本实用新型涉及一种铜氨液工作液罐。
背景技术：
在生产碱式氯化铜的工艺中，铜氨液工作液需要经过预处理去除里面的油污、砷等杂质，通常是经过反应罐处理将里面的杂质去除掉，之后存放在铜氨液工作液罐中。但是处理后的铜氨液工作液中还是会有杂质，长时间存在后杂质会在铜氨液工作液罐的底部杂质覆集，从而造成堵罐。
技术实现要素：
基于此，提供一种不容易堵罐的铜氨液工作液罐。
一种铜氨液工作液罐，包括罐体；
所述罐体的顶部的形状为凸起的曲面，所述罐体的顶部设有进料口和排气口；
所述罐体的侧壁的下部设有第一出料口和第二出料口，所述第一出料口位于所述罐体的侧壁的下端，所述第二出料口比所述第一出料口高0.6m～1.5m。
在一个实施例中，所述第二出料口比所述第一出料口高0.8m。
在一个实施例中，所述排气口位于所述罐体的顶部的中心。
在一个实施例中，所述排气口处设有排气弯管，所述排气弯管的一端通过所述排气口与所述罐体的内部连通，所述排气弯管的另一端的开口方向向下。
在一个实施例中，所述排气弯管为半圆环状或半椭圆环状。
在一个实施例中，所述罐体的顶部的形状为凸起的半球面或半椭球面。
在一个实施例中，所述罐体的顶部还设有第一人孔，所述罐体的侧壁还设有第二人孔。
在一个实施例中，所述罐体的顶部还设有两个备用口，两个所述备用口以及所述进料口位于同一圆周上。
在一个实施例中，所述罐体的侧壁的上端还设有相对设置的两个吊耳。
这种铜氨液工作液罐的罐体的侧壁的下部设有第一出料口和第二出料口，第一出料口位于罐体的侧壁的下端，第二出料口比第一出料口高0.6m～1.5m。通过设置比第一出料口高的第二出料口，从而避免了在罐体底部覆集的杂质堵罐，此外，还可以在杂质覆集较少时，通过开启第一出料口将杂质排除。相对于传统的铜氨液工作液罐，这种铜氨液工作液罐不容易堵罐。
附图说明
图1为一实施方式的铜氨液工作液罐的结构示意图。
具体实施方式
为了便于理解本实用新型，下面主要结合具体附图对本实用新型作进一步详细的说明。
附图中给出了本实用新型较佳的实施方式。但是，本实用新型可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施方式。相反地，提供这些实施方式的目的是使对本实用新型的公开内容理解的更加透彻全面。
需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。
除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本实用新型。
结合图1，一实施方式的铜氨液工作液罐，罐体10。
罐体10的顶部的形状为凸起的曲面，罐体10的顶部设有进料口11、排气口12、第一人孔13以及两个备用口(图中未显示)。
优选的，两个备用口以及进料口11位于同一圆周上。
具体来说，本实施方式中，罐体10的顶部的形状为凸起的半球面。在其他的实施方式中，罐体10的顶部的形状还可以为半椭球面。
排气口12位于罐体10的顶部的中心。
优选的，本实施方式中，排气口12处设有排气弯管14。排气弯管14的一端通过排气口12与罐体10的内部连通，排气弯管14的另一端的开口方向向下。
排气弯管14可以为折线状、曲线状。特别优选的，排气弯管14为半圆环状或半椭圆环状。
罐体10的侧壁的下部设有第一出料口15、第二出料口16和第二人孔17。
具体来说，本实施方式中，第一出料口15位于罐体10的侧壁的下端，第二出料口16比第一出料口15高0.6m～1.5m。
优选的，第二出料口15比第一出料口16高0.8m。
罐体10的侧壁的上端还设有相对设置的两个吊耳18。
这种铜氨液工作液罐的罐体10的侧壁的下部设有第一出料口15和第二出料口16，第一出料口15位于罐体10的侧壁的下端，第二出料口16比第一出料口15高0.6m～1.5m。通过设置比第一出料口15高的第二出料口16，从而避免了在罐体10底部覆集的杂质堵罐，此外，还可以在杂质覆集较少时，通过开启第一出料口15将杂质排除。相对于传统的铜氨液工作液罐，这种铜氨液工作液罐不容易堵罐。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。