一种片材的制造装置和片材制造方法与流程

本申请涉及智能评估技术领域，具体涉及一种片材的制造装置和片材制造方法。

背景技术：

随着科学技术的高速发展，各种片材应运而生。

现有的片材产品隔热效果不佳，有的透光率较低，有的则需要昂贵的设备，工艺条件的控制也很复杂。这些因素均不利于产品向市场大面积推广。

针对现有技术的上述问题，本技术领域亟需一种新的片材的制造装置和片材制造方法。

技术实现要素：

基于此，有必要针对上述技术问题，提供一种片材的制造装置和片材制造方法，通过提供一种新型制造装置，能够实现降低工艺条件的复杂度，不再需要特殊的制造设备，降低生产成本。

为解决上述技术问题，本申请提供一种片材的制造装置，所述制造装置包括依照工序连接的：

自动清洗上料机构，用于对玻璃基片进行清洗并进行上料操作；

干燥翻面机构，用于对清洗后的玻璃基片进行干燥/翻面操作；

摆盘机构，用于将经过干燥/翻面的玻璃基片摆放入料盘；

料盘堆垛机构，用于码垛摆放有玻璃基片的料盘；

料盘移送机构，用于移送料盘堆垛机构的料盘；

涂膜机构，用于对料盘移送机构移送过来的料盘进行玻璃基片涂膜；

静置机构，用于接收所述料盘移送机构移送过来的经过涂膜的玻璃基片料盘并进行堆垛。

为解决上述技术问题，本申请提供一种采用上述制造装置的片材制造方法，所述片材制造方法包括步骤：

对玻璃基片进行酸处理；

通过去离子水超声清洗；

采用无水乙醇清洗；

热风干燥单个玻璃基片；

按ab面并按规则放置于料盘上；

采用荧光聚合物置于圆底烧瓶后，加甲苯溶剂并超声处理，在恒定的温湿度环境中对玻璃基片进行点胶涂膜；

再次放置料盘上阴干。

上述片材的制造装置和片材制造方法，能够实现降低工艺条件的复杂度，不再需要特殊的制造设备，降低生产成本。

附图说明

图1为一实施例中片材的制造装置的结构示意图。

图2为一实施例中干燥翻面机构和摆盘机构的结构示意图。

图3为一实施例中料盘堆垛机构的结构示意图。

图4为一实施例中片材制造方法的流程示意图。

具体实施方式

请参阅图1，图1为一实施例中片材的制造装置的结构示意图。

本申请提供一种片材的制造装置，所述制造装置包括设置在机箱18上的依照工序连接的自动清洗上料机构11、干燥翻面机构12、摆盘机构13、料盘堆垛机构14、涂膜机构15、料盘移送机构16和静置机构17。

所述自动清洗上料机构11，用于对玻璃基片进行清洗并进行上料操作；

所述干燥翻面机构12，用于对清洗后的玻璃基片进行干燥/翻面操作；

所述摆盘机构13，用于将经过干燥/翻面的玻璃基片摆放入料盘；

所述料盘堆垛机构14，用于码垛摆放有玻璃基片的料盘；

所述料盘移送机构16，用于移送料盘堆垛机构14的料盘；

所述涂膜机构15，用于对料盘移送机构16移送过来的料盘进行玻璃基片涂膜；

所述静置机构17，用于接收所述料盘移送机构16移送过来的经过涂膜的玻璃基片料盘并进行堆垛。

在本实施方式中，所述静置机构17还用于将所述料盘放置入静置平台(未标示)进行处理。

请参阅图2，本实施方式所述摆盘机构包括摆盘机构x轴131、摆盘机构y轴132、摆盘机构z轴133、摆盘机构夹爪134，所述干燥翻面机构12具体包括干燥翻面机构旋转气缸121、干燥翻面机构夹爪122、干燥翻面机构热风嘴123、干燥翻面机构热风阀124、干燥翻面机构热风机125、干燥翻面机构热风排风管126、干燥翻面机构检测器127和干燥翻面机构y轴128。

需要特别说明的是，本实施方式图2干燥翻面机构夹爪122从自动清洗上料机构11上抓取玻璃基片，干燥翻面机构y轴128移送玻璃基片到干燥翻面机构检测器127进行检测，若玻璃基片的磨砂面的方面是反的，干燥翻面机构旋转气缸121将玻璃基片翻面，摆盘机构z轴133下行，摆盘机构夹爪134夹取玻璃基片换手，摆盘机构x轴131移送玻璃基片到干燥翻面机构热风嘴123位置进行干燥，干燥后移送至料盘堆垛机构14的摆盘位置进行摆盘。

