稳定的高度微调机构的制作方法

本实用新型总体而言涉及高度调整机构领域，具体而言，涉及一种用于对上料器进行稳定的高度微调的机构。

背景技术：

目前，在磁材检测领域中，自动检测设备包括有自动上料这一重要环节。在现有的自动上料过程中，通常使用振动上料器向传输装置中自动送入磁材工件。在使用振动上料器进行自动上料时，为确保磁材工件在由振动上料器至传输装置的过程中姿态的正确性，就需严格控制振动上料器出口与传输装置之间的高度差。而一台振动上料器可以应用于多种磁材工件的上料场合，并不仅对应一个传输装置，但不同的传输装置的高度、结构会有所不同，而且每种规格的磁材工件对于姿态的调整的高度需求也不相同，因此，振动上料器的高度必须能够进行调整，以满足对应不同传输装置的需求。目前的振动上料器由于强度需求，通常为固定结构，因此如何实现振动上料器方便地进行调整，是业界急需解决的问题。

技术实现要素：

本实用新型的一个主要目的在于克服上述现有技术的至少一种缺陷，提供一种方便进行高度微调、且调整过程稳定可靠的稳定的高度微调机构。

为实现上述实用新型目的，本实用新型采用如下技术方案：

根据本实用新型的一个方面，提供了一种稳定的高度微调机构，用于对一本体的高度进行精确微调，包括：

基座；

限位结构，所述限位结构连接于所述基座与所述本体之间，以使所述基座与所述本体之间的水平相对位置固定不变；

微调块，所述微调块一端设置有第二楔形块，所述第二楔形块与所述本体上的第一楔形块相互配合，所述微调块的另一端能够滑动地安装于所述基座上。

根据本实用新型的一实施方式，所述限位结构包括有相互配合的直线轴承与圆柱轴，所述直线轴承固定连接所述本体和所述基座中的任一个，所述圆柱轴滑动套接所述本体和所述基座中的另一个。

根据本实用新型的一实施方式，所述本体下部通过第一板连接所述第一楔形块，所述第二楔形块下部设置有第二板，所述基座上方设置有第三板，所述第二板滑动连接所述第三板。

根据本实用新型的一实施方式，所述楔形配合角度α位于第一角度区域，或者所述楔形配合角度α位于第三角度区域中；其中，所述第一角度区域为完全自锁区域，第三角度区域为完全非自锁区域，第二角度区域位于所述第一角度区域和所述第三角度区域之外区域，为过渡区域。

根据本实用新型的一实施方式，所述角度α为10-20度或者40-50度。

根据本实用新型的一实施方式，所述基座对应所述微调块的配合面上设置有滑动垫块，所述滑动垫块与所述微调块之间滑动配合。

根据本实用新型的一实施方式，所述微调块与所述基座之间设置有导向平键，以限定所述微调块相对所述基座滑动的方向。

根据本实用新型的一实施方式，所述稳定的高度微调机构还包括有调节螺杆，以调整所述微调块与所述基座之间的相对位置。

根据本实用新型的一实施方式，所述稳定的高度微调机构还包括有锁止结构，以锁止所述本体与所述基座之间的相对位置。

根据本实用新型的一实施方式，所述本体为振动上料器。

由上述技术方案可知，本实用新型的稳定的高度微调机构的优点和积极效果在于：

本实用新型中，采用限位结构使基座与本体之间的水平相对位置固定不变，采用微调块楔形配合本体并滑动配合基座，使得本体相对于基座高度能够稳定地进行微调，而且该调整过程中基座与本体之间在水平方向上的位置保持不变，仅进行高度调整，并保证了该高度调整的可控性，从而确保其高度位置的准确性。

附图说明

通过结合附图考虑以下对本实用新型的优选实施例的详细说明，本实用新型的各种目标、特征和优点将变得更加显而易见。附图仅为本实用新型的示范性图解，并非一定是按比例绘制。在附图中，同样的附图标记始终表示相同或类似的部件。其中：

图1是一示例性实施例中示出的本实用新型稳定的高度微调机构的结构示意图。

图2是一示例性实施例中示出的本实用新型稳定的高度微调机构中微调块动作原理示意图。

图3是一示例性实施例中示出的本实用新型稳定的高度微调机构中微调块配合基座第一状态示意图。

图4是一示例性实施例中示出的本实用新型稳定的高度微调机构中微调块配合基座第二状态示意图。

图5是一示例性实施例中示出的本实用新型稳定的高度微调机构中微调块配合基座第三状态示意图。

图6是一完全自锁状态实施例的分解结构示意图。

图7是一完全自锁状态实施例的组合结构示意图。

图8是一完全非自锁状态实施例的分解结构示意图。

图9是一完全非自锁状态实施例的组合结构示意图。

其中，附图标记说明如下：

1、本体；11、第一板；12、第一楔形块；2、基座；21、第三板；3、微调块；31、第二板；32、第二楔形块；4、限位结构；41、直线轴承；42、圆柱轴；5、导向平键；6、调节螺杆；7、锁定板；101、201、上楔形块；102、202、下楔形块；103、203、基座；104、204、连接板；205、滑块。

