种制造方法（称为制造方法1、制造方法2)中的任意方法来制造。
[0080] 对制造方法1进行说明。
[0081 ] 在制造方法1中，首先使用碎玻璃制造装置制造碎玻璃。
[0082] 碎玻璃制造装置有如下构成：装入粉末的玻璃原料的石英加料腔配置于加热炉的 内部，通过调整加热炉的温度，能够熔化石英加料腔内的玻璃原料。此外，冷却管从石英加 料腔的底部延伸至配置于下侧的水槽，在石英加料腔的内部熔化的熔融玻璃通过冷却管内 的同时缓慢冷却，成为固体的粉状的碎玻璃从冷却管的下侧端部排出。
[0083] 在这样的碎玻璃制造装置中，将以得到本发明的光学玻璃的方式配混的玻璃原料 装入石英加料腔，例如将加热炉的内部调整为1250~1350°C熔化玻璃原料，使其通过冷却 管，在水槽内，能够得到例如1~2mm左右大小的粉状碎玻璃。
[0084] 对于水槽内的碎玻璃，使用例如目前公知的电干燥炉进行干燥，可以在下一工序 中使用。
[0085] 在制造方法1中，通过上述的方法得到碎玻璃后，使用玻璃成形装置，对得到的碎 玻璃进行再熔化，成形板状的玻璃。
[0086] 玻璃成形装置示出连续熔化炉。玻璃成形装置为包含原料投入部、熔融部、澄清 部、搅拌部的构成。从原料投入部投入碎玻璃至熔融部而形成熔融玻璃，在澄清部脱泡，在 搅拌部脱泡和均质化，通过从搅拌部伸出的流出管流出。流出的玻璃成形为板状。
[0087] 在这样的玻璃成形装置中，将粉状的碎玻璃从原料投入部装入至熔融部。熔融部 为例如钼制的槽配置于电炉内的构成，通过将电炉内调整为1290 ± 20°C左右可以得到熔融 玻璃。在澄清部中，优选以熔融玻璃的温度为1250~1350°C左右的方式进行调整。此外， 在搅拌部中，优选以熔融玻璃的温度为1100~1200°C左右的方式进行调整。此外，优选以 从流出管排出的玻璃的温度为1210°C左右的方式进行调整。而且，成型为板状的玻璃的提 取量优选设为750~950kg/天。
[0088] 本发明的光学玻璃优选通过这样的制造方法1进行制造。
[0089] 其次，对制造方法2进行说明。
[0090] 对于制造方法2,首先，通过目前公知的方法制造碎玻璃。具体来说，例如，用钼制 的熔融设备对粉状的玻璃原料进行熔融后，再通过公知的方法对得到的熔融玻璃进行快速 冷却，根据需要进行粉碎从而制成碎玻璃。
[0091] 接下来，与制造方法1相同，使用玻璃成形装置（连续熔化炉）对得到的碎玻璃进 行再熔化，成型板状的玻璃。
[0092] 本发明的光学玻璃优选通过这样的制造方法2进行制造。
[0093] 实施例
[0094] 使用实施例对本发明进行说明。本发明并不限制于以下说明的实施例。
[0095] 〈实施例1>
[0096] 以Sb203含有率成为0· 002% (以外添比计）的方式调整玻璃原料，通过前述的制 造方法1制造平板玻璃，对着色度、气泡数量、耐失透性进行评价。
[0097] 对于着色度的评价，依据前述的日本光学硝子工业标准J0GIS02-2003规定的方 法进行。
[0098] 对于气泡数量的评价，依据前述的日本光学硝子工业标准J0GIS12-1994规定的 光学玻璃的气泡的测定方法进行测定。
[0099] 对于耐失透性的评价，如上所述，通过在800°C下保持10分钟，重现再热压制時的 热历程，对此时产生的失透处的有无概略地进行评价。未观察到失透处的情况设为?，观察 到失透处的情况设为X。
[0100] 将结果示于第1表。
[0101] 需要说明的是，得到的平板玻璃的组成（氧化物基准）如下所示。
[0102] Si02:24. 7%
[0103] Ti02:27 . 4%
[0104] Nb205：17. 6%
[0105] Na20:12. 0%
[0106] Zr02:0. 9%
[0107] BaO: 17. 4%
[0108] Sb203: 0· 002 % (以外添比计）。
[0109] 〈实施例2>
[0110] 以Sb203含有率成为0· 004% (以外添比计）的方式调整玻璃原料，其他使用与实 施例1相同的方法制造平板玻璃，用与实施例1相同的方法对着色度、气泡数量、耐失透性 进行评价。得到的平板玻璃的组成（氧化物基准）也除Sb 203以外与实施例1相同，Sb203 含有率为〇. 004% (以外添比计）。