请参阅图3，本实施方式所述料盘堆垛机构14包括空料盘上料机构141、输送带142、顶出定位气缸143、摆盘位置144、阻挡气缸145和满料盘堆垛机构146。

需要特别说明的是，本实施方式将空的料盘放入空料盘上料机构141，空料盘上料机构141取料盘放入输送带142，输送到摆盘位置144，在摆盘位置144通过阻挡气缸145限位，顶出定位气缸143将空的料盘顶出定位进行摆盘，摆满后顶出定位气缸143复位将料盘放入输送带并打开阻挡气缸145，输送带142将料盘输送到满料盘堆垛机构146，满料盘堆垛机构146将满料盘堆垛。

不难理解的是，本申请将料倒入自动清洗上料机构11，产品自动排例出料干燥翻面机构12将产品抓取进行干澡翻面，摆盘机构13将与干燥翻面机构12换手，摆盘机构13三轴将产品按顺序摆放入料盘里，料盘满后，料盘堆垛机构14将料盘码垛，将空料盘放入料盘堆垛机构14，机构可自动一个个的出空料盘到指定位置进行摆盘，满盘后可进行自动码垛，料盘移送机构16将从码垛区里吸取满料盘，移送至并放入涂膜机构15进行涂膜，涂膜完成后再次吸取料盘，移送至静置机构17进行码垛，当堆垛到一定数量，静置机构17里的y轴将一叠料盘放入静置平台。

请参阅图4，本申请还提供一种采用上述实施方式所述制造装置的片材制造方法，所述片材制造方法包括但不限于如下几个步骤。

s401，对玻璃基片进行酸处理；

s402，通过去离子水超声清洗；

s403，采用无水乙醇清洗；

s404，热风干燥单个玻璃基片；

s405，按ab面并按规则放置于料盘上；

s406，采用荧光聚合物置于圆底烧瓶后，加溶剂并超声处理，在恒定的温湿度环境中对玻璃基片进行点胶涂膜；

s407，再次放置料盘上阴干。

在本实施方式中，所述制造装置的制备环境温度介于20℃～25℃，湿度介于40％～60％。优选地，温度为22℃，湿度为50％。本实施方式ab面，指两相对的第一面和第二面。

需要说明的是，所述采用无水乙醇清洗的步骤，还可以采用超纯水代替乙醇。

值得一提的是，所述热风干燥单个玻璃基片的步骤，采用夹取玻璃基片侧面的方式。

在本实施方式中，所述按ab面并按规则放置于水平台上的步骤，采用可编程的方式编程摆放规则。

在本实施方式中，所述加溶剂并超声处理的步骤中，可以采用甲苯为溶剂。

在本实施方式的一具体实施例中，其可以采用下述具体方法：

对玻璃基片进行酸处理；

通过去离子水超声清洗30分钟，一共三次；

采用无水乙醇清洗两次；

热风干燥单个玻璃基片3秒；

按ab面并有一定规则放置于料盘上；

荧光聚合物(置于圆底烧瓶)，加适量甲苯溶剂，超声处理1小时，在适宜的温湿度环境中点胶；

放置水平台自然阴干6小时。

需要说明的是，本实施方式的制备环境温度介于20～25℃，湿度介于40～60％。

值得一提的是，在上述具体应用例中，玻璃基片清洗有涉及酸性溶液，且耗时较短，可人工清洗，而无需自动化。

在对玻璃基片清洗过程中，用无水乙醇清洗是为了便于玻璃基片干燥，但无水乙醇也会造成安全隐患以及成本增加，若设备干燥条件可行，也可以用超纯水代替无水乙醇。

需要说明的是，玻璃基片清洗完是杂乱无章的堆放着，并且有溶液(水或乙醇)，而玻璃基片尺寸也很小，本实施方式需要将玻璃基片单个分离出来，并尽可能的减少玻璃基片之间的相互摩擦。

本实施方式需要对玻璃基片进行ab面识别，用热风单片干燥，而避免烘干留下污渍。

本实施方式玻璃基片干燥完摆放的位置可以进行可编程处理，便于和制备平台(如点胶机)对接。

本实施方式涂膜点胶及后续晾干过程需要采用恒定的温/湿度，且保证平台水平，防止液体流下以及晾干时不均匀。

值得一提的是，本实施方式点胶所用溶液会随时间发生缓慢沉降，所以点胶过程优选地控制在两个小时内完成。

本实施方式能够实现降低工艺条件的复杂度，不再需要特殊的制造设备，降低生产成本。

以上所述仅为本申请的实施例，并非因此限制本申请的专利范围，凡是利用本申请说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本申请的专利保护范围内。