专利名称：一种高密度流量喷嘴的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种用于机械雾化喷射的喷嘴。
背景技术：
目前市场上的流量喷嘴一般多为螺旋喷嘴，喷嘴本体下部为螺旋体结构，带动进入的液体旋转为涡流，然后通过喷射口喷射，现有技术对喷射口的尺寸要求和精度比较高，制作该流量喷嘴工艺较为复杂，对喷嘴本体上的螺旋要求也比较高，尺寸稍有不对就会影响喷射的效果，达不到生产所需要的喷射角度和范围，另外在进行喷射时，喷射本体的螺旋结构中容易卡塞杂质，进一步影响喷射效果，使其喷射的液体分散不均匀，密度低，有待改进。
发明内容本实用新型针对现有技术的不足，提供了一种喷射密度高、喷射均匀、有效防止杂质卡塞的高密度流量喷嘴。本实用新型为解决上述技术问题，提供了以下技术方案一种高密度流量喷嘴，包括喷嘴本体，喷嘴本体上开设有喷射腔，喷射腔底端设置有喷射口，其特征在于在喷射腔中部设置有一旋流盘将喷射腔分隔为上下两腔室，所述的旋流盘为圆形盘片，围绕圆心从外向内开设有若干个缺口。作为本实用新型的进一步改进，所述的缺口为方形，围绕圆心均匀开设。通过此种设置使旋流盘构成一旋转叶片形状，使其更符合旋流原理，加大旋流效果。作为优选，所述的缺口为4个。通过此种设置，使旋转盘均匀分布四个缺口，符合流体工程原理，加快旋流速度。作为优选，下腔室直径小于下腔室。通过此种设置使通过旋流盘的水流进入下腔室压缩旋流，加大喷射力度，提高喷射效果。所述喷射腔底端设置有喷射口。作为本实用新型的进一步改进，喷射口中心开设有扩散形通孔。通过此种设置使喷射范围更广，密度更大。作为优选，通孔为上小下大的圆锥孔。使旋流喷射效果更佳。本实用新型的有益效果本实用新型中液体经旋流盘，将主流分散为四道旋转而出的支流，四道支流沿过渡腔壁面充分旋转混合，最后经斜面喷口喷散而出，并且有效将杂质阻隔在旋流盘上方，防止其进入下腔室，有效防止射流效果和角度的改变，从而得到高密度的均匀射流，其射流密度高、射流喷洒均匀。
图1为本实用新型结构示意图。图2为旋流盘结构示意图。
具体实施方式
一种高密度流量喷嘴，包括喷嘴本体001，喷嘴本体001上开设有喷射腔011，喷射腔011底端设置有喷射口 015，在喷射腔011中部设置有一旋流盘012将喷射腔011分隔为上下两腔室(013、014 )，所述的旋流盘012为圆形盘片，围绕圆心从外向内开设有若干个缺口 121，所述的缺口 121为方形，围绕圆心均匀开设，所述的缺口 121为4个，下腔室014直径小于上腔室013，喷射腔011底端设置有喷射口 015，喷射口 015中心开设有扩散形通孔151，通孔151为上小下大的圆锥孔。
权利要求1.ー种高密度流量喷嘴，包括喷嘴本体，喷嘴本体上开设有喷射腔，喷射腔底端设置有喷射ロ，其特征在于在喷射腔中部设置有一旋流盘将喷射腔分隔为上下两腔室，所述的旋流盘为圆形盘片，围绕圆心从外向内开设有若干个缺ロ。
2.根据权利要求1所述的ー种高密度流量喷嘴，其特征在于所述的缺ロ为方形，围绕圆心均勻开设。
3.根据权利要求2所述的ー种高密度流量喷嘴，其特征在于所述的缺ロ为4个。
4.根据权利要求1所述的ー种高密度流量喷嘴，其特征在于下腔室直径小于下腔室。
5.根据权利要求1所述的ー种高密度流量喷嘴，其特征在于喷射腔底端设置有喷射□。
6.根据权利要求5所述的ー种高密度流量喷嘴，其特征在于喷射口中心开设有扩散形通孔。
7.根据权利要求5所述的ー种高密度流量喷嘴，其特征在于通孔为上小下大的圆锥孔。
专利摘要一种高密度流量喷嘴，包括喷嘴本体，喷嘴本体上开设有喷射腔，喷射腔底端设置有喷射口，在喷射腔中部设置有一旋流盘将喷射腔分隔为上下两腔室，所述的旋流盘为圆形盘片，围绕圆心从外向内开设有若干个缺口，液体经旋流盘，将主流分散为四道旋转而出的支流，四道支流沿过渡腔壁面充分旋转混合，最后经斜面喷口喷散而出，并且有效将杂质阻隔在旋流盘上方，防止其进入下腔室，有效防止射流效果和角度的改变，从而得到高密度的均匀射流，其射流密度高、射流喷洒均匀。
文档编号B05B1/34GK202860734SQ20122055680
公开日2013年4月10日 申请日期2012年10月29日 优先权日2012年10月29日
发明者吴立升, 吕为, 蔡大峰 申请人:宜兴台玉环境工程设备有限公司