技术特征：
1.一种γ射线辐照致使含氟共聚物具备光热双重形状记忆性能的方法，其特征在于，包括如下步骤：(1)将含氟共聚物与溶剂混合，搅拌溶解形成高分子溶液，将所述高分子溶液导入模具中，溶剂挥发形成共聚物薄膜，并在真空烘箱抽真空进一步去除溶剂；(2)将共聚物薄膜放置于
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co辐照源内，经γ射线辐照处理，经辐照一定时间后得到最终样品。2.根据权利要求1所述的γ射线辐照致使含氟共聚物具备光热双重形状记忆性能的方法，其特征在于，所述含氟共聚物为聚偏氟乙烯-三氟氯乙烯共聚物，所述溶剂为四氢呋喃。3.根据权利要求1所述的γ射线辐照致使含氟共聚物具备光热双重形状记忆性能的方法，其特征在于，所述高分子溶液其ph值指示偏酸性。4.根据权利要求1所述的γ射线辐照致使含氟共聚物具备光热双重形状记忆性能的方法，其特征在于，所述共聚物薄膜在真空烘箱中抽真空的时间为6～10h。5.根据权利要求1所述的γ射线辐照致使含氟共聚物具备光热双重形状记忆性能的方法，其特征在于，所述模具为聚四氟乙烯模具。6.根据权利要求1所述的γ射线辐照致使含氟共聚物具备光热双重形状记忆性能的方法，其特征在于，所述共聚物薄膜辐照处理中γ射线吸收剂量率为10～90gy/min，γ射线吸收总剂量为10～1200kgy。7.一种γ射线辐照致使含氟共聚物备光热双重形状记忆性能的应用，其特征在于，经过γ射线辐照改性后的含氟共聚物可以用于物体拉伸、远程控制形变，其采用权利要求1-6任一项所述的方法制备得到。
技术总结
本发明公开了一种γ射线辐照致使含氟共聚物具备光热双重形状记忆性能的方法及应用，将聚偏氟乙烯-三氟氯乙烯溶于四氢呋喃后倒入模具，溶剂挥发成膜，将膜放入
技术研发人员：朱春华 黄龙金 刘渝 徐金江 张浩斌 李洁
受保护的技术使用者：中国工程物理研究院化工材料研究所
技术研发日：2021.12.23
技术公布日：2022/4/5