专利名称：辐射诱发高顺式聚苯乙炔的高光敏性的制作方法
技术领域：
本发明属于制造高分子感光材料的技术。
聚苯乙炔是一种高度共轭的聚合物，理论上有四种异构体顺-顺式、顺-反式、反-顺式和反-反式。均具有光导、电导、顺磁、能量转换和迁移等特性，有作为功能性材料开发应用的前景。自1955年Natta采用Ziegler-Natta催化剂合成聚苯乙炔以来，已有很多研究报导〔C.I.Simionescu，V.Percec，Prog.Polym.Sci，8.113(1982)〕，但制得的聚苯乙炔都是粉末或凝胶，电阻率为1012-18欧·厘米，属绝缘体。近年来采用I2，ASF5，DDQ(2、3-dichloro-5、6-dicyano-P-benzoquinone)对聚苯乙炔进行掺杂，形成电荷转移络合物，或用染料(焦宁、亚甲基兰)敏化，可使聚苯乙炔显示半导体、光导体特性和较好的红外光敏性，但这些掺杂及敏化技术对反式聚苯乙炔比较有效，而对顺式聚苯乙炔效果较差。
本发明的目的是通过使用辐射技术，使高顺式聚苯乙炔具有高的红外光敏性，可作为感光材料进行开发应用，如制作静电复印机光鼓的感光材料等。
本发明的中心内容是采用我们先前开发的直接成膜聚合法〔杨慕杰、赵健、沈之荃、中国烯土学报5(2)，9，(1987)〕来制备高顺式聚苯乙炔膜。然后分别采用二种方法来提高顺式聚苯乙炔的光敏性1.膜在一定压力下(500～700Kg/cm2)受压后，用能量0.8～1.8mev;通量大于1×1015e/cm2的电子束辐照。
2.膜在一定压力(500～700Kg/cm2)受压后，用大于1×104Gy剂量的60Coγ射线辐照，或先制成聚苯乙炔的Photoreceptor(P/R)元件，然后用大于1×104Gy剂量的60Coγ射线辐照。聚苯乙炔的P/R元件由三层组成第一层铝片基，铝片经清洗烘干;第二层有机玻璃，用有机玻璃配成5～10%浓度的氯仿溶液，然后均匀涂在第一层铝片基上，于40℃烘干;第三层为高顺式聚苯乙炔/有机玻璃，即用高顺式聚苯乙炔与有机玻璃按100∶5(重量比)混合，配成氯仿稀溶液均匀涂在第二层有机玻璃上，于40℃烘干。
辐照后的样品，置于250W红外灯下，采用表面电位放电技术来衡量其光敏性，暗衰越小，光引发表面电位放电速率越高，即光敏性越好。
图1表示电子束辐照高顺式聚苯乙炔的光引发放电曲线、电子束能量1.8mev;电子束通量3×1015e/am2;测量条件光源250W红外灯;光源与样品距离11cm。
图2表示60Coγ射线辐照高顺式聚苯乙炔膜的光引发放电曲线。60Coγ射线剂量2×105Gy，测量条件同图1。
图3表示60Coγ辐照高顺式聚苯乙炔P/R元件的光引发放电曲线。60Coγ射线剂量5×104Gy，测量条件同图1。
图4表示未经辐照的高顺式聚苯乙炔膜的光引发放电曲线，测量条件同图1。
参照
实施例及其结果聚苯乙炔膜本身红外光敏性是很差的，经辐照技术处理后的高顺式聚苯乙炔膜或P/R元件，有良好的红外光敏性，而暗衰较小，正符合作为感光材料的要求。具体情况分别叙述如下一、采用60Coγ辐照
1.用2×105Gy辐照高顺式聚苯乙炔膜，其表面电位最大放电速率为618v/s，暗衰1.9v/s。随着辐照剂量增加，光引发放电速率增加，即光敏性增加。
2.聚苯乙炔(P/R)元件比聚苯乙炔膜对60Coγ射线辐照效果更好，采用5×104Gy剂量辐照P/R元件的表面电位最大放电速率达617v/s，暗衰3v/s。
3.60Coγ的辐照效应与聚苯乙炔的微结构紧密相关，高顺式聚苯乙炔必须包含有顺-反式构型的聚苯乙炔才有好的辐照效应。
二、采用电子束辐照随着电子束能量及通量的增加，聚苯乙炔膜的光引发放电速率增加，即红外光敏性增加。这二因素中，能量因素是主要的，采用1.8mev能量，3×1015e/cm2通量的电子束辐照高顺式聚苯乙炔膜，其表面电位最大放电速率为892v/s，暗衰5v/s。
权利要求
1.一种提高聚苯乙炔光敏性的技术，本发明的特征是用60Coγ射线或电子束辐照高顺式聚苯乙炔膜；或用60Coγ射线辐照高顺式聚苯乙炔Photoreceptor(P/R)元件。
2.按权利要求1所述的技术，其特征是所述的聚苯乙炔膜受压压力为500～700Kg/cm2。
3.按权利要求1所述的技术，其特征是聚苯乙炔P/R元件由三层组成第一层为铝片基，铝片经清洗烘干。第二层为有机玻璃，用有机玻璃配成5～10%浓度的氯仿溶液，然后均匀涂在上述铝片上，于40℃烘干。第三层为高顺式聚苯乙炔/有机玻璃，即用高顺式聚苯乙炔与有机玻璃按100∶5(重量比)混合，配成氯仿烯溶液均匀涂在第二层有机玻璃上，于40℃烘干。
4.按权利要求1所述的技术，其特征是60Coγ射线辐照剂量大于1×104GY。
5.按权利要求1所述的技术，其特征是电子束辐照高顺式聚苯乙炔膜的能量为0.8～1.8Mev;通量大于1×1015e/cm2。
6.按权利要求1所述的技术，其特征是所述高顺式聚苯乙炔必须包含有顺-反式构型的聚苯乙炔。
全文摘要
采用直接成膜聚合法制备高顺式聚苯乙炔膜，膜在一定压力下受压后，用高能量和较高通量的电子束或
文档编号C08J3/28GK1039037SQ8810431
公开日1990年1月24日 申请日期1988年7月7日 优先权日1988年7月7日
发明者杨慕杰, 赵健 申请人:浙江大学