一种用于外纹理高耐磨紫外光固化转印胶及其制备方法与流程

一种用于外纹理高耐磨紫外光固化转印胶及其制备方法
【技术领域】
1.本发明涉及转印胶技术领域，尤其涉及一种用于外纹理高耐磨紫外光固化转印胶及其制备方法。


背景技术：

2.随着5g通信时代的进步，以及无线充电技术的使用，金属后盖渐渐被取代。再者，在电子产品性能竞争逐渐严峻的局势下，商家和消费者们渐渐的把视线转移到外观上面，传统的内纹理已经满足不了消费者的需求了。市场的激烈竞争推动电子产品后盖盖板的工艺也向前发展。其中，外纹理后盖是目前电子行业非常流行的新工艺。这些有纹理的塑料后盖大部分是以pc/pmma复合板、pmma板材、pc板材等塑料作为基材，首先在板材反面按正常工艺做出传统的塑料后盖后，最后在正面转印本发明中的紫外光固胶水做表面纹理。
3.在实现本发明过程中，发明人发现相关现有技术存在以下问题：现有的转印胶层经不住钢丝绒、橡皮、酒精、纸带等耐磨测试。另外，在弯折以及表面硬度等方面也达不到标准，成品进行耐紫外老化测试或高温高湿等测试后出现转印胶层与板材脱层现象等问题。