具体实施方式

现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的实施方式；相反，提供这些实施方式使得本实用新型将全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。图中相同的附图标记表示相同或类似的结构，因而将省略它们的详细描述。

在对本实用新型的不同示例的下面描述中，参照附图进行，所述附图形成本实用新型的一部分，并且其中以示例方式显示了可实现本实用新型的多个方面的不同示例性结构、系统和步骤。应理解，可以使用部件、结构、示例性装置、系统和步骤的其他特定方案，并且可在不偏离本实用新型范围的情况下进行结构和功能性修改。而且，虽然本说明书中可使用术语“顶部”、“底部”、“前部”、“后部”、“侧部”等来描述本实用新型的不同示例性特征和元件，但是这些术语用于本文中仅出于方便，例如根据附图中所述的示例的方向。本说明书中的任何内容都不应理解为需要结构的特定三维方向才落入本实用新型的范围内。

图1是一示例性实施例中示出的本实用新型稳定的高度微调机构的结构示意图。如图1所示，该实施例的稳定的高度微调机构，用于对一本体1的高度进行精确微调。该实施例中，该本体1包括振动上料器(图中未示出)及其安装结构，安装结构包括第一板11和第一楔形块12，但在其他实施方式中可以是其他需要调整高度的装置，在此不做具体限制。该实施例中，第一板11用以支撑本体1的功能性结构，第一板11中心位置上设置有穿孔，第一板11的下部设置有第一楔形块12。第一楔形块12共有四个，分设于第一板11的四个角部，以提高配合的稳定性。

该实施例的高度微调机构包括基座2、限位结构4和微调块3。其中，基座2为支撑座体结构，具有较高强度，并通过连接件进行固定，使得基座2能够稳定支撑本体1、限位结构4和微调块3。基座2顶部为第三板21，第三板21作为支撑面使用。

该实施例中，限位结构4连接于基座2与本体1之间，以使基座2与本体1之间的水平相对位置固定不变。该实施例中，限位结构4的具体结构为相互配合的直线轴承41与圆柱轴42，直线轴承41固定连接基座2，圆柱轴42滑动套接第一板11上的穿孔内。在其他具体实施例中，也可以是直线轴承41固定连接本体1，圆柱轴42滑动套接基座2。另外，限位结构还可以是其他结构，如图2所示的相对滑动套接结构，其他不一一例举，只要可以实现限位功能即可。

该实施例中，微调块3包括第二板31和第二楔形块32。第二板31滑动连接第三板21，在该实施例中，在第三板21上安装滑动垫块(图中未示出)，第二板31与该滑动垫块之间滑动配合，以降低滑动阻力，即降低微调块3与基座2之间摩擦系数。该实施例中，还可选择地在微调块3与基座2之间设置有导向平键5，以限定微调块3相对基座2滑动的方向。第二板31的上面设置第二楔形块32，第二楔形块32为四个，分别布设于第二板31的四个角部。第二楔形块32与本体1上的第一楔形块12相互配合，形成楔形配合结构。楔形配合的具体结构会在下面专门展开说明。

该实施例中，参考图1和图6所示，还可选择地设置了操作结构和锁止结构。其中，操作结构用来调整微调块3与基座2之间的相对位置。该实施例中，操作结构为调节螺杆6，通过螺纹副的配合，调节微调块3与基座2的相对位置。锁止结构用来锁止本体1基座2之间的相对位置，该实施例中，锁止结构是设置于第一板12与第三板21之间的锁定板7，也可以根据情况设置为第一板12和第三板21上贯穿的锁定销，还可以是其他能够起到锁止作用的结构。

该实施例中，楔形配合角度α位于第一角度区域或者第三角度区域中。其中，第一角度区域为完全自锁区域，此时微调块3与本体1之间处于第一状态即完全自锁状态；第三角度区域为完全非自锁区域，此时微调块3与本体1之间处于第三状态即完全非自锁状态；第二角度区域位于第一角度区域和第三角度区域之外区域，为过渡区域，此时微调块3与本体1之间处于第二状态即过渡状态。

