一种抓片装置的制作方法

本实用新型涉及送/取料技术领域，尤其涉及用于一种半导体材料或光伏材料加工的吸盘。

背景技术：

半导体或光伏材料广泛应用于电子、新能源等行业，半导体和光伏材料通常都需要经过加工处理才能够应用到产品上，cvd技术、扩散工艺或氧化工艺是其中的一种处理方式，其中cvd即化学气相沉积，cvd技术目前已经广泛用于半导体或光伏材料加工，常见的加工设备有pecvd、lpcvd、apcvd等，除了cvd之外还有扩散工艺包括磷扩散、硼扩散等，目前行业虽然已经有不少相关设备，但是某一些技术问题仍未得到解决，比如如何实现半导体和光伏片状原料的快速取/送料，片状的半导体和光伏材料轻薄易碎，人工取/送料极易损毁；半导体和光伏片状原料难以进行大量取/送料，导致加工过程中取/送料阶段花费大量时间；此外，半导体和光伏中的部分加工工艺需要在高温条件下进行，比如材料的镀膜、扩散、氧化、lpcvd等管式炉上下料，例如超薄硅片，它需要在低压高温氛围下实现化学反应和沉积成膜，而现实生活中应用较多的：普通片状材料的送/取料，它采用的是吸盘式送/取料机构，很显然，这种机构无法应用在这样的高温环境下，因为吸盘的材料大多是硅胶、聚氨酯，他们在高温下会熔化，无法完成进出料操作。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种抓片装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的一种抓片装置，包括壳体和吸盘主体，壳体内安装有五十片吸盘主体，作为优选的技术方案，壳体内安装有一片以上吸盘主体，本实用新型并不对吸盘主体的数量进行限定。多片吸盘主体的设置有助于装置一次性抓取大量的吸盘，提高工作效率。

优选的，壳体内设有气腔，气腔内设有安装单元，安装单元包括卡块和固定轴，卡块和固定轴都有两个，它们通过两端的固定块进行连接。

优选的，壳体上设有负压装置，负压装置能够减小气腔内的气压，负压装置包括与气腔连通的抽气连接口和进气连接口，抽气连接口和进气连接口可以通过气管与气泵连接，作为优选的技术方案，负压装置能够只包括抽气孔，抽气孔可以与密闭活塞连接，通过外拉活塞也可以在气腔内形成负压，本实用新型并不限定负压装置的具体选取。

优选的，吸盘主体包括安装部位和吸附部位，安装部位与安装单元对应，安装部位上设有配对的卡槽和安装孔，安装部位利用卡槽和安装孔能够连接气腔内的安装单元，吸附部位能够用于吸附片状原料。

优选的，吸附部位上设有三个环状同心分布且槽深相同的气槽，作为优选的技术方案，气槽可以是环状、螺旋状、方形状，它们成扩散状分布在吸附部位表面；作为优选的技术方案，气槽至少有一个，也可以有多个，当气槽为多个时，气槽以尽量均匀分布在吸附部位表面的方式来布置，从而使吸盘主体对片状原料的吸附力尽可能均匀，这种多气槽的同心分布设置可以增大气槽与片状材料之间的吸力，使送/取料时片状材料很难脱落。

优选的，每个环形气槽的底部皆设有一个气孔，作为优选的技术方案，气槽设置在吸附部位的表面，作为优选的技术方案，气孔位于气槽的侧壁。三个气孔呈直线排布在该吸盘的对称面上，且皆位于环形气槽靠近安装部位的一侧上，吸盘主体内设有个抽气通道，作为优选的技术方案，吸盘主体内设有至少一个抽气通道。抽气通道的截面呈扁长方形状，且该抽气通道穿过安装部位连通吸附部位内的三个气孔，当吸盘主体通过安装部位装入壳体内时，气槽与气腔连通，在吸附部位表面被片状原料覆盖时，通过负压装置就可以使环形气槽内压力降低，能将片状原料吸附在吸附部位的表面。

优选的，安装部位的厚度比吸附部位的厚度大，安装部位与吸附部位连接在一起，呈阶梯状设置，它们之间的厚度差能够用于容纳片状原料。

优选的，吸附部位外端设有插片部位，插片部位的厚度较吸附部位要小，形成一个易于插入片状原料之间的导向结构，插片部位采用对称的双斜面设置，使吸附部位的外端截面呈尖状，尖状的锋锐处进行磨平处理，尖状角部对称设有倒角，这样的设计方便吸盘主体插入摆放在一起的片状元件之间。

优选的，吸盘主体采用耐高温材料制成，耐高温材料包括：陶瓷、碳化硅、氧化铝、氧化锆及一些耐高温非金属氧化物等。

综上所述，本实用新型的有益效果是：本实用新型采用耐高温材料制作吸盘，适用于高温条件；本实用新型的壳体上安装有大量的吸盘主体，每一片吸盘主体能都进行片状材料的吸附，这样的结构设计有助于装置一次性抓取大量的吸盘，大大提高了工作效率；吸盘主体内设有多个同心分布的气槽，多个同心分布的气槽可以增大吸盘与片状材料之间的吸力，让吸附后的片状材料更加稳定，有效防止送料时片状材料脱落；插片部位采用对称的双斜面设置，使吸附部位的外端截面呈尖状，并针对尖状的锋锐处进行磨平处理，尖状角部对称设有倒角，这样的设计让吸盘很容易的插入到摆放在一起的片状元件之间，大大方便了送/取料操作。

