本发明涉及抛光的技术领域，特别涉及一种硅溶胶抛光液。
背景技术：
硅溶胶抛光液主要是针对大规模集成电路、发光二极管(led)蓝宝石衬底以及手机、手表等蓝宝石盖板的抛光，其市场需求量庞大。现有的硅溶胶抛光液的抛光速率低、抛光表面质量不稳定，无法完全满足市场的要求。
技术实现要素：
本发明的目的是提供一种硅溶胶抛光液，解决上述现有技术问题中的一个或者多个。
本发明提供一种硅溶胶抛光液按重量百分比包括：0.1％的edta二钠盐、0.02％的表面活性剂op-10、0.2％的氢氧化钾、0.08％的氯化钾、0.002％的甘油、0.025％的的bta和0.0008％的磷酸钠。
具体实施方式
下面的实施案例，对本发明进行进一步详细的说明。
一种硅溶胶抛光液按重量百分比包括：0.1％的edta二钠盐、0.02％的表面活性剂op-10、0.2％的氢氧化钾、0.08％的氯化钾、0.002％的甘油、0.025％的的bta和0.0008％的磷酸钠。
本发明提供的实施方案，该硅溶胶抛光液的配方，c向或a向蓝宝石以及金属件的抛光速率快，且抛完后得到的蓝宝石及金属件表面质量高。。
以上表述仅为本发明的优选方式，应当指出，对本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明创造构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些也应视为发明的保护范围之内。