本发明涉及用于在光学制品(如眼镜片，具体地优选地安装在眼镜架上的眼镜镜片)上涂覆预定涂覆组合物(例如，防污涂覆组合物或防雾涂覆组合物或粘附涂覆组合物)的系统。
本发明进一步涉及用于这种系统的涂覆设备以及使用所述系统的方法。
背景技术：
众所周知，镜片、具体地眼镜镜片包括具有适应于配戴者的几何特征的眼科基材。
眼科基材需要添加涂层，例如，用于增加镜片的耐磨性的耐磨损涂层、用于减少光的反射的减反射涂层、以及施涂于减反射涂层上的防污涂层或防雾涂层。防污涂层提供能够对例如有机杂质污染更具抗性并且比减反射涂层更容易清洁的外涂层，而防雾涂层提供能够在非常潮湿的环境中防止任何雾形成的外涂层。此外，防污表面涂层和防雾表面涂层均保护了减反射涂层。
镜片的配戴者可能希望替代这种防污表面涂层或防雾表面涂层，因为所述相应表面涂层的效果可能随时间推移而降低。
欧洲专利2548991描述了一种用于首先通过去除初始最外面的防污涂层、接着通过将新的防污涂层沉积在光学制品上来对光学制品重新进行涂覆的机器。
所述机器包括：真空室，所述真空室具有被配置成用于接纳所述光学制品的内部空间；真空泵，所述真空泵连接到所述真空室；等离子体发生器，所述等离子体发生器被配置成用于在所述真空室内对所述光学制品进行真空等离子体处理；蒸镀设备，所述蒸镀设备被配置成用于也在所述真空室内对防污涂覆组合物进行真空蒸镀处理；以及控制单元，所述控制单元被配置成用于控制所述真空泵、所述等离子体发生器以去除光学制品的初始最外面的防污涂层、并且控制所述蒸镀设备以在所述光学制品上重新涂覆所述防污涂覆组合物。
所述蒸镀设备包括加热模块，所述加热模块被配置成用于加热所述防污涂覆组合物、并且具有被配置成有待放置在所述真空室中的第一支撑件。
所述防污涂料组合物被接纳在坩埚中，所述坩埚位于所述加热模块的第一支撑件上。
所述机器进一步包括第二支撑件，所述第二支撑件被配置成有待放置在所述真空室中并且光学制品被安装在所述第二支撑件上。
在机器的同一真空室中实施两种不同的处理。
国际专利申请wo2014/114974描述了一种的机器，所述机器用于首先通过活化光学制品的表面、接着通过将新的防污涂层沉积在光学制品上来涂覆光学制品；或者首先通过去除初始最外面的防污涂层、接着通过将新的防污涂层沉积在光学制品上来对光学制品重新进行涂覆。
所述机器包括：真空室，所述真空室具有被配置成用于接纳光学制品的内部空间；真空泵，所述真空泵连接到所述真空室；等离子体发生器，所述等离子体发生器被配置成用于在真空室内对光学制品进行真空等离子体处理；雾化器，所述雾化器被配置成用于在真空室内对预定涂覆组合物进行真空雾化处理；以及控制单元，所述控制单元被配置成用于控制所述真空泵、所述等离子体发生器以去除光学制品的初始最外面的涂层和/或活化所述光学制品的表面、并且控制所述雾化器以将液态预定涂覆组合物雾化成气雾剂微滴薄雾并朝向光学制品的表面引导所述微滴，以将微所述滴沉积在所述表面上以便对光学制品进行涂覆或重新进行涂覆。
所述雾化器包括喷嘴系统，并且所述机器进一步包括容器和至少一个导管，所述容器容纳确定体积的预定涂覆组合物，所述导管被配置成用于将所述容器连接到真空室以便允许所述容器与所述雾化器之间的流体连通。
喷嘴系统包括布置在真空室中的喷嘴头，并且所述机器进一步包括入口端口以及与所述入口端口处于连通的出口端口，二者均形成在真空室中，所述导管与所述入口端口处于流体连通，并且所述喷嘴头与所述出口端口处于流体连通。
所述机器包括介于容器与入口端口之间的喷涂阀。
所述机器进一步包括支撑件，光学制品被配置成有待被接纳在所述支撑件上并且定位在所述真空室中，使得光学制品与喷嘴头相距预定距离。
