一种合成异丙烯基硼酸酯的方法

文档序号:9742437阅读:738来源:国知局
一种合成异丙烯基硼酸酯的方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种合成异丙烯基硼酸酯的方法,属于药物中间体合成领域。
【背景技术】
[0002] 异丙烯基官能团在有机合成和药物合成中都非常普遍,常用的增加异丙烯基到芳 环上的方法就是通过异丙烯基硼化合物进行Suzuki偶联,例如:异丙烯基硼酸频哪醇酯可 以用来合成治疗中枢神经系统紊乱的嘧啶酮酰胺类磷酸二酯酶2抑制剂(参考: W02015096651A1)〇
[0003] 异丙烯基硼酸酯的合成目前主要采用:2-溴丙烯制备成格氏试剂,与硼酸三甲酯 反应,生成相应的异丙烯基硼酸,随后再与频哪醇反应后得到(参考:J. Am. Chem. Soc., 2006,128,16384)。该合成方法中,格氏试剂浓度超过1M时会有析出,同时需要先得到异 丙烯基硼酸,该硼酸稳定性差,容易聚合,同时自身脱水蒸馏过程中变坏。

【发明内容】

[0004] 为了克服上述缺陷,本发明公开了一种合成异丙烯基硼酸酯的方法。以丙酮为原 料,与水合肼反应生成腙,接着在NXS和有机碱存在下生成异丙烯基卤,随后与金属锂和双 (二异丙胺)卤化硼一锅法反应,接着加入二醇和阻聚剂回流反应得到异丙烯基硼酸酯,收 率65-69%。
[0005] -种合成异丙烯基硼酸酯的方法,其特征在于包括以下步骤: 第一步:将丙酮、水合肼、无水硫酸镁和甲醇混合后,室温搅拌反应完毕过滤,蒸干溶 剂,加入二氯甲烷和有机碱,控温-10°C至0°C,滴加 NXS溶解在二氯甲烷中的溶液,检测反应 完全后,加入盐酸水溶液淬灭后,分出有机层,加入环丁砜,常压精馏后得到异丙烯基卤,GC 含量99%以上,收率70-75%; 第二步:控温-l〇°C至0°C,将异丙烯基卤滴加至双(二异丙胺)卤化硼、金属锂和无水醚 溶剂中,随后升温到20°C至80°C反应;反应结束,加入二醇和阻聚剂,回流反应;反应结束, 加入环丁砜,减压蒸馏得到异丙烯基硼酸酯,GC含量99%以上,长时间保存需要额外加入产 品重量比0.2-1%的阻聚剂。
[0006] 进一步地,在上述技术方案中,第一步中,有机碱选自吡啶、DMAP、三乙胺、二异丙 基乙基胺或四甲基胍。
[0007] 进一步地,在上述技术方案中,第一步中,NXS选自NCS、NBS或NIS,对应生成的异丙 烯基卤分别为异丙烯氯、异丙烯溴或异丙烯碘。
[0008] 进一步地,在上述技术方案中,第一步中,丙酮、水合肼、无水硫酸镁、有机碱与NXS 当量比为 1:1-5:1-5:2-6:1-3。
[0009] 进一步地,在上述技术方案中,第二步中,无水醚溶剂选自四氢呋喃或2-甲基四氢 呋喃。
[0010] 进一步地,在上述技术方案中,第二步中,双(二异丙胺)卤化硼选自双(二异丙胺) 氯化硼或双(二异丙胺)溴化硼。
[0011] 进一步地,在上述技术方案中,第二步中,二醇选自频哪醇或新戊二醇。
[0012] 进一步地,在上述技术方案中,第二步中,异丙稀卤、双(二异丙胺)卤化硼、金属锂 与二醇当量比为 1:1-1.3:2-2.5:1-1.5。
[0013] 进一步地,在上述技术方案中,第二步中,阻聚剂选自吩噻嗪或2,6-二叔丁基-4- 甲基苯酚。
[0014] 发明的有益效果 本发明具有以下优点: 1)合成路线简单合理,所用原料廉价易得,产品纯度高,适合工业化放大生产。
[0015] 2)在异丙基卤与金属锂形成锂试剂后立即就可以被卤硼试剂捕获,降低了锂试剂 半衰期的影响,提高了收率;同时避免了采用镁试剂制备异丙烯基格氏试剂浓度过大,格氏 试剂析出的问题。
[0016] 3)生成的异丙烯基双(二异丙胺)硼由于位阻大,稳定性远远高于异丙烯基硼酸频 哪醇酯,通过加入环丁砜等大极性高沸点溶剂,方便了放大的操作和减少了反应后处理,进 一步降低了中间产品的损失。
[0017] 4)中间体产品可以与不同的二醇反应,加入阻聚剂后,将二异丙胺置换后,就可以 得到纯品,操作非常方便。 具体实施方案
[0018] 实施例1 异丙烯基硼酸频哪醇酯的合成:
第一步:将丙酮(58g, lmol)、75%水合肼(200g, 3mol)、无水硫酸镁(360g, 3mol)和 650mL甲醇混合后,室温搅拌反应完毕,过滤,再用30mL甲醇洗涤固体,蒸干溶剂,加入 1200mL二氯甲烷和吡啶(312g,4mol),控温-10°C至0°C,滴加 NBS(356g,2mol)溶解在 550mL二氯甲烷中的溶液。GC检测反应完全后,加入加入10%盐酸调PH=3-4,分出有机层,加 入50mL环丁砜,常压精馏分出二氯甲烷后,接收46-50°C馏分,得到89.5g浅黄色液体异丙烯 基溴,GC :99.2%,收率 74%; 第二步:将异丙烯基溴(89.58,0.74111〇1)溶解在75011^四氢呋喃中,滴加入双(二异丙 胺)氯化硼(183g,0.74mol)、金属锂(10.4g,1.5mol)和110mL四氢呋喃中,滴加过程控制 反应温度在-l〇°C至0°C。滴加完毕维持该温度反应1小时,随后升至25°C继续反应5小时。反 应结束后,加入频哪醇(98 8,0.83111〇1)、2,6-二叔丁基-4-甲基苯酚(4.58)和1201^四氢呋喃 后,升温回流反应,反应结束加入90mL环丁砜,减压蒸馏得到无色透明液体异丙烯基硼酸频 哪醇酯82. lg,收率66%,GC: 99.7%,长期保存需加入2,6-二叔丁基-4-甲基苯酚(0.45g)。
