一种高折射可固化单体的制作方法

本发明涉及固化单体领域，尤其涉及一种高折射可固化单体。

背景技术：

1、高折射材料在光学镜片、透镜、高端电子薄膜、光学芯片都具有广泛的应用，一般要求其折射率高于1.58。与无机材料对比，高折射树脂具有优异的可加工性、高抗冲性、质轻等特点。相比于其他种类高折射单体，含硫高折射材料凭借其高折射、高阿贝系数、透光性好等特点引来了越来越多的关注。目前已报道的含硫高折射单体有噻二唑类，苯硫醚类，噻吩类，烷基硫醚类等。专利cn1158945315a报道了一种引入二硫键的高折射单体，但是二硫键容易被还原而发生断裂导致单体不稳定，从而限制其在一些场合的应用。但总体上来看，当前有关高折射单体的研究总体报道较少，多数产品停留在实验室研发阶段，市场上可供选择的高折射单体很少，因此，研究折射率高的可光固化单体很有意义。

技术实现思路

1、本发明的目的是提出了一种高折射可固化单体。

2、本发明的创新点在于本发明提供了一种全新的含硫高折射单官能单体并将其应用于高折射场景。

3、为实现上述发明目的，本发明的技术方案是：

4、一种高折射可固化单体，具有以下式(ⅰ)或式(ⅱ)的化学结构：

5、

6、ar为具有高折射率的芳香基团,x为氨基或硫，r为氢原子或甲基，r'为氢原子或甲基。

7、进一步地，所述式(ⅰ)为

8、

9、进一步地，所述式(ⅱ)为

10、

11、进一步地，所述式(ⅰ)或式(ⅱ)作为高折射单体应用到光固化领域。

12、1、本发明中提供了一种全新的含硫高折射单官能单体并将其应用于高折射场景。

13、2、本发明中的两种结构都可作为高折射单体应用到光固化领域。

技术特征：

1.一种高折射可固化单体，其特征在于，具有以下式(ⅰ)或式(ⅱ)的化学结构：

2.根据权利要求1所述的高折射可固化单体，其特征在于，所述式(ⅰ)为

3.根据权利要求1所述的高折射可固化单体，其特征在于，所述式(ⅱ)为

4.一种如权利要求1所述高折射可固化单体的应用，其特征在于，式(ⅰ)或式(ⅱ)作为高折射单体应用到光固化领域。

技术总结
本发明公开了一种高折射可固化单体，其特征在于，具有以下式(Ⅰ)或式(Ⅱ)的化学结构：式(Ⅰ)式(Ⅱ)。Ar为具有高折射率的芳香基团,X为氨基或硫，R为氢原子或甲基，R'为氢原子或烷基。本发明提供了一种全新的含硫高折射单官能单体并将其应用于高折射场景。

技术研发人员：聂俊,李文杰,马乐,万晓君,朱晓群
受保护的技术使用者：江苏集萃光敏电子材料研究所有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/2/29