专利名称：间隙挤压涂膜机构的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及涂膜机构，尤其涉及一种间隙挤压涂膜机构。
背景技术：
在锂离子极片生产过程中，利用现有涂抹机构进行间隙性挤压涂膜(或涂布)时，由于涂辊处的基材存在张力不平衡问题，会导致局部基材与涂辊之间存在微小的间隙，从而使涂膜过程中的基材存在一定程度的颤动；由于挤压头与涂辊之间的间隙本身也只有10(Γ150 μ m，所以涂膜收尾断开的瞬间非涂布区也会沾到浆料，从而出现极耳污物。另外，涂辊上有时会存在污物，导致刮破基材或出现涂膜划痕。上述现象都严重影响了间隙挤压涂膜产品的品质，制约了间隙挤压涂膜技术的进步，因此确有必要提供一种能够有效提高间隙挤压涂膜产品品质的间隙挤压涂膜机构。
实用新型内容本实用新型的目的在于:提供一种能够有效提高间隙挤压涂膜产品品质的间隙挤压涂膜机构。为了实现上述目的，本实用新型提供了一种间隙挤压涂膜机构，其包括涂辊、正对涂辊而对绕过涂辊的基材进行间隙涂布的挤压头，以及自动清洗及加湿平衡装置，自动清洗及加湿平衡装置设于涂辊背后未绕基材的区域。作为本实用新型间隙挤压涂膜机构的一种改进，所述自动清洗及加湿平衡装置包括喷嘴和涂辊刷板，喷嘴对准涂辊并向涂辊上喷射一定量液体介质，涂辊刷板压紧在涂辊上，利用液体介质清洗涂辊上的污物并将液体介质均匀分散到涂辊上。作为本实用新型间隙挤压涂膜机构的一种改进，所述自动清洗及加湿平衡装置还包括设于涂辊刷板两端、驱动涂辊刷板靠近或远离涂辊的气缸。作为本实用新型间隙挤压涂膜机构的一种改进，所述间隙挤压涂膜机构还包括张力平衡装置。作为本实用新型间隙挤压涂膜机构的一种改进，所述张力平衡装置为压辊式张力平衡装置、支撑式张力平衡装置和真空吸附式张力平衡装置中的一种或多种。作为本实用新型间隙挤压涂膜机构的一种改进，所述压辊式张力平衡装置设于涂辊与未涂布基材的接触处，其包括压紧在涂辊和未涂布基材上而对基材进行张力平衡的胶辊。作为本实用新型间隙挤压涂膜机构的一种改进，所述压辊式张力平衡装置还包括设于胶辊两端而对胶辊的压紧力进行调节的气缸。作为本实用新型间隙挤压涂膜机构的一种改进，所述支撑式张力平衡装置设于涂辊后已涂布基材的下方，其包括支撑于已涂布基材背面而对基材进行张力平衡的铝辊。作为本实用新型间隙挤压涂膜机构 的一种改进，所述支撑式张力平衡装置还包括设于铝辊两端而对铝辊的支撑力进行调节的气缸。[0013]作为本实用新型间隙挤压涂膜机构的一种改进，所述真空吸附式张力平衡装置设于涂辊与未涂布基材相切处前方的缝隙中，其利用真空吸头对涂辊与未涂布基材之间进行吸真空，从而利用真空原理使基材紧贴于涂辊。与现有技术相比，本实用新型间隙挤压涂膜机构通过自动清洗及加湿平衡装置清洗掉涂辊上的污物，从而避免了基材被刮破或涂膜出现划痕；同时，留在涂辊上的液体介质能够通过吸附作用平衡基材的张力，使基材紧贴于涂辊表面而避免涂膜过程中的涂膜尺寸异常波动，保证非涂布区的极耳不会存在浆料污物。
以下结合附图和具体实施方式
，对本实用新型间隙挤压涂膜机构及其有益技术效果进行详细说明，其中:
图1为本实用新型间隙挤压涂膜机构的结构示意图。
具体实施方式
为了使本实用新型的发明目的、技术方案及其有益技术效果更加清晰，
以下结合附图和具体实施方式
，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解的是，本说明书中描述的具体实施方式
仅仅是为了解释本实用新型，并非为了限定本实用新型。请参阅
图1，本实用新型间隙挤压涂膜机构包括挤压头1、涂辊2、自动清洗及加湿平衡装置及张力平衡装置。基材3绕过涂辊2，挤压头I的出料口正对涂辊2而对其上的基材3进行涂布。出料口与涂辊2之间的间隙根据被涂布基材3的厚度、浆料的粘度、涂布厚度等确定，一般为10(Γ 50μπι;根据间隙涂布的设计参数、基材3走带速度等，挤压头I随时远离或靠近涂辊2，从而对基材3进行间隙涂布。自动清洗及加湿平衡装置设于涂辊2背后未绕基材3的区域，包括喷嘴6、涂辊刷板7和气缸8。喷嘴6和涂辊刷板7都对准涂辊2，根据涂辊2转动的方向，喷嘴6在前，涂辊刷板7在后；气缸8用于驱动涂辊刷板7靠近或远离涂辊2。使用时，喷嘴6首先向涂辊2上喷射一定量液体介质，气缸8随之驱动涂辊刷板7压紧在涂辊2上，一方面利用液体介质将涂辊2上的污物清洗干净，另一方面将液体介质均匀分散到涂辊2上。由于液体介质具有吸附特性，其会将基材3紧贴在涂辊2上，从而达到平衡基材3张力的目的。为了保证涂辊刷板7对涂辊2的施力平衡，其两端都设有气缸8。喷嘴6喷出的液体介质可以是GSN(N-甲基吡咯烷酮)、酒精或其他溶剂。张力平衡装置包括压辊式张力平衡装置、支撑式张力平衡装置和真空吸附式张力平衡装置中的一种或几种。压辊式张力平衡装置设于涂辊2与未涂布基材3的接触处，其包括胶辊10和气缸
