柔性导电膜用双面硬化膜的制作方法

本发明涉及光学膜技术领域，具体而言，涉及一种柔性导电膜用双面硬化膜。

背景技术：

透明导电薄膜作为一种低电阻和高透光率的基础薄膜光电材料。被广泛应用于带电防护膜、抗静电涂层、太阳能电池、显示器等方面。对于这些固体材料来说，透光度和导电率是一对矛盾的属性，通常导电性提高会导致透光度的下降，因而可商品化的透明导电膜比较少。透明导电膜在能源、信息、国防等领域具有广泛的应用价值和重要的研究意义。在本发明出现之前，透明导电膜市场上如电容式触摸屏、纳米银类导电屏等的基材主体主要是pet的硬化膜，绝大多数均存在在使用过程中无法耐弯折，在后续生产过程中cop基材不管是涂布加工还是ito镀膜加工过程中都有断裂，不能满足高端柔性触摸屏设备的需求，只能局限于中、低端触摸屏设备的应用。

技术实现要素：

本发明的主要目的在于提供一种耐弯折，能够改善柔韧性能的柔性导电膜用双面硬化膜。

本发明的技术方案：

一种柔性导电膜用双面硬化膜，其特征在于，包括cop基材层以及涂布于所述cop基材层双侧的硬化层，至少一侧的硬化层的材料包括第一涂层组合物，所述第一涂层组合物以质量分数计包含以下组分：硅氧化纳米粒子5-40％；含活性可聚合基团的化合物5-20％、含多个可聚合不饱和基团的化合物20-80％、光引发剂0.1-10％、溶剂10-30％。

硅氧化纳米粒子选自氧化锆和二氧化硅纳米粒子；含活性可聚合基团的化合物选自甲基丙烯酸羟乙酯、含多个可聚合不饱和基团的化合物选自三(甲基)丙烯酸三羟甲基丙酯、光引发剂选自二甲基苯偶酰缩酮、溶剂选自甲苯和甲基异丁酮。

选用活性不饱和化合物时主要采用含有1-3个活性基团的化合物，且选用不含苯环的等硬段的化合物，同时通过调控第一涂层组合物的涂布干厚在0.5-3.0μm的范围，从而使此硬化层能够改善cop基材的耐弯折性能。

优选的，所述cop基材层为透过率大于92％、雾度小于0.1％的环烯烃聚合物薄膜，厚度为10-100μm，优选为20-60μm。cop基材厚度变厚会导致成本严重增加。优选厚度为20μm<厚度<60μm，是充分考虑了现有生产状况和生产成本后，所制定出来的合理范围。

优选的，所述硬化层的厚度为0.3-10μm，优选为0.5-3.0μm。厚度低于0.3μm，会导致hc层过薄，达不到改善脆性的目的，而厚度超过10μm，则会导致生产成本过高且膜更脆。

优选的，所述硬化层还包括第二涂层组合物，所述第二涂层组合物以质量分数计包含以下组分：4-甲基-2-戊酮45-55％、丙烯酸酯聚合物45-55％、2,6-二叔丁基对甲基苯酚0.2-1.0％、异丁烯酸甲酯0.2-1.0％。

优选的，所述硬化层还包括第三涂层组合物，所述第三涂层组合物以质量分数计包含以下组分：丙烯酸合成树脂45-55％、乙酸正丁酯30-40％、乙酸乙酯5-15％、2,6-二叔丁基对甲基苯酚0.2-1.0％、异丁烯酸甲酯0.2-1.0％。

优选的，所述第一涂层组合物和第二涂层组合物的质量比为100：n，0＜n≤100。

优选的，所述第一涂层组合物和第三涂层组合物的质量比为100：n，0＜n≤100。

加入第二涂层组合物或第三涂层组合物，因这两者不含有任何粒子，混合后可以降低混合胶水的粒子含量，从而可以有效提高透过率，降低雾度。

优选的，还包括设置在所述硬化层一侧的支撑层，所述支撑层的收缩率(td\md向、150℃)小于0.1％，从而保证搭配后期加工的正负翘曲在10mm以内。厚度为10-500μm，优选为20-200μm。厚度低于10μm会导致基材过薄，现有的生产工艺很难实现，而厚度超过500μm则会引起收卷困难，同时，因为厚度变厚会导致材料价格上涨。

优选的，所述支撑层的材料选自pet或tac或pc或pe或pp。

优选的，所述支撑层为自粘性支撑层或所述支撑层通过一胶层与所述硬化层贴合。所述胶层为离型胶。

有益效果：

本发明构造了cop双面硬化和pet保护膜的复合体，使其具有易加工应用性。可以运用第一涂层组合物去改善cop的耐弯折性能，能够有效的解决cop基材在后道制程的不管是涂布加工还是ito镀膜加工过程中都没有断裂的技术问题，同时可加入提高cop透过率、降低雾度的第二涂层组合物或第三涂层组合物，分别合理调控第一涂层组合物与第二涂层组合物或第三涂层组合物的比例来获得高透过率、低雾度的双面硬化膜，最终此双面硬化膜的透过率达到93％以上，雾度低于0.1％，从而应用于柔性导电膜的加工。