所述容器包括：刚性外壳，所述刚性外壳界定了内部空间，所述内部空间容纳确定体积的预定液态涂覆组合物；以及推进器，例如气体(如大气压下的空气)，所述推进器用于将所述体积的液态涂覆组合物从内部空间推进到导管，一直到喷嘴头并且穿过喷涂阀、入口端口和出口端口。
有利地在所述机器的同一真空室中实施两种不同的处理。
进一步地，所述机器的真空雾化处理允许能或不能被蒸发的化合物沉积，这样使得可以使用更大范围的液态涂覆组合物。
技术实现要素：
本发明涉及一种类似类型的用于在光学制品上涂覆预定涂覆组合物的系统，所述系统在保持了易于实现、紧凑且经济的同时得以改进。
本发明因此提供了一种在光学制品上涂覆预定涂覆组合物的系统，所述系统包括：室，所述室具有被配置成用于接纳所述光学制品的内部空间；涂覆设备，所述涂覆设备被配置成用于通过使所述预定涂覆组合物汽化并且通过将所述光学制品的至少一面暴露于已汽化的所述涂覆组合物来进行所述预定涂覆组合物的涂覆处理，以在所述室中将所述预定涂覆组合物沉积在所述光学制品上；以及控制单元，所述控制单元被配置成用于控制所述涂覆设备以通过使所述预定涂覆组合物汽化来对所述光学制品进行涂覆；所述涂覆设备被形成为单个盒(cartridge)单元，所述涂覆设备包括被配置成用于容纳所述预定涂覆组合物的外壳、既通到所述外壳中又通到所述涂覆设备外部的汽化导管、以及被配置成用于对所述预定涂覆组合物加压的推进构件；所述涂覆设备被配置成用于使处于工作状态的所述推进构件与所述外壳处于流体连通，以便进行所述涂覆处理。
根据本发明的系统的涂覆设备在此是用于使光学涂覆组合物在光学产品上汽化的单个盒单元。
当光学制品被装载在所述室内部时，形成为盒的涂覆设备优选地被配置成有待(完全或不完全)定位在所述室的内部空间内部。这减少了系统中、特别是所述室与其他元件之间的连接数量。
这个盒可以容易地插入到由所述系统进行的任何处理过程中，并且在所述系统中是至少部分自主的。这意味着推进构件可以根据有待汽化的预定涂覆组合物被预先配置，反之亦然。
在此这是特别方便的，因为预定涂覆组合物和推进设备两者都被容纳在同一单个盒单元中，并且因此不是独立提供的。还可以更简单地实现所述系统的设置。
还可以为确定的处理来预先制备这个盒。因此，所述盒可以被制备，接着可容易地运输和储存。
可以根据被配置成用于容纳所述盒的室的一些结构参数来制备所述盒，例如通过考虑用于盒的支撑件与用于光学制品的支撑件之间的距离。
具体地，可以根据所述室的、和/或待涂覆的光学制品的、和/或待汽化的涂覆组合物的参数来配置汽化导管和/或外壳和/或推进构件。
相比之下，可以独立于例如与所述室、并且更一般地与系统相关的参数来制备所述盒。
可以方便地提供一组标准类型的已制备盒，所述已制备盒彼此不同之处在于所容纳的推进构件和/或所容纳的涂覆组合物。
可以方便地提供一组标准类型的半制备盒，所述半制备盒是模块化的并且具有例如由容纳涂覆组合物的已制备外壳和已制备推进构件形成的已制备模块。
因此，如以上所讨论的系统的使用者可以从多个已制备盒中选择一个盒并使用它，或者可以从多个半制备盒中选择一个盒、然后组装所述已制备模块并且然后使用组装好的盒。
根据本发明的盒更易于操作并且安全。
所述盒可以是用后可弃性的或者可以重新充电以便重复使用。
因此，所述盒并且更一般地根据本发明的系统是紧凑的，并且所述系统可以被放置在眼镜商的处所，眼镜商从而能够容易地使用所述系统。
根据对于实施根据本发明的系统而言非常简单、方便且经济的优选特征，所述涂覆设备是被配置成用于通过将所述液态预定涂覆组合物雾化成气雾剂微滴薄雾并且通过朝向所述光学制品的至少一面引导所述微滴来对所述预定液态涂覆组合物进行喷涂处理以在所述室中将所述预定液态涂覆组合物沉积在所述光学物品上的喷涂设备；所述控制单元被配置成用于控制所述喷涂设备以在所述光学制品上涂覆所述预定液态涂覆组合物。