技术实现要素：

4.本发明公开了一种用于外纹理高耐磨紫外光固化转印胶及其制备方法，其可以解决背景技术中涉及的技术问题。
5.为实现上述目的，本发明的技术方案为：
6.一种用于外纹理高耐磨紫外光固化转印胶，按重量百分比计算，包括光引发剂2-5％，活性稀释剂10-15％，低聚物50-80％，助剂0-5％。
7.作为本发明的一种优选改进，所述光引发剂为二苯基-(2,4,6-三甲基苯甲酰)氧磷、2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦、苯基双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)氧化膦、1-羟基环己基苯基甲酮、2-羟基-4-(2-羟乙氧基)-2-甲基苯丙酮、2-羟基-2-甲基-1-[4-(2-羟基乙氧基)苯基]-1-丙酮、2-异丙基硫杂蒽酮中的一种或多种。
[0008]
作为本发明的一种优选改进，所述活性稀释剂为n,n-二甲基丙烯酰胺(dmaa)、2-苯氧乙基丙烯酸酯(phea)、丙烯酸异冰片酯(iboa)、1,6-己二醇二丙烯酸酯(hdda)、1,4丁二醇二丙烯酸酯(bdda)、二缩三丙二醇二丙烯酸酯(tpgda)、二缩丙二醇二丙烯酸酯(dpgda)、三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯(tcdda)、季戊四醇三丙烯酸酯(peta)、3(乙氧基)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(tmp(eo)3ta)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(tmpta)、双季戊四醇六丙烯酸酯(dpha)中的一种或多种。
[0009]
作为本发明的一种优选改进，所述低聚物为纯丙烯酸酯树脂、聚氨酯丙烯酸酯树脂、聚酯丙烯酸酯树脂、丙烯酸酯官能化的聚丙烯酸酯树脂中的一种或多种。
[0010]
作为本发明的一种优选改进，所述助剂为氟或硅改性助剂光吸收剂、偶联剂、光稳定剂、流平剂、氟或硅改性助剂中的一种或多种。
[0011]
本发明还提供了一种所述的用于外纹理高耐磨紫外光固化转印胶的制备方法，该
制备方法包括如下步骤：
[0012]
步骤一、向反应釜中加入光引发剂和活性稀释剂后，进行第一次搅拌；
[0013]
步骤二、在第一次搅拌均匀后，向反应釜中继续加入低聚物和助剂进行第二次搅拌；
[0014]
步骤三、在第二次搅拌均匀后，过滤并遮光密封保存紫外光固化转印胶。
[0015]
作为本发明的一种优选改进，第一次搅拌为以300-500r/min的速率，搅拌10-30min。
[0016]
作为本发明的一种优选改进，第二次搅拌为以1000r/min的速率，搅拌0.5-2h。
[0017]
本发明有益效果在于：胶层硬度高、耐磨性好、附着力强且抗弯折性能优异，不仅如此，抗老化和冷热冲击性能也符合预期。
【具体实施方式】
[0018]
下面将结合本发明实施例对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。
[0019]
另外，本发明各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本发明要求的保护范围之内。
[0020]
本发明提供一种用于外纹理高耐磨紫外光固化转印胶，按重量百分比计算，包括光引发剂2-5％，活性稀释剂10-15％，低聚物50-80％，助剂0-5％。
[0021]
具体的，所述光引发剂为二苯基-(2,4,6-三甲基苯甲酰)氧磷、2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦、苯基双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)氧化膦、1-羟基环己基苯基甲酮、2-羟基-4-(2-羟乙氧基)-2-甲基苯丙酮、2-羟基-2-甲基-1-[4-(2-羟基乙氧基)苯基]-1-丙酮、2-异丙基硫杂蒽酮中的一种或多种。所述光引发剂吸收紫外光产生自由基，自由基引发体系中的不饱和双键发生自由基聚合反应，体系聚合交联形成大分子的过程。
[0022]
所述活性稀释剂为n,n-二甲基丙烯酰胺(dmaa)、2-苯氧乙基丙烯酸酯(phea)、丙烯酸异冰片酯(iboa)、1,6-己二醇二丙烯酸酯(hdda)、1,4丁二醇二丙烯酸酯(bdda)、二缩三丙二醇二丙烯酸酯(tpgda)、二缩丙二醇二丙烯酸酯(dpgda)、三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯(tcdda)、季戊四醇三丙烯酸酯(peta)、3(乙氧基)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(tmp(eo)3ta)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(tmpta)、双季戊四醇六丙烯酸酯(dpha)中的一种或多种。所述活性稀释剂采用单官能度、双光能度和多光能度复配以获得更好的润湿性。
[0023]
所述低聚物为纯丙烯酸酯树脂、聚氨酯丙烯酸酯树脂、聚酯丙烯酸酯树脂、丙烯酸酯官能化的聚丙烯酸酯树脂中的一种或多种。具体的，采用官能度为双官能度及多光能度的低聚物复配，这些低聚物的固化反应快、与基材附着力好、耐磨性佳。
[0024]
所述助剂为光吸收剂、偶联剂、光稳定剂、流平剂、氟或硅改性助剂中的一种或多种，可以提高表面防污效果。
[0025]
本发明还提供了一种所述的用于外纹理高耐磨紫外光固化转印胶的制备方法，该制备方法包括如下步骤：
[0026]
步骤一、向反应釜中加入光引发剂和活性稀释剂后，进行第一次搅拌；
[0027]
步骤二、在第一次搅拌均匀后，向反应釜中继续加入低聚物和助剂进行第二次搅拌；
[0028]
步骤三、在第二次搅拌均匀后，过滤并遮光密封保存紫外光固化转印胶。
[0029]
作为本发明的一种优选改进，第一次搅拌为以300-500r/min的速率，搅拌10-30min。
[0030]
作为本发明的一种优选改进，第二次搅拌为以1000r/min的速率，搅拌0.5-2h。
[0031]
对本发明制备的紫外光固化转印胶进行实验检测，结果如下如表1所示：
[0032]
表1
[0033][0034][0035]
本发明制备的紫外光固化转印胶与现有在售转印胶的性能测试对比如表2所示：
[0036]
表2
[0037]
[0038]
由表2可以看出，对比例1和2为现有在售的紫外光固化转印胶：ng为不合格，ok为合格。
[0039]
本发明有益效果在于：胶层硬度高、耐磨性好、附着力强且抗弯折性能优异，不仅如此，抗老化和冷热冲击性能也符合预期。
[0040]
尽管本发明的实施方案已公开如上，但并不仅仅限于说明书和实施方案中所列运用，它完全可以被适用于各种适合本发明的领域，对于熟悉本领域的人员而言，可容易地实现另外的修改，因此在不背离权利要求及等同范围所限定的一般概念下，本发明并不限于特定的细节。