附图说明

构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本发明的进一步理解，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：

图1示出了本发明实施例1所述柔性导电膜用双面硬化膜的结构示意图；

图2示出了本发明实施例2所述柔性导电膜用双面硬化膜的结构示意图。

其中，1、cop基材层，2、硬化层，3、支撑层，4、胶层

具体实施方式

需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本发明。

实施例1

如图1所示，使用高透过率(≥92％)、低雾度(≤0.04％)的40μm厚的cop作为基材层1，利用溶剂pm(丙二醇甲醚)调控柔性改善胶水第一涂层组合物，具体组分为氧化锆和二氧化硅质量比例3/1的纳米粒子6％；含活性可聚合基团的甲基丙烯酸羟乙酯18％、含多个可聚合不饱和基团的化合物三(甲基)丙烯酸三羟甲基丙酯64％、光引发剂二甲基苯偶酰缩酮0.5％、溶剂甲苯、甲基异丁酮质量比例1/1的混合溶剂11.5％，固含到25％，对cop基材层涂布1.5μm的干厚形成一面硬化层2，并同时在线贴合易剥离的125μmpet支撑层3，最后对cop基材层1另一面涂布同样涂布干厚1.5μm形成另一面硬化层2，最终获得带有支撑基材的双面硬化膜。

实施例2

如图2所示，使用高透过率(≥92％)、低雾度(≤0.04％)的40μm厚的cop作为基材层1；控制胶水第一涂层组合物/第二涂层组合物质量比为80/20形成混合胶水，其中第一涂层组合物组分如下：氧化锆和氧化锌质量比例3/1的纳米粒子8％；含活性可聚合基团的甲基丙烯酸羟乙酯10％、含多个可聚合不饱和基团的化合物三(甲基)丙烯酸三羟甲基丙酯70％、光引发剂二甲基苯偶酰缩酮0.5％、溶剂甲苯、甲基异丁酮质量比例1/1的混合溶剂11.5％；第二涂层组合物组分如下：4-甲基-2-戊酮53％、丙烯酸酯聚合物46％、2,6-二叔丁基对甲基苯酚0.5％、异丁烯酸甲酯0.5％。利用溶剂mibk(甲基异丁基酮)稀释混合胶水固含到25％，利用此混合胶水对cop基材层1涂布1.5μm的干厚形成一面硬化层2，并同时在线贴合易剥离的125μmpet支撑层3，支持层3通过胶层4与硬化层2贴合，最后对cop基材层1另一面涂布同样涂布干厚1.5μm左右的混合胶水形成另一面硬化层2，最终获得带有支撑基材的双面硬化膜。

实施例3

如图1所示，使用高透过率(≥92％)、低雾度(≤0.04％)的40μm的cop作为基材层1；控制胶水第一涂层组合物/第三涂层组合物质量比为80/20形成混合胶水，其中第一涂层组合物组分如下：氧化锆和二氧化硅质量比例3/1的纳米粒子6％；含活性可聚合基团的甲基丙烯酸羟乙酯18％、含多个可聚合不饱和基团的化合物三(甲基)丙烯酸三羟甲基丙酯64％、光引发剂二甲基苯偶酰缩酮0.5％、溶剂甲苯、甲基异丁酮质量比例1/1的混合溶剂11.5％；第三涂层组合物组分如下：丙烯酸合成树脂55％、乙酸正丁酯34％、乙酸乙酯10％、2,6-二叔丁基对甲基苯酚0.5％、异丁烯酸甲酯0.5％。利用溶剂mibk稀释混合胶水固含到25％，利用此混合胶水对cop基材层涂布1.5μm的干厚形成一面硬化层2，并同时在线贴合易剥离的125μmpet支撑层3，最后，对cop基材层1另一面涂布同样涂布干厚1.5μm左右的混合胶水形成另一面硬化层2，最终获得带有支撑基材的双面硬化膜。

上述三个实施例和市售通用pet硬化膜的相关物性结果如下表，本发明所述cop双面硬化膜具有高透过、低雾度的特性，耐弯折性能优异，同时ab性能也能够根据客户要求调控。这样的带有支撑构造也便于后期客户对此硬化膜的再加工制备成导电薄膜提供了便利。

所谓ab性，指的是胶水涂布后薄膜的爽滑性，涂布后薄膜摩擦易滑动则为有ab性，反之薄膜摩擦涩不易滑动则为没有ab性能。所述第一涂层组合物本身是有粒子的所以有ab性，但是第二涂层组合物和第三涂层组合物这两种树脂的引入，由于离子性的差异导致ab性也不同，第二涂层组合物属于阴离子类型树脂，导致粒子在树脂下层所以没有ab性，第三涂层组合物是阳离子类型的树脂，使粒子能够浮在树脂表面从而具有ab性，从而可以满足不同客户的要求。

以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。