[0019] 实施例2 异丙烯基硼酸新戊二醇酯的合成:
第一步:将丙酮(58g, lmol)、75%水合肼(200g, 3mol)、无水硫酸镁(360g, 3mol)和 650mL甲醇混合后,室温搅拌反应完毕,过滤,再用30mL甲醇洗涤固体,蒸干溶剂,加入 1200mL二氯甲烷和三乙胺(506g,5mol),控温-10°C至0°C,滴加 NCS(334g,2.5mol)溶解在 420mL二氯甲烷中的溶液。GC检测反应完全后,加入加入10%盐酸调PH=3-4,分出有机层,加 入20mL环丁砜,常压精馏接收20-23°C馏分,得到54.3g无色液体异丙烯基氯,GC: 99.5%,收 率71%; 第二步:将异丙烯基氯(54.3g,0.7lmo 1)溶解在450mL2-甲基四氢呋喃中,滴加入双(二 异丙胺)溴化硼(206g,0.71mol)、金属锂(10.4g,1.5mol)和200mL2-甲基四氢呋喃中,滴 加过程控制反应温度在-l〇°C至0°C。滴加完毕维持该温度反应2小时,随后升至40°C继续反 应3小时。反应结束后,加入新戊二醇(78g,0.75mo 1)、吩噻嗪(8.5g)和110mL2-甲基四氢呋 喃后,升温回流反应,反应结束加入80mL环丁砜,减压蒸馏得到无色透明液体异丙烯基硼酸 频哪醇酯67.8g,收率62%,GC:99.4%,长期保存需加入吩噻嗪(0.67g)。
【主权项】
1. 一种合成异丙烯基硼酸酯的方法,其特征在于包括以下步骤: 第一步:将丙酮、水合肼、无水硫酸镁和甲醇混合后,室温搅拌反应完毕过滤,蒸干溶 剂,加入二氯甲烷和有机碱,控温-10°c至0°C,滴加 NXS溶解在二氯甲烷中的溶液,检测反应 完全后,加入盐酸水溶液淬灭,分出有机层,加入环丁砜,常压精馏后得到异丙烯基卤,GO# 量99%以上,收率70-75%; 第二步:控温-l〇°C至0°C,将异丙烯基卤滴加至双(二异丙胺)卤化硼、金属锂和无水醚 溶剂中,随后升温到20°C至80°C反应;反应结束,加入二醇和阻聚剂,回流反应;反应结束, 加入环丁砜,减压蒸馏得到异丙烯基硼酸酯,GC含量99%以上,长时间保存需要额外加入产 品重量比0.2-1%的阻聚剂。2. 根据权利要求1所述一种合成异丙烯基硼酸酯的方法,其特征在于:第一步中,有机 碱选自吡啶、DMAP、三乙胺、二异丙基乙基胺或四甲基胍。3. 根据权利要求1所述一种合成异丙烯基硼酸酯的方法,其特征在于:第一步中,NXS选 自NC、NBS或NIS,对应生成的异丙烯基卤分别为异丙烯氯、异丙烯溴或异丙烯碘。4. 根据权利要求1所述一种合成异丙烯基硼酸酯的方法,其特征在于:第一步中,丙酮、 水合肼、无水硫酸镁、有机碱与NXS当量比为1:1-5:1-5:2-6:1-3。5. 根据权利要求1所述一种合成异丙烯基硼酸酯的方法,其特征在于:第二步中,无水 醚溶剂选自四氢呋喃或2-甲基四氢呋喃。6. 根据权利要求1所述一种合成异丙烯基硼酸酯的方法,其特征在于:第二步中,双(二 异丙胺)卤化硼选自双(二异丙胺)氯化硼或双(二异丙胺)溴化硼。7. 根据权利要求1所述一种合成异丙烯基硼酸酯的方法,其特征在于:第二步中,二醇 选自频哪醇或新戊二醇。8. 根据权利要求1所述一种合成异丙烯基硼酸酯的方法,其特征在于:第二步中,异丙 烯卤、双(二异丙胺)卤化硼、金属锂与二醇当量比为1:1-1.3:2-2.5:1-1.5。9. 根据权利要求1所述一种合成异丙烯基硼酸酯的方法,其特征在于:第二步中,阻聚 剂选自吩噻嗪或2,6_二叔丁基-4-甲基苯酚。
【专利摘要】本发明公开了一种合成异丙烯基硼酸酯的方法。以丙酮为原料,与水合肼反应生成腙,接着在NXS和有机碱存在下生成异丙烯基卤,随后与金属锂和双(二异丙胺)卤化硼一锅法反应,接着加入二醇和阻聚剂回流反应得到异丙烯基硼酸酯,收率65-69%。该方法操作简单,纯化方便,收率高,无需超低温反应,适合工业化放大生产。
【IPC分类】C07F5/02
【公开号】CN105503923
【申请号】CN201610011092
【发明人】冷延国, 刘金洲, 冯学民
【申请人】沧州普瑞东方科技有限公司
【公开日】2016年4月20日
【申请日】2016年1月10日
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