1.一种固化性硅酮组合物，其包含：(a)具有烯基的聚有机硅氧烷、(b)有机氢聚硅氧烷以及(c)氢化硅烷化反应用催化剂，
所述(a)具有烯基的聚有机硅氧烷包含以下的(a1)成分和(a2)成分：
(a1)一个分子中具有至少两个碳原子数2～12的烯基的直链状或部分支链状聚有机硅氧烷；
(a2)由如下平均单元式表示的具有烯基的聚有机硅氧烷：(r13sio1/2)a(r12sio2/2)b(r1sio3/2)c(sio4/2)d，式中，r1分别独立地为碳原子数1～12的一价烃基，r1的至少1摩尔％为碳原子数2～12的烯基，a、b、c以及d满足以下所有条件：a+b+c+d＝1，a+b+c+d＝1，0≤a≤0.8，0≤b≤0.4，0≤c≤0.8，0≤d≤0.6，0.2≤c+d≤0.8，
所述(b)有机氢聚硅氧烷包含以下的(b1)成分和(b2)成分：
(b1)在分子链末端具有硅键合氢原子的直链状或部分支链状有机氢聚硅氧烷；
(b2)由如下平均单元式表示的有机氢聚硅氧烷：(r23sio1/2)e(r22sio2/2)f(r2sio3/2)g(sio4/2)h，式中，r2分别独立地为除了烯基以外的碳原子数1～12的一价烃基或氢原子，r2的至少1摩尔％为氢原子，e、f、g以及h满足以下所有条件：e+f+g+h＝1，0≤e≤0.8，0≤f≤0.4，0≤g≤0.7，0≤h≤0.5，0.2≤g+h≤0.7，
相对于(a)成分中的脂肪族不饱和碳-碳键1摩尔，(b)成分的含量为(b)成分中的硅键合氢原子成为0.5～2摩尔的量。
2.根据权利要求1所述的固化性硅酮组合物，其中，
相对于通过固化性硅酮组合物的固化反应形成非挥发性的固体成分的成分之和，(a2)成分的含量在0.5～10.0质量％的范围内，
并且，相对于通过固化性硅酮组合物的固化反应形成非挥发性的固体成分的成分之和，(b2)成分的含量在0.001～2.0质量％的范围内。
3.根据权利要求1或2所述的固化性硅酮组合物，其中，
还包含(d)一个分子中具有两个以上的烷氧基硅烷基的有机化合物。
4.根据权利要求3所述的固化性硅酮组合物，其中，
i)相对于固化性硅酮组合物的合计量，聚醚化合物的含量为0.1质量％以下，
并且，ii)相对于固化性硅酮组合物的合计量，具有环氧基和烷氧基硅烷基的化合物的含量为0.1质量％以下。
5.根据权利要求3或4所述的固化性硅酮组合物，其中，
相对于固化性硅酮组合物的合计量，(d)成分的含量在0.01～5质量％的范围内。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的固化性硅酮组合物，其中，
(c)成分选自由(c1)、(c2)以及(c3)构成的组中的成分：
(c1)不照射高能量射线而显示出活性的氢化硅烷化反应用催化剂；
(c2)通过照射高能量射线而显示出活性的氢化硅烷化反应用催化剂；
(c3)作为(c1)成分和(c2)成分的组合的氢化硅烷化反应用催化剂。
7.根据权利要求6所述的固化性硅酮组合物，其中，
所述高能量射线选自紫外线、伽马射线、x射线、α射线或电子束中。
8.根据权利要求3～10中任一项所述的固化性硅酮组合物，其中，
(d)成分包含(d1)在分子链末端具有两个烷氧基硅烷基的有机化合物。
9.根据权利要求1～8中任一项所述的固化性硅酮组合物，其中，
(a)成分的25℃下的粘度为100000mpa以下。
10.根据权利要求1～9中任一项所述的固化性硅酮组合物，其中，
所述固化性硅酮组合物为光学用粘接剂或光学用粘合剂。
11.一种固化物，其为权利要求1～10中任一项所述的固化性硅酮组合物的固化物。
12.根据权利要求14所述的固化物，其中，
25℃下的针入度在5～70的范围内。
