淋一段时间，然 后水洗净。
[0048] 两种方法对比，由于方法2具有重大工业生产意义，可W连续化生产，与现有生产 线直接连接。本发明所述的设备、工艺流程，即与之直接关联，因此，W下描述的重点是方法 2。
[0049] 其中，化学药剂W液体的形式存在时，是由氨氣酸及添加剂配制而成；W固体形式 存在时，由氨化物及添加剂制成粉状物，使用时加入盐酸或硫酸，产生氨氣酸；W膏状物的 形式存在时，由氨化物加酸调制成膏状物或氨氣酸和添加剂调制成膏状物。
[0050] 实施例1
[0051] 本实施例中，采用的是浸泡法或淋泡法在陶瓷砖表面加工哑光面，其化学腐蚀溶 液由氨氣酸及添加剂配制而成；配方按重量份包括，
[0052]方案 1 出F10 份、K2SO42 份、&0 100 份。
[0053] 方案2:HF20份、饥巧30份、&0 50份。
[0054]方案 3:HF40 份、NH4F/NH4HF2100 份、&0 100 份。
[00巧]方案4出F40. 2份、饥巧26. 2份、&0 29. 1份。
[0056]方案 5 出F 46. 2 份、饥巧26. 0 份、&0 27.8份。
[0