专利名称：涂布设备的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及涂布技术，尤其涉及一种涂布设备。
背景技术：
在液晶和平板显示制造领域，制造工艺中涉及多种涂布设备，如涂布感光材料 (PHOTO RESIST,PR)的涂布设备、密封(seal)胶的涂布设备等。制造工艺中采用的掩膜技 术，在基板上镀相应膜层后，需要涂布设备在基板上均勻涂冊，以通过光照反应、化学品显 像、湿刻，最终得到相应膜层图案。现有技术中，涂布设备包括狭缝喷嘴、喷嘴支架、连接板、微分调节器及涂布液输 入管道。用涂布设备涂布ra时，狭缝喷嘴的两端通过连接板固定在喷嘴支架上，微分调节 器用来调节狭缝喷嘴与待涂布ra的基板之间的距离，涂布液输入管道设置在狭缝喷嘴顶 部，将I3R输入到狭缝喷嘴中，然后I3R通过狭缝喷嘴涂布在基板上。密封胶等涂布液的涂布 设备也有类似结构。现有技术存在的缺陷在于当待涂布ra或密封胶等涂布液的基板上残留有玻璃 碎屑类及类似于玻璃碎屑类等杂物时，涂布设备上的狭缝喷嘴易被这些杂物损坏，如，当待 涂布ra或密封胶等涂布液的基板上有玻璃碎屑时，则狭缝喷嘴会在涂布ra或密封胶等涂 布液过程当中受损，导致下次使用时出现涂布不良。且当待涂布I3R或密封胶等涂布液的基 板上残留有浮游性PARTICLE时，涂布ra或密封胶等涂布液会将PARTICLE盖在I3R或密封 胶等涂布液下面，影响涂布在基板上的I3R或密封胶等涂布液平整度，造成工艺上的不良品 率增加，最终影响良品率。
实用新型内容本实用新型提供一种涂布设备，用以克服现有技术中存在ra、密封胶等涂布不均 勻平整以及狭缝喷嘴受损的缺陷。本实用新型提供一种涂布设备，包括狭缝喷嘴，其中，所述狭缝喷嘴的一侧设置有 清洁喷嘴，所述清洁喷嘴朝向待涂布的基板，尾部连接有气体传输管道，所述清洁喷嘴与所 述气体传输管道内部连通。如上所述的涂布设备，其中，所述清洁喷嘴与所述气体传输管道之间设有通槽，所 述清洁喷嘴固定在所述通槽的底面，所述通槽的顶部与所述气体传输管道相连，所述清洁 喷嘴与所述通槽内部连通，所述通槽与所述气体传输管道内部连通。清洁喷嘴及气体传输管道可单独设置，也可与狭缝喷嘴合体设置。当清洁喷嘴与狭缝喷嘴合体设置时，所述通槽开设于所述狭缝喷嘴的侧板中。 如上所述的涂布设备，其中，所述清洁喷嘴与竖直方向的夹角可为0度 90度，优 选为30度 60度。 所述清洁喷嘴可包括第一唇板、第二唇板、第一端板及第二端板；[0013]所述第一唇板固定在所述通槽背离所述狭缝喷嘴的槽壁上，所述第二唇板固定在 所述通槽临接所述狭缝喷嘴的槽壁上；所述第一端板固定在所述第一唇板与第二唇板的一端，所述第二端板固定在所述
第一唇板与第二唇板的另一端。作为本实用新型的进一步改进，所述第一唇板与所述通槽槽壁连接的连接部的端 部，在竖直方向上可具有延伸部；所述延伸部与所述通槽槽壁的侧面连接，以增加第一唇板 的固定性。所述狭缝喷嘴的一个侧板开设有所述通槽。作为本实用新型的进一步改进，所述狭缝喷嘴的两个侧板可均开设有所述通槽， 在朝哪个方向进行涂布的时候就使用那一侧的清洁喷嘴，在涂布的方向改变时方便使用。所述气体传输管道可为用于将气体输入到所述通槽中的气体输入管道，以通过清 洁喷嘴喷出的气流对待涂布的表面进行清洁。或者，所述气体传输管道可为用于输出从所述清洁喷嘴进入到所述通槽中的气体 的气体输出管道，以通过清洁喷嘴吸走待涂布的表面上的杂质，达到清洁目的。