1.一种半水基清洗剂，其特征在于，包括如下质量百分比的原料制备而成：去污剂5～30％，发泡剂1～15％，稳泡剂1～5％，增效剂1～10％，乳化剂1～30％，酸度调节剂≤3％，余量为溶剂；
2.根据权利要求1所述的一种半水基清洗剂，其特征在于，所述有机溶剂为高闪点有机溶剂。
3.根据权利要求2所述的一种半水基清洗剂，其特征在于，所述纯化水与所述高闪点有机溶剂的质量比为(8～25):1；
4.根据权利要求1所述的一种半水基清洗剂，其特征在于，所述酸度调节剂为磷酸、乙酸、柠檬酸、柠檬酸钠或己二酸中的至少一种。
5.根据权利要求1所述的一种半水基清洗剂，其特征在于，所述去污剂为在ph值处于3.8-6.3时稳定的阴离子表面活性剂或两性离子表面活性剂；所述发泡剂为在ph值处于3.8-6.3时稳定的非离子表面活性剂或两性离子表面活性剂。
6.根据权利要求1或5所述的一种半水基清洗剂，其特征在于，所述去污剂为十二烷基苯磺酸钠、α-烯基磺酸钠、十二烷基硫酸钠、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠或椰油酰胺丙基甜菜碱中的至少一种；
7.根据权利要求1所述的一种半水基清洗剂，其特征在于，所述稳泡剂为硅树脂聚醚乳液、阴离子聚丙烯酰胺、羧甲基纤维素钠、黄原胶、吐温或海藻酸钠中的至少一种；
8.根据权利要求1-3任一项所述的一种半水基清洗剂，其特征在于，所述去污剂为十二烷基苯磺酸钠，所述发泡剂为椰油酰两性基二乙酸二钠，所述稳泡剂为硅树脂聚醚，所述增效剂为d-柠檬烯，所述乳化剂为吐温80，所述酸度调节剂为磷酸和乙酸，所述溶剂为苯甲醇和水；
9.根据权利要求1所述的一种半水基清洗剂，其特征在于，所述原料中还包括0.1～2％的螯合剂，所述螯合剂为edta或其钠盐。
10.一种如权利要求1-9任一项所述的半水基清洗剂的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：将所述溶剂搅拌均匀后，向其中加入所述半水基清洗的剩余原料搅拌均匀，总搅拌时间＜1h；搅拌混合时的温度为25-65℃，转速为60-70rpm。