一种出版机用自清洁传输装置的制作方法

本实用新型涉及出版机技术领域，尤其涉及一种出版机用自清洁传输装置。

背景技术：

目前，越来越多的印刷企业都将CTP技术应用到生产中，CTP系统由设备、版材、软件和技术支持等众多部分组成，按设备分为直接制版机、出版机、印刷机等等，其中出版机的工作流程是将制好的印版通过传送装置传送至冲洗装置进行显影、水洗、上胶，最后烘干出成品，成品通过冲洗装置的出料口滑出。

目前，公告号为CN205151030U的中国实用新型专利公开了一种全自动CTP出版机转料装置，包括纵向输送机构以及横向输送机构，纵向输送机构和横向输送机构位于出版机出料口处，横向输送机构包括第一支架以及与第一支架连接的第一传动机构，纵向输送机构底部设有抬升装置，抬升装置能够使纵向输送机构上下抬升，纵向输送机构包括第二支架以及与第二支架连接的第二传动机构；这里，无论是横向输送机构还是纵向输送机构都是通过若干传动轮的转动实现传输功能。

虽然这种转料装置能够通过若干传动轮的转动实现传送功能，将印版从成像的照排机传输至显影的显影机处，实现印版的自动化传输，但是，在传输过程中，由于大量传动轮的设置，增加了灰尘和脏物通过传动轮沾染到印版上的几率，导致印版被污染，而影响到印版质量。

技术实现要素：

针对现有技术存在的不足，本实用新型提供了一种出版机用自清洁传输装置，其具有自动清洁传送带，保持印版清洁和印版质量优点。

为实现上述技术目的，本实用新型提供的一种出版机用自清洁传输装置，包括如下技术方案：

包括机架，所述机架顶端两侧平行设有两根转动设置的驱动杆，所述驱动杆上套接有驱动轮，两根所述驱动杆上的驱动轮上沿驱动轮长度方向间隔套接有多组传送带；所述机架上对准各个传送带下侧部分的底面设有喷头，所述喷头远离传送带下侧部分运行方向初始端一侧的机架上还设有抵接于传送带下侧部分底面的刮板，而多个所述传送带下侧部分和上侧部分之间穿设有架接于机架上的挡板。

采用上述技术方案，将装有传送带的机架推入照排机和冲版机之间，使得印版在从照排机中输出后能够在传送带的输送下进入冲版机进行显影，通过在传送带下方对准各个传送带下侧部分的底面设置的喷头对经过的传送带表面进行冲洗，配合一侧设置的刮板，将冲洗后的水份和未能冲刷掉的脏物刮去，从而保证传送带表面的清洁，避免脏物经传送带沾染到印版上而污染印版，进而保证印版的洁净和印版质量；另外，挡板的设置能够避免飞溅的水珠直接溅射到印版上，而污染印版。

在一些实施方式中，所述喷头设置于传送带下侧部分运行方向的初始端。

通过采用上述技术方案，将喷头设置在传送带下侧部分运行方向的初始端，不仅能够为刮板的设置预留空间，还能方便风干部分传送带上残留的水珠。

在一些实施方式中，所述喷头倾斜设置，且其出水方向相对传送带下侧部份运行方向设置。

通过采用上述技术方案，将喷头倾斜向传送带下侧部分的运行方向设置，利用相向运动的传送带和水流提高喷头喷出的水流对传送带的清洗作用，从而提高冲洗效果。

在一些实施方式中，位于传送带下方、垂直于传送带传送方向设有集水盒，所述集水盒罩设多个所述喷头设置，且所述集水盒顶部抵于传送带下侧部分的底面设置。

通过采用上述技术方案，通过集水盒的设置不仅能够避免喷头喷出的水流飞溅到设备的其余部位，还能收集清洗产生的废水，避免其污染生产环境。

在一些实施方式中，所述挡板底面对应集水盒顶部周面间隔设有多个隔板，所述隔板抵接于对应位置的集水盒顶端面设置。

通过采用上述技术方案，通过挡板上设置的隔板挡住挡板与集水盒之间的存在的缝隙，从而提高集水盒罩设的密闭性。

在一些实施方式中，所述集水盒下方的机架上设有底部开口设置的滤水盒，所述滤水盒底部设有滤板，而所述集水盒连通滤水盒设置，且所述滤水盒下方连通设有设置于机架上的储水盒，所述喷头连通储水盒设置。

采用上述技术方案，通过滤水盒的设置下引清洗产生的废水，并利用滤板拦住废水中的固体杂质，而经过滤后的水回到储水盒中重新利用，从而减少资源消耗。

在一些实施方式中，一根所述传送带处的所述刮板沿传送带传送方向设置为多组。

通过采用上述技术方案，通过多个刮板的设置反复刮取传送带残留的水份，避免水份沾染到印版上而影响到印版的显影。

在一些实施方式中，所述机架上沿垂直于传送带的方向滑移设有清理板，且清理板沿传送带长度方向间隔设置为多组，多个所述传送带同一位置的多个所述刮板设于对应位置的一清理板上。

采用上述技术方案，通过清理板的设置方便方便工作人员周期性的更换、清理刮板，避免刮板上积累的脏物二次污染传送带，而影响到清洁效果。

综上所述，本实用新型与现有技术相比，具有以下优点：通过喷头和刮板的设置，在传送带运行的同时，对传送带表面进行清洁，从而避免脏物经传送带污染印版，保证印版的清洁，从而保证印版的制作质量。