应注意，在此的术语“雾化(nebulization)”对应于液体转化成细喷雾或雾化(atomization)。接下来，表达“气雾剂微滴的薄雾”在此意指喷涂设备被配置成用于将液态涂覆组合物转化(雾化)成在薄雾的形状下悬浮排列的多个液滴。
根据对于实施根据本发明的系统而言非常简单、方便且经济的其他优选特征：
-所述外壳是刚性外壳；
-所述室是真空室，所述系统进一步包括连接到所述真空室的真空泵，并且所述控制单元被进一步配置用于控制所述真空泵，以在所述真空涂覆处理之前使所述真空泵从所述真空室中抽取气体，从而使所述真空室达到所述真空涂覆处理所需的预定压力；
-所述涂覆设备进一步包括介于所述推进构件与所述外壳之间并连接到所述推进构件和所述外壳两者的阀构件，所述阀构件具有允许所述推进构件与所述外壳之间的所述流体连通的打开状态；
-所述推进构件包括被配置成用于容纳加压气体的封闭罐，所述加压气体具有比所述外壳中的压力值更高的压力值；
-所述推进构件包括被配置成用于容纳气体的膨胀室、以及加热模块，所述加热模块被配置成用于加热所述膨胀室使得所述气体具有比所述外壳中的压力值更高的压力值；
-所述推进构件包括被配置成用于容纳液体的室、以及加热模块，所述加热模块被配置成用于加热所述液体以使其汽化并获得具有比所述外壳中的压力值更高的压力值的气体；
-所述推进构件包括被配置成用于容纳爆破元件的室、以及起爆器，所述起爆器被配置成用于使所述爆破元件爆破使得所述室具有比所述外壳中的压力值更高的内部压力值；
-所述预定涂覆组合物是液态组合物，并且所述导管包括在所述涂覆设备外部的出口开口、以及插接管，所述插接管具有连接到所述出口的第一端以及与所述第一端相反的第二端，所述第二端被浸入所述外壳中所容纳的所述液态组合物中；
-所述系统进一步包括初始处理设备，所述初始处理设备被配置成用于在对所述光学制品涂覆上所述初始预定涂覆组合物之前在所述室中对所述光学制品进行初始预定处理，所述控制单元被配置成用于控制所述初始处理设备以对所述光学制品的初始基底涂层或所述光学制品的表面进行处理；
-所述初始处理设备是被配置成用于在所述室中对所述光学制品进行等离子体处理的等离子体发生器，所述控制单元被配置成用于控制所述等离子体发生器以去除所述光学物品的初始最外面的涂层或用于至少活化所述光学物品的外表面；和/或
-所述预定涂覆组合物在所述涂覆处理之后在所述光学制品上形成表面涂层，所述表面涂层被配置成用于赋予所述光学制品从包括以下各项的列表中选择的预定功能：防污或防雾；
-所述预定涂覆组合物在所述涂覆处理之后在所述光学制品上形成通用粘接涂层，所述通用粘接涂层被配置成用于接纳预定表面涂层。
本发明还提供了一种涂覆设备，所述涂覆设备被配置成用于在如上所述的系统的室中对预定涂覆组合物进行涂覆处理以对光学制品进行涂覆，所述涂覆设备被形成为单个盒单元，所述单个盒单元包括被配置成用于容纳所述预定涂覆组合物的外壳、既通到所述外壳中又通到所述涂覆设备外部的汽化导管、以及被配置成用于对所述预定涂覆组合物加压的推进构件；所述涂覆设备被配置成用于使处于工作状态的所述推进构件与所述外壳处于流体连通，以便进行所述涂覆处理；借助于所述涂覆处理，所述预定涂覆组合物能够被汽化并且朝向所述光学制品的至少一面引导。
根据本发明的涂覆设备是用于使光学涂覆组合物在光学产品上汽化的单个盒单元。
这个盒可以容易地插入到任何处理过程中，并且是至少部分自主的。这意味着推进设备可以根据有待汽化的预定涂覆组合物被预先配置，反之亦然。
还可以为确定的处理来预先制备这个盒。因此，所述盒可以被制备，接着可容易地运输和储存。
可以根据被配置成用于容纳所述盒的室的一些结构参数来制备所述盒，例如通过考虑用于盒的支撑件与用于光学制品的支撑件之间的距离。