所述清洁喷嘴的出口处可为梯形、圆弧形或波浪形等形状。所述清洁喷嘴的底部在竖直方向上低于所述狭缝喷嘴的底部，以便直接推走基板 表面的杂物，增加清洁效果。本实用新型提供的涂布设备通过清洁喷嘴对基板表面进行清洁，除掉了基板表面 的浮游性PARTICLE以及类似于玻璃碎屑类等杂物，避免了 PARTICLE存在于I3R或密封胶等 涂布液下面造成的涂布不良发生，提高了 I3R或密封胶等涂布液涂布的平整度及均勻性，使 得产品良品率提高的同时，保护了昂贵的狭缝喷嘴不受损伤，从而延长了涂布的寿命，降低 了涂布设备的维护成本。
图IA为本实用新型提供的涂布设备的结构示意图；图IB为本实用新型的第一实施例提供的涂布设备中清洁喷嘴的结构示意图即图 IA在AA方向上的剖视图；图IC为本实用新型提供的涂布设备中清洁喷嘴的立体示意图；图2为本实用新型提供的涂布设备中第一唇板的结构示意图；图3为本实用新型提供的涂布设备中第二唇板的结构示意图；图4为本实用新型提供的涂布设备中第一端板的结构示意图；图5为本实用新型提供的涂布设备应用的示意图；图6为本实用新型提供的第二实施例提供的涂布设备中清洁喷嘴的结构示意图；图7为本实用新型提供的第三实施例提供的涂布设备中清洁喷嘴的结构示意图。
具体实施方式
为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新 型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描 述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于 本实用新型保护的范围。以图IA-图7为例对本实用新型进行说明。该实用新型各实施例的涂布设备总体结构类似，如图IA所示，涂布设备包括狭缝 喷嘴1、喷嘴支架2、微分调节器6 (参见图5)、连接板5、气体清洁喷嘴9 (详见图1B)、盖板 11、气体传输管道16及涂布液输入管道17。狭缝喷嘴1由两块侧板对合而成，两块侧板对合后中间形成有一狭缝间隙。狭缝 喷嘴1经过固定螺丝4和连接板5紧固在喷嘴支架2的固定面3上，保证狭缝喷嘴1和喷 嘴支架2 —起移动，同时也便于用微分调节器6对狭缝喷嘴1进行高度调整。其中，微分调节器6如图5所示，包括旋扭7和主轴8，用于调整狭缝喷嘴1和待涂 布ra或密封胶等涂布液的基板 ο之间的距离。如液晶显示器的TFT(薄膜晶体管)制作 工艺中，通常将狭缝喷嘴1和待涂布I3R的基板10之间的距离调整在0. Imm 0. 3mm之间。该实用新型的第一实施例如图IB所示，狭缝喷嘴1的一个侧板开设有竖直方向上 的通槽21，盖板11通过盖板螺钉12固定在通槽21的顶部，通槽21的底面固定有清洁喷嘴 9，清洁喷嘴9与通槽21内部连通，如图IA所示，盖板11上设置有用于将气体输入到通槽 21中或者将气体从通槽21中输出的气体传输管道16。清洁喷嘴9距离基板的高度可调。 当清洁喷嘴9的底部在竖直方向上高于狭缝喷嘴1的底部，即清洁喷嘴9与基板10之间的 距离大于狭缝喷嘴1与基板10之间的距离时，清洁喷嘴能吹走或者吸走基板10上的杂质， 提高涂布的平整度及均勻性，同时可以保护狭缝喷嘴不受损伤。当清洁喷嘴9的底部在竖 直方向上低于狭缝喷嘴1的底部时，即清洁喷嘴9与基板10之间的距离小于狭缝喷嘴1与 基板10之间的距离时，可以吹走、吸走或者直接推走大于0. 1 0. 