附图说明

图1是本装置的整体结构图；

图2是壳体的底部示意图；

图3是安装单元的结构示意图；

图4是吸盘主体的整体结构示意图；

图5是安装单元安装上吸盘主体后的结构示意图；

图6是本装置的左视图；

图7是图4中“a-a”方向的剖视图；

图8是图6中“b-b”方向的剖视图。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型的实施方式做进一步详细描述，应当指出的是，实施例只是对本实用新型的详细阐述，不应视为对本实用新型的限定，本实用新型的实施例中公开的所有特征，或公开的所有方法或过程中的步骤，除了互相排斥的特征和/或步骤以外，均能够以任何方式组合。

参照附图1，本实施例提供一种抓片装置，包括壳体20和吸盘主体10，壳体20内安装有五十片吸盘主体10，在一些其他实施方式中，壳体20内安装有一片以上吸盘主体10，本实用新型并不对吸盘主体10的数量进行限定。多片吸盘主体10的设置有助于装置一次性抓取大量的吸盘，提高工作效率。

参照附图2和附图3，壳体20内设有气腔21，气腔21内设有安装单元22，安装单元22包括卡块23和/或固定轴24，在本实施例中，卡块23和固定轴24都有两个，它们通过两端的固定块进行连接。

参照附图1和附图2，壳体20上设有负压装置，负压装置能够减小气腔21内的气压，负压装置包括与气腔21连通的抽气连接口25和进气连接口26，抽气连接口25和进气连接口26通过各自的气管与气泵连接，气泵通过抽气连接口25对腔体21进行抽气，气泵通过进气连接口26往腔体21进气，能够实现腔体21内的气体流动，从而形成负压，在一些其他实施方式中，负压装置能够只包括抽气孔，抽气孔可以与密闭活塞连接，通过外拉活塞也可以在气腔21内形成负压，本实用新型并不限定负压装置的具体选取。

参照附图4，吸盘主体10包括安装部位19和吸附部位14，安装部位19与安装单元22对应，安装部位14上设有配对的卡槽11和/或安装孔13，安装部位19利用卡槽11和/或安装孔13能够连接气腔21内的安装单元22，具体方式为：将吸盘主体10上的安装孔13套入安装单元22内的两根固定轴24上，将吸盘主体10上的卡槽11卡入安装单元22内的两块卡块23之间，并通过两端的固定块与壳体20的连接。吸附部位14能够用于吸附片状原料。

吸附部位14上设有三个环状同心分布且槽深相同的气槽15，在一些其他实施方式中，气槽15可以是环状、螺旋状、方形状，它们成扩散状分布在吸附部位14表面，在一些其他实施方式中，气槽15至少有一个，也可以有多个，当气槽15为多个时，气槽15以尽量均匀分布在吸附部位14表面的方式来布置，从而使吸盘主体10对片状原料的吸附力尽可能均匀，这种多气槽15的同心分布设置可以增大气槽与片状材料之间的吸力，使送/取料时片状材料很难脱落。

参照附图4和附图7，本实施例中，每个环形气槽15的底部皆设有一个气孔16，在一些其他实施方式中，气槽15设置在吸附部位14的表面，在一些其他实施方式中，气孔16位于气槽15的侧壁。三个气孔16呈直线排布在该吸盘的对称面上，且皆位于环形气槽15靠近安装部位19的一侧上，吸盘主体10内设有1个抽气通道12，在一些其他实施方式中，吸盘主体10内设有至少一个抽气通道12。抽气通道12的截面呈扁长方形状，且该抽气通道12穿过安装部位19连通吸附部位10内的三个气孔16，当吸盘主体10通过安装部位19装入壳体20内时，气槽15与气腔21连通，在吸附部位14表面被片状原料覆盖时，通过负压装置就可以使环形气槽15内压力降低，能将片状原料吸附在吸附部位的表面。

安装部位19的厚度比吸附部位14的厚度大，安装部位19与吸附部位14连接在一起，呈阶梯状设置，它们之间的厚度差能够用于容纳片状原料。

参照附图4，吸附部位14外端设有插片部位17，插片部位17的厚度较吸附部位14要小，形成一个易于插入片状原料之间的导向结构，本实施例中，插片部位17采用对称的双斜面设置，使吸附部位14的外端截面呈尖状，尖状的锋锐处进行磨平处理，尖状角部对称设有倒角，这样的设计方便吸盘主体10插入摆放在一起的片状元件之间。

优选的，吸盘主体10采用耐高温材料制成，耐高温材料包括：陶瓷、碳化硅、氧化铝、氧化锆及一些耐高温非金属氧化物等。

本装置在使用时，将壳体20安装于动力装置(例如运动滑轨、机械臂等)上，将抽气连接口25和进气连接口26连接气泵，就能让吸盘主体10上的吸附部位14都吸上片状原料，通过控制动力装置即可进行片状原料的送/取料。

以上所述，仅为实用新型的具体实施方式，但实用新型的保护范围并不局限于此，任何不经过创造性劳动想到的变化或替换，都应涵盖在实用新型的保护范围之内，因此，实用新型的保护范围应该以权利要求书所限定的保护范围为准。