附图说明

图1为本实用新型一种出版机用自清洁传输装置的整体结构示意图；

图2为图1中A-A部分的剖视图；

图3为图2中B部分的放大图。

图中：1、机架；11、万向轮；2、驱动杆；21、驱动电机；22、驱动轮；23、传送带；3、集水盒；31、喷头；32、排水管；4、清理板；41、刮板；5、挡板；51、隔板；52、密封板；6、滤水盒；61、活性炭；62、滤板；7、储水盒；71、水泵。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型作进一步详细说明。

实施例：一种出版机用自清洁传输装置，如图1所示，包括底部装有万向轮11和万向轮11自锁结构的机架1，在机架1顶端两侧平行架有两根驱动杆2，这里，在每根驱动杆2的一端分别装有用于驱动驱动杆2转动的驱动电机21，而在驱动杆2上套接有摩擦系数较大的驱动轮22，两根驱动杆2上驱动轮22上沿其长度方向间隔套接有多组传送带23；同时，如图2所示，在机架1上对准各个传送带23下侧部分的底面设置有喷头31，并在喷头31远离传送带23下侧部分运行方向初始端一侧的机架1上还设置有抵接于传送带23下侧部分底面的刮板41，而多个传送带23下侧部分和上侧部分之间水平设置有架接在机架1上的挡板5。

在实际工作中，不仅能够将机架1推入照排机和冲版机之间，利用传送带23传输印版，实现照排机和冲版机的联动，提高印制效率，还能将其根据需要改造成倾斜设置，用于上料或下料工作；由于传送带23易于积累脏物，而印版在经传送带23传输时，部分脏物会转移至印版上，而影响印版的印制质量，因此，在机架1上并列设置上喷头31和刮板41，利用水流的冲刷和刮板41的刮取除去脏物，保持传送带23的清洁，从而保证印版的清洁性，以保证印版的印制质量；另外，挡板5的设置能够避免飞溅的水珠直接溅射在印版上，而污染印版。

在利用喷头31冲洗传送带23时，为了提高冲洗效果，如图2所示，喷头31设置在传送带23下侧部分运行方向的初始端，这里，喷头31倾斜设置，且其出水方向相对传送带23下侧部分运行方向设置。这样，通过相对运行方向倾斜设置的喷头31能够利用水流与传送带23的相对运动提高水流对经过的传送带23的冲洗效果。

同时，在利用水流冲洗传送带23时，为了限制喷头31冲出的水流的扩散范围，如图2所示，在传送带23下方、垂直于传送带23传送方向设置有架设在机架1上的集水盒3，这里，集水盒3罩在多个喷头31外部设置，且其顶部抵接于传送带23下侧部分的底面；如图3所示，在挡板5底面对应集水盒3顶部周面间隔设置有多个隔板51，且隔板51抵接与对应位置的集水盒3顶端端面设置，而在挡板5底面对应各个传送带23还设置有夹于传送带23两侧的密封板52，这里，密封板52在集水盒3范围内顺延于传送带23传送方向设置。这样，利用挡板5、集水盒3、隔板51和密封板52的设置，将喷头31及集水盒3处的传送带23部分围住，仅使经过的传送带23部分的底面与水流接触，从而避免水流飞出集水盒3污染工作环境或粘附至传送带23下侧部分的顶面而难以被刮板41刮除。

为了避免大量的废水在集水盒3中积蓄而影响到后续传送带23的冲洗工作，如图2所示，在集水盒3下方的机架1上架设有底部开口设置的滤水盒6，而在其底部装接有滤板62，并在滤板62上堆放有活性炭61，同时，集水盒3通过底部设置的排水管32连通至滤水盒6顶部设置；在滤水盒6下方的机架1上放有顶端开口远大于滤水盒6底端设置的储水盒7，这里，储水盒7接有水源，并在储水盒7中放有水泵71，喷头31通过管道连通水泵71设置。这样，一方面，通过水泵71将储水盒7中的清水输送至喷头31处喷出，实现对传送带23的清洗，而清洗产生的废水经滤水盒6处理后回到储水盒7中继续使用，从而节约水资源；另外，可将滤水盒6可拆卸连接在机架1上，从而方便工作人员拆卸滤水盒6进行清理，保持其对废水的净化功能。

而在喷头31冲洗完毕传送带23后，为了提高刮板41对传送带23的处理效果，如图1所示，一根传送带23处的刮板41沿该传送带23的传输方向间隔设置为多组，且刮板41与传送带23的抵接端顺延传送带23下侧部分的传输方向从硬质材料向软质材料逐渐过度，这里，软质材料为橡胶、海绵等。这样，通过多个刮板41的设置，并配合刮板41顶端设置的不同材料逐步刮去，吸除传送带23底面的水份，保证传送带23的洁净。

另外，如图1所示，在机架1上沿垂直于传送带23的方向滑移连接有清理板4，且清理板4沿传送带23长度方向间隔设置为多组，这里，多个传送带23同一位置的多个刮板41设置在对应位置的一清理板4上。这样，滑移设置的清理板4能够方便工作人员拉动清理板4离开传送带23部分，并对刮板41端部进行清理，避免脏物聚集在刮板41端部而失去刮取功能，并对传送带23造成二次污染。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。