3mm的PARTICLE，提高涂 布的平整度及均勻性，同时可以保护狭缝喷嘴不受损伤。清洁喷嘴9的出口处的间隙宽度 可根据实际需要调节。清洁喷嘴9如图IC所示，包括如图2所示的第一唇板14、如图3所示的第二唇板 15、如图4所示的第一端板181及第二端板182。如图IB所示，第一唇板14通过喷嘴螺钉13固定在通槽21背离狭缝喷嘴1的槽 壁上，第二唇板15通过喷嘴螺钉13固定在通槽21临接狭缝喷嘴1的槽壁上。第一端板181及第二端板182均如图4所示，具有第一螺纹孔19、第二螺纹孔20。 第一端板181通过第一螺纹孔19、第二螺纹孔20固定在第一唇板14与第二唇板15的一 端，第二端板182通过第一螺纹孔19、第二螺纹孔20固定在第一唇板14与第二唇板15的 另一端。这样，清洁喷嘴9喷出或者吸入气流的间隙宽度，可以根据PARTICLE的大小、 PARTICLE的数量的多少、PARTICLE的分布以及清洁喷嘴距离基板的高度等等因素，通过第
一唇板与第二唇板进行调整。清洁喷嘴的倾斜角度可以根据PARTICLE的大小、PARTICLE的数量的多少、 PARTICLE的分布以及清洁喷嘴距离基板的高度等等因素，进行加工，倾斜角度可以设置为 30度 60度。以清洁喷嘴9喷气清洁时为例。使用时，如图5所示，当喷嘴支架2带动狭缝喷嘴 1移动到基板10边缘准备进行涂布时，由气泵或其它均勻压力将PR、密封胶等由涂布液输入管道17均勻输入狭缝喷嘴1中，并打开控制气体传输的电磁阀(或其它气动控制装置)， 气体经过气体传输管道16进入清洁喷嘴9内，通过第一唇板14与第二唇板15之间的间 隙，气流对基板10的表面进行清洁，随着喷嘴支架2均速水平移动，实现了先对基板10的 清洁，之后狭缝喷嘴1对干净的基板10涂布PR、密封胶等，避免了浮游性PARTICLE导致的 涂布的ra、密封胶等平整性差以及玻璃碎屑等杂物导致的狭缝喷嘴ι的损坏，最终实现ra、 密封胶等均勻、平整的被涂布在基板10的表面，达到平整均勻性工艺要求。需要说明的是，通槽也可开设在狭缝喷嘴的另一个侧板上，相应地，下部设置有清 洁喷嘴，通槽与清洁喷嘴的结构详见上述实施例的说明。需要说明的是，清洁喷嘴9也可通过吸气的方式吸走待涂布表面的杂质，达到清 洁目的，此时，气体输入管道替换为气体输出管道即可。并且通槽可通过另外单独设置一空 腔体来替代，而无需对狭缝喷嘴进行改动。该实用新型的第二实施例如图6所示，第一唇板14与通槽21槽壁连接的连接部 的端部，在竖直方向上具有延伸部23，该延伸部23与通槽21槽壁的侧面连接，加强了清洁 喷嘴9的稳定性。该实用新型的第三实施例如图7所示，狭缝喷嘴1的两个侧板均开设有通槽21，相 应地，通槽21下固定有清洁喷嘴9，在朝哪个方向进行涂布的时候就使用那一侧的清洁喷 嘴，在涂布的方向改变时方便使用。通槽与清洁喷嘴的结构详见上述实施例的说明。上述实施例提供的涂布设备中，清洁喷嘴的出口处可为梯形、圆弧形或波浪形等 形状，以有效地针对基板上PARTICLE多的区域，使喷出气流或吸附力更强，从而使得清洁 效果更好。例如，当上述涂布设备用于涂布密封胶时，清洁喷嘴的出口处可为梯形，其较宽的 一边朝向非显示区域，较窄的一边朝向显示区域，以保证涂布密封胶时，清洁喷嘴喷出的气 流将待涂布区域上的杂质吹向非显示区域。