具体地，可以根据所述室的、和/或待涂覆的光学制品的、和/或待汽化的涂覆组合物的参数来配置汽化导管和/或外壳和/或推进构件。
相比之下，可以独立于例如与所述室、并且更一般地与系统相关的参数来制备所述盒。
可以方便地提供一组标准类型的已制备盒，所述已制备盒彼此不同之处在于所容纳的推进构件和/或所容纳的涂覆组合物。
可以方便地提供一组标准类型的半制备盒，所述半制备盒是模块化的并且具有例如由容纳涂覆组合物的已制备外壳和已制备推进构件形成的已制备模块。
因此，如以上所讨论的系统的使用者可以从多个已制备盒中选择一个盒并使用它，或者可以从多个半制备盒中选择一个盒、然后组装所述已制备模块并且然后使用组装好的盒。
根据本发明的盒更易于操作并且安全。
本发明还提供了一种使用如上所述的系统的方法，所述方法包括以下步骤：
-选择光学制品并且将所述光学制品装载到所述系统的室的内部空间中；
-提供所述系统的涂覆设备，将确定体积的预定涂覆组合物容纳在所述涂覆设备的外壳中，并且将所述涂覆设备装载到所述室的所述内部空间中；
-通过启动所述涂覆设备的推进构件并且使处于工作状态的所述推进构件与所述外壳处于流体连通来进行所述涂覆处理；借助于所述涂覆处理，所述预定体积的预定涂覆组合物被加压、汽化并且朝向所述光学制品的至少一面引导；
-从所述室中卸下所述光学制品和所述涂覆设备。
根据对于实施根据本发明的方法而言非常简单、方便和经济的优选特征：
-所述提供所述涂覆设备的步骤包括根据待涂覆的所述光学物品的参数、并且特别是根据待施涂的涂层和/或在所述光学物品的外表面中包含的材料、和/或所述光学制品上先前涂覆的层中包含的材料来从多个已制备涂覆设备或半制备涂覆设备中选择涂覆设备的步骤；
-所述多个已制备涂覆设备或半制备涂覆设备具有在以下各项当中的不同参数：涂覆组合物、和/或所述外壳中容纳的涂覆组合物的体积、和/或所述推进构件、和/或所述推进构件的加压参数；和/或
-当所选择的涂覆设备是具有由半制备外壳形成的第一模块和/或由半制备推进构件形成的第二模块的半制备涂覆设备时，所述提供所述涂覆设备的步骤进一步包括组装所述第一模块和所述第二模块以将所述涂覆设备形成为单个盒单元的步骤。
附图说明
现在以通过非限制性实例并且参考附图在下文给出的优选实施例的详细描述来继续说明本发明。在这些图中：
-图1是根据本发明的用于进行涂覆的系统的示意图；
-图2和图3是系统的局部示意图，具体地示出了所述系统的室和涂覆设备，所述室的门分别是开着和关着的；
-图4和图5表示局部透视地并且根据不同的视角示出的涂覆设备；
-图6和图7是与图4和图5的视图相似的视图，示出了涂覆设备的第一变型；
-图8和图9也是与图4和图5的视图相似的视图，示出了涂覆设备的第二变型；并且
-图10是框图，展示了使用根据实施例的用于对光学产品重新进行涂覆的系统的步骤。
具体实施方式
图1示出了用于对在此由安装在眼镜架上的眼镜镜片形成的光学制品28进行涂覆或重新进行涂覆的涂覆或重新涂覆处理系统1。
制品28具有第一表面35和第二表面36，第二表面与第一表面35相反。第一表面35是例如这些眼镜镜片中的每个镜片的凹面，而第二表面36是例如每个所述镜片的凸面。
系统1在此包括：
-室8；
-任选地等离子体发生器11，所述等离子体发生器连接到室8；
-涂覆设备40，所述涂覆设备连接到室8；
-支撑件27，所述支撑件位于室8内；
-任选地聚合设备37，所述聚合设备连接到室8；
-任选地入口回路12，所述入口回路连接到室8；
-任选地真空泵20，所述真空泵以出口回路15为中介连接到室8；以及
-控制单元2，所述控制单元被配置成用于控制等离子体发生器11、涂覆设备40和聚合设备37。
室8在此是真空室，并且涂覆设备40在此是喷涂设备。
真空室8包括内部空间31，所述内部空间被配置成用于接纳安装在眼镜架上的眼镜镜片28。
