硫酸铜晶浆罐的制作方法

文档序号:11540286阅读:501来源:国知局

本实用新型涉及一种硫酸铜晶浆罐。



背景技术:

生在硫酸铜结晶好后需进行洗水离心,把结晶好的硫酸铜浆料用泵输送到硫酸铜晶浆罐内,再将硫酸铜晶浆罐内的硫酸铜晶浆输送到离心机进行洗水,但是由于硫酸铜晶浆容易在硫酸铜晶浆罐内重结晶,从而造成堵罐的现象。



技术实现要素:

基于此,提供一种不容易堵罐的硫酸铜晶浆罐。

一种硫酸铜晶浆罐,其特征在于,包括罐体;

所述罐体的顶部的设有进料口、废气口和搅拌口;

所述罐体的侧壁的下部设有出料口,所述罐体的底部的内表面为斜面。

在一个实施例中,所述罐体的底部的内表面所在的平面与所述罐体的底部的外表面所在的平面的夹角为5°~30°。

在一个实施例中,所述罐体的底部的内表面所在的平面与所述罐体的底部的外表面所在的平面的夹角为12°。

在一个实施例中,所述出料口设置在所述罐体的底部的内表面的最高处的上方。

在一个实施例中,所述出料口设置在所述罐体的底部的内表面的最低处的上方。

在一个实施例中,所述进料口为四个,四个所述进料口位于同一圆周上。

在一个实施例中,所述搅拌口位于所述罐体的顶部的中心。

在一个实施例中,所述罐体的顶部还设有第一人孔,所述罐体的侧壁还设有第二人孔。

在一个实施例中,所述罐体的内壁设有四个挡流板,四个所述挡流板均匀设置。

在一个实施例中,所述罐体的侧壁的上端还设有相对设置的两个吊耳。

这种硫酸铜晶浆罐在使用时,由泵把结晶好的硫酸铜晶浆从结晶罐输送到硫酸铜晶浆罐的罐体内,下层的固体通过罐体侧壁的出料口自流到离心机进行洗水离心。由于这种硫酸铜晶浆罐的罐体的底部的内表面为斜面,从而有利于硫酸铜晶浆中的固体和液体混合物在罐内排除,避免硫酸铜晶体在罐体的底部沉集和充结晶造成堵管。相对于传统的硫酸铜晶浆罐,这种硫酸铜晶浆罐在使用时不容易造成堵管。

附图说明

图1为一实施方式的硫酸铜晶浆罐的结构示意图。

具体实施方式

为了便于理解本实用新型,下面主要结合具体附图对本实用新型作进一步详细的说明。

附图中给出了本实用新型较佳的实施方式。但是,本实用新型可以以许多不同的形式来实现,并不限于本文所描述的实施方式。相反地,提供这些实施方式的目的是使对本实用新型的公开内容理解的更加透彻全面。

需要说明的是,当元件被称为“固定于”另一个元件,它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件,它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的,并不表示是唯一的实施方式。

除非另有定义,本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的,不是旨在于限制本实用新型。

结合图1,一实施方式的硫酸铜晶浆罐,包括罐体10。

罐体10的顶部的设有进料口11、废气口(图中未显示)、搅拌口13和第一人孔14。

优选的,罐体10的顶部的还设有备用孔。

本实施方式中,进料口11为四个,四个进料口11位于同一圆周上。

优选的,搅拌口13位于罐体10的顶部的中心。

罐体10的侧壁的下部设有出料口15和第二人孔16,罐体10的底部的内表面18为斜面。

优选的,罐体10的底部的内表面18所在的平面与罐体10的底部的外表面19所在的平面的夹角为5°~30°。

更优选的,罐体10的底部的内表面18所在的平面与罐体10的底部的外表面19所在的平面的夹角为12°。

优选的,本实施方式中,出料口15设置在罐体10的底部的内表面18的最低处的上方。

在其他的实施方式中,出料口15也可以设置在罐体10的底部的内表面18的最高处的上方。

优选的,罐体10的内壁设有四个挡流板,四个挡流板避开上述开口并且均匀设置。

优选的,罐体10的侧壁的上端还设有相对设置的两个吊耳。

这种硫酸铜晶浆罐在使用时,由泵把结晶好的硫酸铜晶浆从结晶罐输送到硫酸铜晶浆罐的罐体10内,下层的固体通过罐体10侧壁的出料口15自流到离心机进行洗水离心。由于这种硫酸铜晶浆罐的罐体10的底部的内表面18为斜面,从而有利于硫酸铜晶浆中的固体和液体混合物在罐内排除,避免硫酸铜晶体在罐体10的底部沉集和充结晶造成堵管。相对于传统的硫酸铜晶浆罐,这种硫酸铜晶浆罐在使用时不容易造成堵管。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合,为使描述简洁,未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述,然而,只要这些技术特征的组合不存在矛盾,都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本实用新型的保护范围。因此,本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

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