专利名称：一种高压清洗机用旋转喷头装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种高压清洗机用附件，尤其涉及一种旋转接头。
背景技术：
目前市面上的高压清洗机的喷头，多为水枪连接直线喷头，喷出的水多为直线状，不能有效的对多个角度进行清洗，清洗效率较差，有效改进。为解决这一问题，现有市面上对喷头进行了改进，将喷头的出水口改成放射状，使其直线喷射面积变广，清洗范围扩大，但改结构导致出水口较大，喷射出的水柱力量较弱，不能很好的起到清洗作用，有待进一步改进。
发明内容本实用新型针对上述技术问题，提供了一种喷射范围广，水流力量强，清洗效率高，实现多角度清洗的高压清洗机用旋转喷头装置。本实用新型为解决上述技术问题，提供了以下技术方案:一种高压清洗机用旋转喷头装置，其特征在于包括与水枪连接的喷头罩体，罩体为圆锥型壳体，罩体内腔上端设置有进水基座，底端设置有出水基座，出水基座下方的罩体底部开设有放射状通孔，进水基座与出水基座之间腔体内设置有旋转体，所述的进水基座由堵头和进水舱组成，所述的堵头中心开设有进水孔，进水孔上端设置有螺纹与设置其上的水枪接头螺纹连接，堵头与罩体内壁连接处设置有密封圈，所述的进水舱为凸台状，中心开有阶梯状凹槽，凹槽底部开设有进水孔，所述进水孔设置为I飞个，偏离进水舱中心，所述的旋转体为开有中心孔圆柱体，底部为圆弧形，顶端设置有封头，旋转体内壁上开设有进水孔通连中心孔，所述旋转体外壁上设置有密封圈，所述的出水基座为阶梯状凸台中心开有放射状出水孔，基座顶面开设有碗状圆弧形凹槽，出水孔连通圆弧形凹槽，所述的旋转体底部与圆弧凹槽接触。作为本实用新型的进一步改进，所述的出水基座外壁与罩体底端连接处设置有密封圈。此种设置大大提高了密封性。作为本实用新型的进一步改进，所述的水枪接头外表面为锯齿状。作为本实用新型的进一步改进，所述的出水基座为陶瓷材料。作为本实用新型的进一步改进，所述的旋转体底部为陶瓷材料。通过将出水基座和旋转体底部都设置为陶瓷材料，有效提高了两者的寿命，防止摩擦产生的磨损。本实用新型通过在罩体内设置进水基座、旋转体、出水基座来实现本实用新型的目的，具体工作原理为:水枪管道套接于水枪接头的锯齿表面上，有效防止滑落，水枪接头与喷头罩体螺纹紧固连接，高压水枪的水进入罩体的进水基座，通过进水舱底部的若干个进水孔射入罩体腔体，由于进水孔设置为偏离中心，故射出的水为倾斜水流，带动旋转体做不规则旋转，水流通过旋转体内壁上开设的进水孔进入旋转体的中心孔，旋转体底端与出水基座的碗状圆弧形凹槽进行不规则摩擦旋转，带动中心孔射出的水流向各个方向不规则喷射，形成近似莲花的喷射形状，大大提高了清洗效率和喷射角度，并不降低水流强度。本实用新型的有益效果:本实用新型通过设置进水基座、旋转体、出水基座，大大提高了清洗效率，并延长了设备的使用寿命。
图1为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
一种高压清洗机用旋转喷头装置，包括与水枪连接的喷头罩体001，罩体001为圆锥型壳体，罩体001内腔上端设置有进水基座011，底端设置有出水基座012，出水基座012下方的罩体001底部开设有放射状通孔013，进水基座011与出水基座012之间腔体内设置有旋转体014，所述的进水基座011由堵头111和进水舱112组成，所述的堵头111中心开设有进水孔111a，进水孔Illa上端设置有螺纹与设置其上的水枪接头002螺纹连接，堵头111与罩体001内壁连接处设置有密封