眼镜镜片28安装在支撑件27上。
在变型中，仅一个镜片安装在内部空间中，或者在没有眼镜架的情况下两个镜片被安装在内部空间中。
真空室8进一步包括可移除的门9(参见以下图2和图3的说明)。
等离子体发生器11直接连接到真空室8。
等离子体发生器11一般包括高频发生器。
涂覆设备40在此完全放置在真空室8中，并且更确切地说，喷涂设备被安装在支撑件27上。
在变型中，涂覆设备可以仅部分地放置在室内或室外，但被配置成与所述室的内部空间处于流体连通。
涂覆设备40被配置成用于通过使预定涂覆组合物汽化并且通过将眼镜镜片28的第一表面35和/或第二表面36暴露于已汽化的涂覆组合物下来进行预定涂覆组合物的涂覆处理，以在室8内将所述预定涂覆组合物沉积在眼镜镜片28上。
聚合设备37直接连接到真空室8。
聚合设备37通常包括光源，如紫外光或红外光。
真空室8进一步包括第一入口端口14和第二入口端口34，两者均连接到入口回路12。
所述系统进一步包括安装在入口回路12上的进气阀13和也安装在入口回路12上、平行于进气阀13的入口阀33。
真空室8进一步包括连接到出口回路15上的出口端口16。
真空泵20以真空泵20的进入端口21为中介并且以真空泵20的离开端口22为中介连接到出口回路15，这样使得出口回路15穿过真空泵20。
系统1进一步包括压力传感器17，所述压力传感器以分支点18为中介连接到出口回路15。
系统1进一步包括真空阀19，所述真空阀安装在出口回路15上，在分支点18与真空泵20的进入端口21之间。
系统1进一步包括在此由气体过滤器形成的过滤设备23。
过滤设备23以所述过滤设备23的进气端口24和排气端口25连接到出口回路15上。排气端口25连接到大气。
过滤设备23在此安装在出口回路15的末端、在真空泵20后方。
控制单元2包括数据处理系统，所述数据处理系统包括具有存储器4(具体地非易失性的)的微处理器3，从而允许软件应用(换言之计算机程序)被加载并存储在其中，并且所述软件应用允许其在微处理器3中执行时进行用于对眼镜镜片28进行涂覆和/或重新进行涂覆的方法。
所述非易失性存储器是例如只读存储器。
所述数据处理系统进一步包括存储器5(例如易失性的)，从而允许在所述软件的执行和所述方法的实施期间存储数据。
易失性存储器5是例如随机存取存储器或电可擦除可编程只读储存器。
控制单元2进一步包括被配置成用于与所述数据处理系统通信的通信接口。
所述通信接口在此由图形界面6和键盘7形成。
控制单元2被配置成用于控制进气阀13、涂覆设备40、等离子体发生器11、压力传感器17、真空阀19和真空泵20并且与它们交换数据。
控制单元2被配置成用于控制涂覆设备40以通过使预定涂覆组合物汽化来对眼镜镜片28进行涂覆。
图2和图3详细地示出了真空室8以及它的分别处于打开状态和关闭状态的可移除的门9。
真空室8包括移位构件26，所述移位构件被配置成用于使门9在其打开状态与关闭状态之间滑动。
支撑件27安装在门9的内面上。
在变型中，支撑件位于所述室的内部空间内而不是在门上。
支撑件27在此被配置成用于接纳安装在眼镜架上的眼镜镜片28和涂覆设备40。
门9的打开状态使眼镜镜片28连同眼镜架和涂覆设备40一起能够装载在支撑件27上。
涂覆设备40面向光学制品28的第二表面36。
在门9处于这种关闭状态时，在此，眼镜镜片28连同眼镜架和涂覆设备40一起位于真空室8中。
现在我们将参考图4和图5详细描述涂覆设备40的实施例。
涂覆设备在此是喷涂设备40，其被配置成用于通过将液态预定涂覆组合物50雾化成气雾剂微滴薄雾并通过朝向眼镜镜片28的第一表面35和/或第二表面36引导所述微滴来进行预定液态涂覆组合物50的喷涂处理，以在室8中将所述涂覆组合物沉积在眼镜镜片28上。