上述实施例中，涂布设备通过清洁喷嘴喷出气体或清洁喷嘴吸气对基板表面进行 清洁，除掉了基板表面的浮游性PARTICLE以及类似于玻璃碎屑类等杂物，避免了 PARTICLE 存在于ra或密封胶等涂布液下面造成的涂布不良发生，提高了 ra或密封胶等涂布液涂布 的平整度及均勻性，使得产品良品率提高的同时，保护了昂贵的狭缝喷嘴不受损伤，从而延 长了涂布设备的寿命，降低了涂布设备的维护成本。最后应说明的是以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限制； 尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解: 其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等 同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术 方案的精神和范围。
权利要求1.一种涂布设备，包括狭缝喷嘴，其特征在于，所述狭缝喷嘴的一侧设置有清洁喷嘴， 所述清洁喷嘴朝向待涂布的基板，尾部连接有气体传输管道，所述清洁喷嘴与所述气体传 输管道内部连通。
2.根据权利要求1所述的涂布设备，其特征在于，所述清洁喷嘴与所述气体传输管道 之间设有通槽，所述清洁喷嘴固定在所述通槽的底面，所述通槽的顶部与所述气体传输管 道相连，所述清洁喷嘴与所述通槽内部连通，所述通槽与所述气体传输管道内部连通。
3.根据权利要求2所述的涂布设备，其特征在于，所述通槽开设于所述狭缝喷嘴的侧 板中。
4.根据权利要求2所述的涂布设备，其特征在于，所述气体传输管道为用于将气体输 入到所述通槽中的气体输入管道。
5.根据权利要求2所述的涂布设备，其特征在于，所述气体传输管道为用于输出从所 述清洁喷嘴进入到所述通槽中的气体的气体输出管道。
6.根据权利要求2所述的涂布设备，其特征在于，所述清洁喷嘴与竖直方向的夹角为 30度 60度。
7.根据权利要求2-6任一所述的涂布设备，其特征在于，所述清洁喷嘴包括第一唇板、 第二唇板、第一端板及第二端板；所述第一唇板固定在所述通槽背离所述狭缝喷嘴的槽壁上，所述第二唇板固定在所述 通槽临接所述狭缝喷嘴的槽壁上；所述第一端板固定在所述第一唇板与第二唇板的一端，所述第二端板固定在所述第一 唇板与第二唇板的另一端。
8.根据权利要求7所述的涂布设备，其特征在于，所述第一唇板与所述通槽槽壁连接 的连接部的端部，在竖直方向上具有延伸部；所述延伸部与所述通槽槽壁的侧面连接。
9.根据权利要求7所述的涂布设备，其特征在于，所述狭缝喷嘴的两个侧板开设有所 述通槽。
10.根据权利要求1-6任一所述的涂布设备，其特征在于，所述清洁喷嘴的出口处为梯 形、圆弧形或波浪形。
11.根据权利要求1-6任一所述的涂布设备，其特征在于，所述清洁喷嘴的底部在竖直 方向上低于所述狭缝喷嘴的底部。
专利摘要本实用新型公开了一种涂布设备，包括狭缝喷嘴，其中，所述狭缝喷嘴的一侧设置有清洁喷嘴，所述清洁喷嘴朝向待涂布的基板，尾部连接有气体传输管道，所述清洁喷嘴与所述气体传输管道内部连通。通过清洁喷嘴对基板表面进行清洁，除掉了基板表面的浮游性PARTICLE以及类似于玻璃碎屑等杂物，避免了PARTICLE存在于PR或密封胶等涂布液下面造成的涂布不良发生，提高了PR或密封胶等涂布液涂布的平整度及均匀性。
文档编号B05C5/02GK201783440SQ20102053614
公开日2011年4月6日 申请日期2010年9月17日 优先权日2010年9月17日
发明者宋瑞涛, 张学智, 焦宇 申请人:北京京东方光电科技有限公司