[0111] 将结果示于第1表。
[0112] 〈比较例1>
[0113] 以Sb203含有率成为0% (以外添比计）的方式调整玻璃原料，其他使用与实施例 1相同的方法制造平板玻璃，用实施例1相同的方法对着色度、气泡数量、耐失透性进行评 价。得到的平板玻璃的组成（氧化物基准）也除Sb 203以外与实施例1相同。
[0114] 将结果示于第1表。
[0115] 〈比较例2>
[0116] 以Sb203含有率成为0.01% (以外添比计）的方式调整玻璃原料，通过前述的制 造方法2制造平板玻璃。而且用与实施例1相同的方法对着色度、气泡数量、耐失透性进行 评价。得到的平板玻璃的组成（氧化物基准）也除Sb 203以外与实施例1相同，Sb203含有 率为0.01% (以外添比计）。
[0117] 将结果示于第1表。
[0118] 〈比较例3>
[0119] 以Sb203含有率成为(λ 02% (以外添比计）的方式调整玻璃原料，其他使用与实施 例1相同的方法制造平板玻璃，用与实施例1相同的方法对着色度、气泡数量、耐失透性进 行评价。得到的平板玻璃的组成（氧化物基准）也除Sb 203以外与实施例1相同，Sb203含 有率为0· 02% (以外添比计）。
[0120] 将结果示于第1表。
[0121] 〈比较例4>
[0122] 以Sb203含有率成为0. 02% (以外添比计）的方式调整玻璃原料，通过前述的制 造方法2制造平板玻璃。并且，用与实施例1相同的方法对着色度、气泡数量、耐失透性进 行评价。得到的平板玻璃的组成（氧化物基准）也除Sb 203以外与实施例1相同，Sb203含 有率为0· 02% (以外添比计）。
[0123] 将结果示于第1表。
[0124] 表 1
[0125] 第 1表
[0126]
【主权项】
1. 一种光学玻璃，其折射率为1.83以上且阿贝数为26以下，以氧化物基准计，含有 Si02、Ti02、Nb205和Na20作为必需成分，以外添比计，含有超过0质量％且低于0. 01质量％ 的 Sb203。2. 根据权利要求1所述的光学玻璃，其中，以氧化物基准计，Si02、Ti02、Nb20 5和Na20的 总含有率为70质量％以上。3. 根据权利要求1或2所述的光学玻璃，其中，依据日本光学硝子工业标准 J0GIS02-2003规定的光学玻璃的着色度的测定方法测定时，其具备显示光谱透射率70% 的波长为450nm以下的着色度。4. 根据权利要求1~3中任一项所述的光学玻璃，其中，依据日本光学硝子工业标准 JOGIS12-1994规定的光学玻璃的气泡的测定方法测定时，100ml玻璃中的气泡的截面积总 和为0. 03mm2以下。5. 根据权利要求1~4中任一项所述的光学玻璃，其中，以外添比计，Sb203的含有率为 0· 001 ~0· 005 质量％。6. 根据权利要求1~5中任一项所述的光学玻璃，其中，以氧化物基准的质量％计，含 有： Si02:21. 0 ~30. 0%、 Ti02:24. 0 ~40. 0%、 Nb205:15. 5 ~30. 0%、 Na20:10. 0 ~23. 0%、 Zr02:0 ~ 9. 0%, Ba0:0 ~25%、 K20:0 ~23. 0%，且 (Ti02+Nb205V(Na20+K 20)为 3. 0 ~4. 0。
【专利摘要】本发明提供着色性得到改善、具备高折射率高色散性、玻璃中的气泡数量稳定且极少、而且耐失透性优异的光学玻璃。一种光学玻璃，其折射率为1.83以上且阿贝数为26以下，以氧化物基准计，含有SiO2、TiO2、Nb2O5和Na2O作为必需成分，以外添比计，含有超过0质量％且低于0.01质量％的Sb2O3。
【IPC分类】C03C3/062
【公开号】CN105565656
【申请号】CN201410554347
【发明人】田岛基弘, 井上敏, 姜敬陆, 王拓
【申请人】株式会社小原, 湖北新华光信息材料有限公司
【公开日】2016年5月11日
【申请日】2014年10月17日