相应地，控制单元2因此被配置成用于控制喷涂设备40以在眼镜镜片28上涂覆预定涂覆组合物。
喷涂设备40在此被形成为单个盒单元，其可以是用后可弃性的。这样的单个盒单元40可以为确定的处理预先制备好，是可运输和可储存的。
盒40包括外壳41，所述外壳在此是由例如塑料材料或金属材料制成的刚性外壳。
外壳41具有由柱形侧壁42、底壁44、与底壁46相对的凸环46以及汽化喷嘴48限定的本体，所述汽化喷嘴从柱形侧壁42突出并且在此位于凸环46的附近。
外壳41的本体限定了内部空间43，所述内部空间被配置成用于容纳液态预定涂覆组合物50，所述液态预定涂覆组合物借助于形成在本体中并由凸环46围绕而成的孔47引入内部空间43中。
优选地，内部空间43和液态涂覆组合物50没有受到压力。
外壳41在此具有瓶子的形状，并且进一步包括可移除的盖45，所述盖被配置成用于与凸环46协作以便阻塞孔47。
喷涂设备40进一步包括汽化导管49，所述汽化导管既通到外壳41的内部空间43又通到喷涂设备40的外部。
汽化导管49包括出口51、通道59、以及插接管58，所述出口形成在汽化鼻部48中并且向外开口，所述通道在汽化鼻部48中从出口51延伸到外壳41的内部空间43，所述插接管具有通过通道59连接到出口51的第一端64和与第一端64相反的第二端65，所述第二端被浸入外壳41中所容纳的液态组合物50中。
插接管58被配置成使得浸入液态组合物50中的第二端65非常靠近底壁44并可以面向底壁。
喷涂设备40进一步包括具有关闭状态和打开状态的阀构件60、以及用于控制阀构件60的状态的致动器63。
控制单元2在此被配置成用于通过致动器63控制阀构件60，以将阀构件60置于相应的关闭位置或打开位置。
阀构件60进一步包括管道61，所述管道朝向刚性外壳41延伸并且借助于形成在柱形侧壁42中的孔口(未示出)通到所述刚性外壳的内部空间43中。
外壳41的孔口被形成为在底壁44的对面靠近凸环46，使得管道61在外壳41中在内部空间43没有液态涂覆组合物50的任何位置处开放。
换言之，当外壳41在给定的机器中被放置在直立位置时，管道61不在液态涂覆组合物50中打开。
喷涂设备40进一步包括推进构件52，所述推进构件被配置成用于对液态涂覆组合物加压，阀构件60介于推进构件52与外壳41之间并且连接到所述推进元件和外壳两者。
推进元件52包括封闭罐53，所述封闭罐被配置成用于在内部区域56中容纳加压气体57。
加压气体57在此具有比外壳41的内部空间43中的压力值更高的压力值。
加压气体57可以是诸如n2、ar、co2等的任何惰性气体中的一种。
封闭罐53具有颈部55，所述颈部通过阀构件60的连结接口62紧固到阀构件上。
阀构件60被配置成在其关闭状态下防止推进构件57与外壳41之间处于流体连通，并且还被配置成在其打开状态下相反允许推进构件57与外壳41之间处于流体连通。
当外壳41容纳液态涂覆组合物50时，推进构件57处于工作状态并且阀构件60处于打开状态，因此喷涂设备40被配置成用于进行涂覆处理。
在此，推进构件57的封闭罐53容纳加压气体57，使得推进构件处于工作状态。
当阀构件60被控制并且准许进入其打开状态时，加压气体57流过阀构件60和管道61，进入外壳41的内部空间43，并且通过推动内部空间43中所容纳的液态涂覆组合物50而作用于其上。
因此，液态组合物在汽化导管49的插接管58中被非常快速地推动和汽化。
已汽化的涂覆组合物穿过通道59并且通过出口51排到外壳41之外，在所述出口中，涂覆组合物被雾化成朝向眼镜镜片28引导的气雾剂微滴薄雾。
图6和图7示出了图4和图5所示的喷涂设备的变型。
图6和图7所示的刚性外壳41与图4和图5所示的刚性外壳相同。
图6和图7所示的阀构件60与图4和图5所示的阀构件相同。