13.一种层叠体，其具备：
粘接层，由配置于第一的透明或不透明的光学构件与第二的透明或不透明的光学构件之间的权利要求11或12所述的固化物构成。
14.一种光学装置，其具备：
基材；
光学元件，配置于所述基材；以及
权利要求11或12所述的固化物，封装所述光学元件的至少一部分。
15.一种光学显示器，其具备权利要求13所述的层叠体。
16.一种层叠体的制造方法，其包括：
配置工序，将至少含有所述(c1)不照射高能量射线而显示出活性的氢化硅烷化催化剂的权利要求6或7所述的固化性硅酮组合物配置于两个光学构件中至少一方构件中的一面或两面，使所述两个光学构件经由所述固化性硅酮组合物贴合；以及
固化工序，进行放置或加热，使所述组合物的氢化硅烷化反应进行来使所述组合物固化。
17.一种层叠体的制造方法，其包括：
配置工序，将至少含有所述(c2)通过照射高能量射线而显示出活性的氢化硅烷化催化剂的权利要求6或7所述的固化性硅酮组合物配置于两个光学构件中至少一方构件中的一面或两面，使所述两个光学构件经由所述固化性硅酮组合物贴合；以及
固化工序，高能量射线照射后，进行放置或加热，使所述组合物的氢化硅烷化反应进行来使所述组合物固化。
18.一种层叠体的制造方法，包括以下工序：
工序i)：将至少含有所述(c2)通过照射高能量射线而显示出活性的氢化硅烷化催化剂的权利要求6或7所述的固化性硅酮组合物配置于两个光学构件中至少一方构件中的一面或两面；
工序ii)：对在工序i)中配置的所述组合物进行高能量射线照射，使该组合物成为非流动性的半固化状态；
工序iii)：在工序ii)之后，使所述两个光学构件经由半固化状态的所述固化性硅酮组合物贴合；以及
工序iv)：对在工序iii)中贴合的所述两个光学构件进一步在15～80℃的温度范围内使半固化状态的所述组合物的氢化硅烷化反应进行，使所述组合物正式固化。
19.一种层叠体的制造方法，包括以下工序：
工序i)：将含有所述(c1)不照射高能量射线而显示出活性的氢化硅烷化催化剂与所述(c2)通过照射高能量射线而显示出活性的氢化硅烷化催化剂双方的权利要求6或7所述的固化性硅酮组合物配置于两个光学构件中至少一方构件中的一面或两面，是使用透明的光学构件作为至少一方构件的工序；
工序ii)：对在工序i)中配置的所述组合物在15～80℃的温度范围内使所述组合物的氢化硅烷化反应进行，使该组合物成为非流动性的半固化状态；
工序iii)：在工序ii)之后，使所述两个光学构件经由半固化状态的所述固化性硅酮组合物贴合；以及
工序iv)：关于在工序iii)中贴合的所述两个光学构件，穿过所述透明的光学构件，对所述固化性硅酮组合物进行了高能量射线照射后，在15～80℃的温度范围内使半固化状态的所述组合物的氢化硅烷化反应进行，使所述组合物正式固化。
20.一种层叠体的制造方法，包括以下工序：
工序i)：将至少含有所述(c1)不照射高能量射线而显示出活性的氢化硅烷化催化剂的权利要求6或7所述的固化性硅酮组合物配置于两个光学构件中至少一方构件中的一面或两面；
工序ii)：对在工序i)中配置的所述组合物在15～80℃的温度范围内使所述组合物的氢化硅烷化反应进行，使该组合物成为非流动性的半固化状态；
工序iii)：在工序ii)之后，使所述两个光学构件经由半固化状态的所述固化性硅酮组合物贴合；以及
工序iv)：对在工序iii)中贴合的所述两个光学构件进一步在15～80℃的温度范围内使半固化状态的所述组合物的氢化硅烷化反应进行，使所述组合物正式固化。
21.根据权利要求17～20中任一项所述的层叠体的制造方法，其中，
层叠体为光学装置。
22.根据权利要求17～20中任一项所述的层叠体的制造方法，其中，
层叠体为光学显示器。