11。胶辊10在气缸11的推动下压紧在涂辊2和未涂布基材3上，从而对基材3的张力进行平衡。为了保证胶辊10对涂辊2的施力平衡，胶辊10的两端都设有气缸11。支撑式张力平衡装置设于涂辊2后已涂布基材3的下方，其包括铝辊5和气缸4。铝辊5在气缸4的推动下支撑于已涂布基材3的背面，从而对基材3的张力进行平衡。为了保证铝辊5对涂辊2的施力平衡，铝辊5的两端都设有气缸4。[0024]真空吸附式张力平衡装置设于涂辊2与未涂布基材3相切处前方的缝隙中，其是一个真空吸头9。真空吸头9对涂辊2与未涂布基材3之间进行吸真空，从而利用真空原理保证基材3紧贴于涂辊2。综上所述，本实用新型通过自动清洗及加湿平衡装置清洗掉涂辊2上的污物，从而避免了基材被刮破或涂膜出现划痕，同时，留在涂辊2上的液体介质能够通过吸附作用平衡基材3的张力；更进一步地，压辊式张力平衡装置、支撑式张力平衡装置和真空吸附式张力平衡装置分别在不同位置，通过压力、支撑力、真空原理对基材3进行张力平衡，使基材3紧贴于涂辊2表面，从而有效避免了涂膜过程中的涂膜尺寸异常波动，保证非涂布区的极耳不会存在浆料污物。根据上述说明书的揭示和教导，本实用新型所属领域的技术人员还可以对上述实施方式进行适当的变更和修改。因此，本实用新型并不局限于上面揭示和描述的具体实施方式
，对本实用新型的一些修改和变更也应当落入本实用新型的权利要求的保护范围内。此外，尽管本说明书中使用了一些特定的术语，但这些术语只是为了方便说明，并不对本实用新型构成任何限制。
权利要求1.一种间隙挤压涂膜机构，包括涂辊和正对涂辊而对绕过涂辊的基材进行间隙涂布的挤压头，其特征在于:所述间隙挤压涂膜机构还包括自动清洗及加湿平衡装置，自动清洗及加湿平衡装置设于涂辊背后未绕基材的区域。
2.根据权利要求1所述的间隙挤压涂膜机构，其特征在于:所述自动清洗及加湿平衡装置包括喷嘴和涂辊刷板，喷嘴对准涂辊并向涂辊上喷射一定量液体介质，涂辊刷板压紧在涂辊上，利用液体介质清洗涂辊上的污物并将液体介质均匀分散到涂辊上。
3.根据权利要求2所述的间隙挤压涂膜机构，其特征在于:所述自动清洗及加湿平衡装置还包括设于涂辊刷板两端、驱动涂辊刷板靠近或远离涂辊的气缸。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的间隙挤压涂膜机构，其特征在于:所述间隙挤压涂膜机构还包括张力平衡装置。
5.根据权利要求4所述的间隙挤压涂膜机构，其特征在于:所述张力平衡装置为压辊式张力平衡装置、支撑式张力平衡装置和真空吸附式张力平衡装置中的一种或多种。
6.根据权利要求5所述的间隙挤压涂膜机构，其特征在于:所述压辊式张力平衡装置设于涂辊与未涂布基材的接触处，其包括压紧在涂辊和未涂布基材上而对基材进行张力平衡的胶辊。
7.根据权利要求6所述的间隙挤压涂膜机构，其特征在于:所述压辊式张力平衡装置还包括设于胶辊两端而对胶辊的压紧力进行调节的气缸。
8.根据权利要求5所述的间隙挤压涂膜机构，其特征在于:所述支撑式张力平衡装置设于涂辊后已涂布基材的下方，其包括支撑于已涂布基材背面而对基材进行张力平衡的铝辊。
9.根据权利要求8所述的间隙挤压涂膜机构，其特征在于:所述支撑式张力平衡装置还包括设于铝辊两端而对铝辊的支撑力进行调节的气缸。
10.根据权利要求5所述的间隙挤压涂膜机构，其特征在于:所述真空吸附式张力平衡装置设于涂辊与未涂布基材相切处前方的缝隙中，其利用真空吸头对涂辊与未涂布基材之间进行吸真空，从而利用真空原理使基材紧贴于涂辊。
专利摘要本实用新型公开了一种间隙挤压涂膜机构，其包括涂辊、正对涂辊而对绕过涂辊的基材进行间隙涂布的挤压头，以及自动清洗及加湿平衡装置，自动清洗及加湿平衡装置设于涂辊背后未绕基材的区域。与现有技术相比，本实用新型间隙挤压涂膜机构通过自动清洗及加湿平衡装置清洗掉涂辊上的污物，从而避免了基材被刮破或涂膜出现划痕；同时，留在涂辊上的液体介质能够通过吸附作用平衡基材的张力，使基材紧贴于涂辊表面而避免涂膜过程中的涂膜尺寸异常波动，保证非涂布区的极耳不会存在浆料污物。
文档编号B05C5/02GK203018277SQ201320028698
公开日2013年6月26日 申请日期2013年1月21日 优先权日2013年1月21日
发明者金鹏, 邓明能, 张洪华, 张洁, 王进军, 郝志军, 田文进 申请人:宁德新能源科技有限公司