本实用新型涉及PCB制造领域，尤其涉及一种用于防止垂直生产线上不同体系药水相互交叉污染的缸盖。
背景技术：
在PCB的加工生产过程中，垂直生产线内通常会同时存在两种或两种以上的不同体系的药水，而在加工过程中天车、飞巴、挂篮等均可能会沾有药水，即其中一种药水沾于天车、飞巴、挂篮上，再自天车、飞巴、挂篮上滴落到至另一种药水的药水缸内，则会导致药水间交叉污染，从而会导致药水报废。
因此，当使用其中一种药水生产时，需增加缸盖对另外一种药水进行保护，避免因为天车、飞巴或挂篮滴水导致交叉污染，然而，传统的缸盖多为平铺在缸体上，无法解决药水逐渐累积无法排出的问题，且存在药水自缸盖与药水缸间的间隙进入药水缸，以及药水自两相邻缸盖的间隙滴入至药水缸内等问题。
技术实现要素：
为此，本实用新型的目的在于提供一种防药水交叉污染缸盖，以解决目前PCB加工垂直生产线中两种以上不同体系药水易发生交叉污染的问题。
为实现上述目的，本实用新型主要采用以下技术方案为：
一种防药水交叉污染缸盖，盖设于药水缸上，包括主体部、倾斜挡板及导流管，所述主体部呈倾斜设置，主体部顶面上设置有一凹槽，所述倾斜挡板设置主体部的外侧边缘上，并遮盖住主体部与药水缸之间的间隙；所述导流管装设于所述主体部倾斜位置的最底端，导流管的一端连通于所述凹槽，另一端向外延伸出所述主体部外。
进一步地，还包括一分隔部，所述分隔部将所述凹槽分隔成两个以上的收容槽，两个以上的所述收容槽并排设置。
进一步地，所述收容槽呈与所述凹槽相同的倾斜角度设置，每一收容槽的倾斜位置的最底端均设置有所述导流管。
进一步地，所述倾斜挡板的一端连接于所述主体部上，另一端朝主体部外侧倾斜向下延伸。
进一步地，所述主体部包括底板及设置于底板上的环形挡板，所述底板与挡板围合形成所述凹槽。
进一步地，所述底板呈倾斜设置，所述导流管设置于所述收容槽的最低位置的侧壁或底板上。
综上所述，本实用新型通过设置底面倾斜的收容槽、分隔部、倾斜挡板及导流管，从而可将药水聚集于缸盖上，并自动从导流管导出至缸盖外，且可避免药水自相邻主体部间及主体部与药水缸间的间隙流入至药水缸内，从而，可完全避免药水滴水导致药水交叉污染问题，实用性强，具有较强的推广应用性。
附图说明
图1为本实用新型防药水交叉污染缸盖的结构示意图。
图2为图1所示防药水交叉污染缸盖的分解示意图。
具体实施方式
为了使本实用新型的技术方案能更清晰地表示出来，下面结合附图对本实用新型作进一步说明。
如图1和图2所示，为本实用新型提供的一种防药水交叉污染主体部100，该防药水交叉主体部100盖设于PCB加工垂直生产线上的药水缸200上，且可同时盖设于两个以上的药水缸200上，各药水缸200内盛装有不同的药水。
所述防药水交叉主体部100包括主体部10、分隔部20、倾斜挡板30及导流管40，所述主体部10顶面上设置有一凹槽，所述分隔部20将所述凹槽分隔成两个或两个以上的收容槽，所述收容槽呈并排间隔设置，每一收容槽对应一药水缸设置，所述分隔部20位于两相邻药水缸200之间。所述倾斜挡板30设置主体部10的外侧边缘上，并遮盖住主体部10与药水缸200之间的间隙；所述导流管40装设于主体部上，且每一收容槽对应设置一所述导流管40。
所述主体部10包括一底板11及设置于底板上的挡板12，所述挡板12围设于底板11四围，且所述底板11与挡板12围合形成所述凹槽，从而可将滴落的药水聚集于所述凹槽内。所述底板11呈倾斜设置，底板11与水平面之间形成一夹角a，从而可保证主体部10上的药水能朝向主体部10低位置处聚集。本实施例中，所述底板11的倾斜角度为5度。可以理解地，所述夹角a可根据实际需求设置，并不限定本实施例中的角度。所述导流管40设置于主体部10上沿药水流向的最低位置的挡板12或底板11上，以便于将聚集于收容槽内的药水排出，避免药水在收容槽内累积。
所述倾斜挡板30设置于主体部10的外侧挡板12上，所述倾斜挡板30一端与挡板12的顶端连接，倾斜挡板30的另一端向远离挡板12的外侧下方倾斜延伸。并遮挡住主体部10与药水缸200间的间隙，从而可避免药水自缸盖20与药水缸200间的间隙流入至药水缸200内。本实施例中，所述倾斜挡板30设置于主体部10的两相对的最外侧挡板12上，可以理解地，主体部10的其它挡板12上也可根据需求设置相应的倾斜挡板12。
综上所述，本实用新型通过设置底面倾斜的收容槽、分隔部20、倾斜挡板30及导流管40，从而可将药水聚集于缸盖上，并自动从导流管40导出至缸盖外，且可避免药水自相邻主体部10间及主体部10与药水缸间200的间隙流入至药水缸200内，从而，可完全避免药水滴水导致药水交叉污染问题，实用性强，具有较强的推广应用性。
以上所述实施例仅表达了本实用新型的一种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。