圈003，所述的进水舱112为凸台状，中心开有阶梯状凹槽112a，凹槽112a底部开设有进水孔112b，所述进水孔112b设置为I飞个，偏离进水舱112中心，所述的旋转体014为开有中心孔圆柱体，底部为圆弧形，顶端设置有封头141，旋转体014内壁上开设有进水孔142通连中心孔，所述旋转体014外壁上设置有密封圈143，所述的出水基座012为阶梯状凸台中心开有放射状出水孔121，基座012顶面开设有碗状圆弧形凹槽122，出水孔121连通圆弧形凹槽122，所述的旋转体014底部与圆弧凹槽122接触，所述的出水基座012外壁与罩体001底端连接处设置有密封圈，所述的水枪接头002外表面为锯齿状，所述的出水基座012为陶瓷材料，所述的旋转体014底部为陶瓷材料。对于本领域技术人员来说，在本专利构思及具体实施例启示下，能够从本专利公开内容及常识直接导出或联想到的一些变形，本领域普通技术人员将意识到也可采用其他方法，或现有技术中常用公知技术的替代，以及特征的等效变化或修饰，特征间的相互不同组合，例如密封圈还可以是O形圈或者毛毡等密封材料，等等的非实质性改动，同样可以被应用，都能实现本专利描述功能和效果，不再一一举例展开细说，均属于本专利保护范围。
权利要求1.一种高压清洗机用旋转喷头装置，其特征在于包括与水枪连接的喷头罩体，罩体为圆锥型壳体，罩体内腔上端设置有进水基座，底端设置有出水基座，出水基座下方的罩体底部开设有放射状通孔，进水基座与出水基座之间腔体内设置有旋转体，所述的进水基座由堵头和进水舱组成，所述的堵头中心开设有进水孔，进水孔上端设置有螺纹与设置其上的水枪接头螺纹连接，堵头与罩体内壁连接处设置有密封圈，所述的进水舱为凸台状，中心开有阶梯状凹槽，凹槽底部开设有进水孔，所述进水孔设置为广5个，偏离进水舱中心，所述的旋转体为开有中心孔圆柱体，底部为圆弧形，顶端设置有封头，旋转体内壁上开设有进水孔通连中心孔，所述旋转体外壁上设置有密封圈，所述的出水基座为阶梯状凸台中心开有放射状出水孔，基座顶面开设有碗状圆弧形凹槽，出水孔连通圆弧形凹槽，所述的旋转体底部与圆弧凹槽接触。
2.根据权利要求1所述的一种高压清洗机用旋转喷头装置，其特征在于所述的出水基座外壁与罩体底端连接处设置有密封圈。
3.根据权利要求1所述的一种高压清洗机用旋转喷头装置，其特征在于所述的水枪接头外表面为银齿状。
4.根据权利要求1所述的一种高压清洗机用旋转喷头装置，其特征在于所述的出水基座为陶瓷材料。
5.根据权利要求1所述的一种高压清洗机用旋转喷头装置，其特征在于所述的旋转体底部为陶瓷材料。
专利摘要一种高压清洗机用旋转喷头装置，涉及一种高压清洗机用附件，包括与水枪连接的喷头罩体，罩体内腔上端设置有进水基座，底端设置有出水基座，出水基座下方的罩体底部开设有放射状通孔，进水基座与出水基座之间腔体内设置有旋转体，所述的进水基座由堵头和进水舱组成，堵头与罩体内壁连接处设置有密封圈，所述的进水舱为凸台状，中心开有阶梯状凹槽，凹槽底部开设有进水孔，偏离进水舱中心，所述的旋转体，底部为圆弧形，顶端设置有封头，旋转体内壁上开设有进水孔通连中心孔，所述旋转体外壁上设置有密封圈，所述的出水基座为阶梯状凸台中心开有放射状出水孔，基座顶面开设有碗状圆弧形凹槽，出水孔连通圆弧形凹槽，所述的旋转体底部与圆弧凹槽接触。
文档编号B05B15/06GK202951587SQ201220638590
公开日2013年5月29日 申请日期2012年11月28日 优先权日2012年11月28日
发明者顾耀平 申请人:无锡市耀恩科技有限公司