一种胶印油墨用功能填料的制备工艺的制作方法

文档序号:15683209发布日期:2018-10-16 20:47阅读:373来源:国知局
本发明涉及新材料制备领域,具体涉及一种胶印油墨用功能填料的制备工艺。
背景技术
:随着印刷机械设备的更新和印刷技术的提高,单张印刷速度从每小时数千张已上升至2万张以上,则对胶印油墨的质量提出了更高的要求,除了要有一定的色浓度、较高透明度和光泽度、适宜的黏度和流动度外,还必须具有在高速印刷中的抗乳化性、抗飞墨性、干燥平衡性等,而传统的碳酸钙填料已不能完全满足高速印刷油墨的质量要求。传统的碳酸钙填料在胶印油墨中作为填充料的作用只是调节油墨的稠度和墨性,如油墨的黏度、流动度、色浓度,同时降低油墨的生产成本,而不适应高速印刷油墨的质量要求。传统的高岭土表面处理方法一般采用偶联剂处理,由于偶联剂遇水会发生水解而失去活性,所以一般偶联剂处理均为干法,其处理方法为将偶联剂溶解于一定的有机溶剂中,再将其与高岭土捏合,在一定的温度下,偶联剂与高岭土表面的羟基等活性基团反应包覆于表面。由于高岭土干粉不可能被溶解于有机溶剂中的偶联剂全部润湿,所以达不到均匀包覆的要求,同时加热所挥发的有机溶剂污染环境。若将偶联剂不加有机溶剂直接与干粉混合,则更难达到均匀包覆。技术实现要素:本发明的目的在于提供一种胶印油墨用功能填料的制备工艺,以解决现有技术中导致的上述多项缺陷。一种胶印油墨用功能填料的制备工艺,包括以下步骤:1)制备浆料:将高岭土加水配制成固含量为30%的浆料;2)浆料酸洗:用稀酸对步骤1)的浆料进行浸泡处理,溶解掉影响产品白度的fe、mn等杂质,把浆料过滤洗涤得超细高纯的高岭土浆料;3)打浆研磨:对步骤2)得到的高岭土浆料添加研磨珠进行研磨得到超细高岭土;4)表面处理:将步骤3)得到的超细高岭土包覆表面处理剂,进行液相包覆处理;5)分离干燥:将步骤4)表面处理之后的超细高岭土经过滤干燥及解聚得油墨用功能填料产品,包装入库。优选的,所述步骤3)最终得到粒径在1.5~2.0μm的超细高岭土。优选的,所述步骤4)中的表面处理剂为高聚物乳液,使得超细高岭土表面均匀包覆一层高聚物乳液层。本发明的优点在于:本发明产品首先分析了油墨在高速印刷中产生乳化原理的基础上,同时结合分析了国外进口油墨填料,从而确定了采用超细片状高岭土表面包覆聚合物乳液,提高填料与油墨树脂的相容易性。由此填料制成的油墨,即使在高速印刷的情况下,也有较好的抗乳化性和抗飞墨性。具体实施方式为使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施方式,进一步阐述本发明。一种胶印油墨用功能填料的制备工艺,包括以下步骤:1)制备浆料:将高岭土加水配制成固含量为30%的浆料;2)浆料酸洗:用稀酸对步骤1)的浆料进行浸泡处理,溶解掉影响产品白度的fe、mn等杂质,把浆料过滤洗涤得超细高纯的高岭土浆料;3)打浆研磨:对步骤2)得到的高岭土浆料添加研磨珠进行研磨得到超细高岭土;4)表面处理:将步骤3)得到的超细高岭土包覆表面处理剂,进行液相包覆处理;5)分离干燥:将步骤4)表面处理之后的超细高岭土经过滤干燥及解聚得油墨用功能填料产品,包装入库。在本实施例中,所述步骤3)最终得到粒径在1.5~2.0μm的超细高岭土。在本实施例中,所述步骤4)中的表面处理剂为高聚物乳液,使得超细高岭土表面均匀包覆一层高聚物乳液层。本产品采用市售的超细高岭土,用稀酸进行浸泡处理,溶解掉影响产品白度的fe、mn等杂质,再选用高聚物,用先进技术对其表面进行致密均匀包覆处理制成油墨用功能填料。本产品具有抗乳化性、抗飞墨性、干燥平衡性等性能特点。本产品主要技术指标如下:项目单位技术要求粒径um1.5~2.0白度%≥88吸油值%30~33ph值(10%悬浮液)/7.0~8.5项目单位质量指标透明度/透明光泽度/好流动度mm25~301、在高岭土的研磨过程中,通过稀酸处理时酸的浓度、浸泡时间,特别是研磨过程中的物料与研磨珠比等关键技术,控制研磨后高岭土粒径大小和径厚比等。2、在表面包覆处理过程中,通过高聚物乳液的优化,控制高聚物乳液的加入量和包覆的温度,从而达到致密包覆。3、结合已有工业化生产的经验,根据小中试的试验结果,做到在工程放大过程中,同时考虑等体积放大与等功率放大的因素,对放大参数的研究、基准点的判定以及放大条件的确定等进行优化,从而使小中试产品的质量指标在工业化生产线上实现。基于上述,本发明产品首先分析了油墨在高速印刷中产生乳化原理的基础上,同时结合分析了国外进口油墨填料,从而确定了采用超细片状高岭土表面包覆聚合物乳液,提高填料与油墨树脂的相容易性。由此填料制成的油墨,即使在高速印刷的情况下,也有较好的抗乳化性和抗飞墨性。由技术常识可知,本发明可以通过其它的不脱离其精神实质或必要特征的实施方案来实现。因此,上述公开的实施方案,就各方面而言,都只是举例说明,并不是仅有的。所有在本发明范围内或在等同于本发明的范围内的改变均被本发明包含。当前第1页12
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