水。
[0060]采用上述的抛光液进行抛光实验:
[0061]抛光材料:2英寸蓝宝石片；
[0062]抛光机台:Speed32SPAW ；
[0063]抛光压力:400g/cm2；
[0064]抛光转速:60rpm；
[0065]抛光垫:SUBA600；
[0066]抛光速率:7微米/小时。
[0067]表面没有明显的划伤。
[0068]实施例3
[0069]用于抛光蓝宝石的化学机械抛光液的主要成分及其含量:
[0070]三氧化二铝:35wt%
[0071]二氧化硅:1wt %
[0072]pH:11.5
[0073]NaOH:0.1wt %
[0074]乙二胺四甲基膦酸钠:0.01wt%
[0075]其余为水。
[0076]采用上述的抛光液进行抛光实验:
[0077]抛光材料'2英寸蓝宝石片；
[0078]抛光机台:Speed32SPAW ；
[0079]抛光压力:400g/cm2；
[0080]抛光转速:60rpm；
[0081]抛光垫:SUBA600;
[0082]抛光速率:9微米/小时。
[0083]表面没有明显的划伤。
[0084]实施例4
[0085]用于抛光蓝宝石的化学机械抛光液的主要成分及其含量:
[0086]三氧化二铝:1wt%
[0087]二氧化硅:20wt%
[0088]pH:11.5
[0089]NaOH:0.1wt%
[0090]乙二胺四甲基膦酸钠:0.01%
[0091]其余为水
[0092]采用上述的抛光液进行抛光实验:
[0093]抛光材料:2英寸蓝宝石片；
[0094]抛光机台:Speed32SPAW ；
[0095]抛光压力:400g/cm2；
[0096]抛光转速:60rpm；
[0097]抛光垫:SUBA600；
[0098]抛光速率:5微米/小时。
[0099]表面没有明显的划伤。
[0100]对比例I
[0101]用于抛光蓝宝石的化学机械抛光液的主要成分及其含量:
[0102]二氧化娃:1wt %、20wt %、30wt % 或 45wt %
[0103]pH:11.5
[0104]NaOH:0.1wt %
[0105]乙二胺四甲基膦酸钠:0.01wt%
[0106]其余为水
[0107]采用上述的抛光液进行抛光实验:
[0108]抛光材料:2英寸蓝宝石片；
[0109]抛光机台:Speed32SPAW ;
[0110]抛光压力:400g/cm2;
[0111]抛光转速:60rpm;
[0112]抛光垫:SUBA600;
[0113]抛光速率:最大为2微米/小时。
[0114]表面没有明显的划伤。
[0115]对比例2
[0116]用于抛光蓝宝石的化学机械抛光液的主要成分及其含量:
[0117]三氧化二销:1wt%、20wt %、30wt % 或 45wt %
[0118]pH:11.5
[0119]NaOH:0.1wt %
[0120]乙二胺四甲基膦酸钠:0.01wt%
[0121]其余为水。
[0122]采用上述的抛光液进行抛光实验:
[0123]抛光材料:2英寸蓝宝石片；
[0124]抛光机台:Speed32SPAW ;
[0125]抛光压力:400g/cm2；
[0126]抛光转速:60rpm;
[0127]抛光垫:SUBA600;
[0128]抛光速率:最大为4微米/小时。
[0129]表面没有明显的划伤。
[0130]以上所述，仅为本发明的较佳实施例，并非对本发明任何形式上和实质上的限制，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员，在不脱离本发明方法的前提下，还将可以做出若干改进和补充，这些改进和补充也应视为本发明的保护范围。凡熟悉本专业的技术人员，在不脱离本发明的精神和范围的情况下，当可利用以上所揭示的技术内容而做出的些许更动、修饰与演变的等同变化，均为本发明的等效实施例；同时，凡依据本发明的实质技术对上述实施例所作的任何等同变化的更动、修饰与演变，均仍属于本发明的技术方案的范围内。
【主权项】
1.一种化学机械抛光液，含有复合磨料，所述复合磨料由二氧化硅和三氧化二铝组成。
2.根据权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述复合磨料中，二氧化硅和三氧化二铝的重量比为0.1:1?3:1。
3.根据权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述复合磨料中，二氧化硅的质量百分比为10-45wt% ;三氧化二铝的质量百分比为10-45wt%。
4.根据权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述化学机械抛光液还含有pH值调节剂、螯合剂和表面活性剂。
5.根据权利要求5所述的化学机械抛光液，其特征在于，述pH值调节剂选自KOH、NaOH、氨水、四甲基氢氧化氨、有机胺中的任意一种或多种的组合。
6.根据权利要求5所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述螯合剂选自多胺、多膦酸、多氨基羧酸、多氨基膦酸中的任意一种或多种的组合。
7.根据权利要求5所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述表面活性剂选自非离子表面活性剂、阴离子表面活性剂和阳离子表面活性剂中的任意一种或多种的组合。
8.如权利要求1?7任一权利要求所述的化学机械抛光液的制备方法，包括抛光液的配置步骤和过滤步骤。
9.如权利要求1?7任一权利要求所述的化学机械抛光液在抛光领域的用途。
10.根据权利要求9所述的用途，其特征在于，所述用途具体为用于抛光蓝宝石的用途。
【专利摘要】本发明涉及化学抛光领域，具体涉及一种含复合磨料的化学机械抛光液及其制备方法。所述化学机械抛光液，含有复合磨料，所述复合磨料由二氧化硅和三氧化二铝组成。所述复合磨料中，二氧化硅和三氧化二铝的重量比为0.1:1~3:1。本发明利用二氧化硅的化学活性和三氧化二铝的硬度之间的协同作用，可有效地提高蓝宝石的抛光效率。
【IPC分类】C09G1-02
【公开号】CN104559799
【申请号】CN201410852457
【发明人】刘卫丽, 宋志棠
【申请人】上海新安纳电子科技有限公司, 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
【公开日】2015年4月29日
【申请日】2014年12月31日