针对“完全自锁”、“完全非自锁”和“过渡”等区域和状态，以下分别通过受力分析和计算来展开说明。图2是一示例性实施例中示出的本实用新型稳定的高度微调机构中微调块3动作原理示意图。如图2所示，α为楔形块倾角，μ₁为第一楔形块12与第二楔形块32之间的摩擦系数、μ₂为微调块3与基座2之间的摩擦系数。

第一状态如图3所示，图3是一示例性实施例中示出的本实用新型稳定的高度微调机构中微调块3配合基座2第一状态示意图。

自锁条件为：F_动＝f_1s＜μ_1k·N₁

其中：f_1s为微调块3与基座2之间静摩擦力；

F_动为本体1通过第一楔形块12与第二楔形块32配合后产生的对微调块3沿基座2水平方向的合力；

μ_1k为微调块3与基座2之间的动摩擦系数；

N₁为微调块3所受由基座2提供的竖直向上的支持力。

第二状态如图4所示，图4是一示例性实施例中示出的本实用新型稳定的高度微调机构中微调块3配合基座2第二状态示意图。

过渡状态条件为：F_动＝f_1s

f_1k＜f_1s＜f_1sMAX

其中：f_1sMAX为微调块3与基座2之间的可能的最大静摩擦力，为μ_1s与N₁的乘积，其中μ_1s为微调块3和基座2之间的静摩擦系数。

f_1k为μ_1k与N₁的乘积，μ_1k为微调块3和基座2之间的动摩擦系数。

通常设计中，楔形配合位于该区域中，楔形配合对象处于过渡状态。该过渡状态既不是完全自锁状态，也不是完全不自锁状态。可能会出现假性锁紧，即在停止相对移动后，又可能由于外力干扰，而产生意外的相对移动，其配合位置具有不确定性，使得采用该种配合的高度调整位置难以确定，十分不稳定。

第三状态如图5所示，图5是一示例性实施例中示出的本实用新型稳定的高度微调机构中微调块3配合基座2第三状态示意图。

完全非自锁条件为：F_动＝f_1s+F_外

F_动＞f_1sMAX＝μ_1s·N₁

其中：F_外是为维持微调块3平衡态，对其施加的补偿性质的水平力；

该实施例中，需要调整第一楔形块12与第二楔形块32之间的摩擦系数以及微调块3与基座2之间的摩擦系数，并使楔形配合角度α落在第一角度区域和第三角度区域中。这种设计，打破了常规选择，常规选择通常在30±5度角的楔形配合并处于第二角度区域，虽然调整力合适，但常常出现轻微扰动后本体1失去平衡突然下沉。

如图6和图7所示，示出了完全自锁状态的实施例的具体结构，该实施例中，上楔形块101与下楔形块102的材质均为钢材，上楔形块101与下楔形块102之间楔形配合角度为10-20度，例如为15度，楔形配合面粗糙度值为[Ra0.8，Ra3.2]，采用粗磨或半精磨的加工工艺。该实施例中，基座103和连接板104的材质也均为钢材，基座103和连接板104之间的配合面粗糙度值为[Ra0.8，Ra3.2]，采用粗磨或半精磨的加工工艺。

如图8和图9所示，示出了完全自锁状态的实施例的具体结构，该实施例中，上楔形块201与下楔形块202的材质均为钢材，上楔形块201与下楔形块202之间楔形配合角度为40-50度，例如为45度，楔形配合面粗糙度值小于等于Ra0.8，采用精磨或半精磨的加工工艺。该实施例中，基座203和连接板204的材质也均为钢材，基座203和连接板204之间采用滑块205配合，该滑块205嵌入到基座203中，为自润滑工程塑料，可以是聚四氟乙烯、聚苯酯、含油尼龙、聚醚醚酮、聚酰亚胺、对位聚苯、聚苯硫醚中的任一种。该实施例中，滑块205与连接板204之间的配合面粗糙度值小于等于Ra0.8，连接板204采用精磨或半精磨的加工工艺，滑块205采用精铣或半精铣的加工工艺。另外根据需要也可以采用下面方案：基座203和连接板204均为钢材，且基座203和连接板204之间的配合面粗糙度值小于等于Ra0.8，也可在基座203和连接板204的配合面中加注润滑油脂以进一步降低配合面的摩擦系数。

以上结合附图示例说明了本实用新型的一些优选实施例式。本实用新型所属技术领域的普通技术人员应当理解，上述具体实施方式部分中所示出的具体结构和工艺过程仅仅为示例性的，而非限制性的。而且，本实用新型所属技术领域的普通技术人员可对以上所述所示的各种技术特征按照各种可能的方式进行组合以构成新的技术方案，或者进行其它改动，而都属于本实用新型的范围之内。