图6和图7中所示的喷涂设备40与图4和图5所示的喷涂设备的不同之处在于，推进构件70具有包括主要部分75的本体71、以及出口导管76，所述主要部分是u形的并且限定了内部区域78，所述出口导管限定了与内部区域78连通的通道77。
主要部分75的内部区域78被配置成用于容纳未加压或在变型中已加压的气体79，并且形成膨胀室78。
气体79可以是诸如n2、ar、co2等任何惰性气体中的一种。
出口导管76通过接口62紧固到阀构件60上。
推进构件70进一步包括加热模块，所述加热模块被配置成用于加热膨胀室78，使得气体79获取比外壳41中的压力值更高的压力值。
加热模块包括传导框架72和加热元件74，所述传导框架在此呈u形并且被引入到本体71的主要部分75中，所述加热元件被容纳在形成于主要部分75中的凹陷73中并且与传导框架72处于热接触。
加热元件74可以是自主的或者被配置成由系统1的控制单元2控制，以加热传导框架72并因此加热膨胀室78，以便使推进构件70处于工作状态。
加热元件可以包括例如感应电路，所述感应电路被配置成有待被加热并且通过感应从位于机器中的非接触式能量源接收能量。
在变型中，所述机器可以包括活化源，所述活化源提供形成加热元件的电阻。从活化源到电阻的能量传输是使用能量收集器完成的，诸如容纳在喷涂设备中并被配置成与机器中的对应接触器接触的接触电极或接触针；或被配置成用于从位于机器上的非接触式能量源收集能量的rfid电路。
加热元件和/或能量收集器的尺寸以及因此它们的能量输出可以在喷涂设备中具体确定，使得喷涂设备被配置成用于在给定的持续时间内向气体提供特定的压力。因此，在这些情况下，所述机器可以被配置成用于独立于所使用的喷涂设备来提供单个能量输出，喷涂设备的加热元件或能量收集器的特征和尺寸调节供给到气体的能量的量并且控制气体的膨胀。
类似于参照图4和图5所描述的喷涂设备，图6和图7所示的喷涂设备40被配置为使得当外壳41容纳液态涂覆组合物50时，推进构件70处于工作状态并且阀构件60处于打开状态，因此喷涂设备40被配置成用于进行涂覆处理。
在此，如以上所提及的，膨胀室78被加热模块加热，以便对气体79加压并使推进构件70进入工作状态。
当阀构件60被控制并且准许进入其打开状态时，加压气体79流过通道77、阀构件60和管道61，进入外壳41的内部空间43，并且通过推动内部空间43中所容纳的液态涂覆组合物50而作用于其上。
因此，液态组合物在汽化导管49的插接管58中被非常快速地推动和汽化。
已汽化的涂覆组合物穿过通道59并且通过出口51排到外壳41之外，在所述出口中，涂覆组合物被雾化成朝向眼镜镜片28引导的气雾剂微滴薄雾。
在此，阀构件只是任选的，因为推进构件中的气体79在加热之前处于非加压状态。然而，使用这样的阀构件能够在打开阀之前在推进构件内积聚预定压力，这可能导致涂覆组合物从喷涂设备中更突然地排出。
在未展示的变型中，推进构件包括被配置成用于容纳液体而不是气体的室、以及加热模块，所述加热模块被配置成用于加热所述液体以使其汽化并获得具有比所述外壳中的压力值更高的压力值的气体。
图8和图9示出了图4和图5所示的喷涂设备的另一变型。
图8和图9所示的刚性外壳41与图4和图5所示的刚性外壳相同。
图8和图9所示的阀构件60与图4和图5所示的阀构件相同。然而，阀构件可以是任选的，和/或阀构件可以被控制为只要盒一位于所述室内就进入打开状态。
图8和图9中所示的喷涂设备40与图4和图5所示的喷涂设备的不同之处在于，推进构件80具有包括主要部分85的本体81、以及出口导管86，所述主要部分是u形的并且限定了内部区域88，所述出口导管具有烟道形状并且限定了与内部区域88连通的通道87。
主要部分85的内部区域88被配置成用于容纳未加压或在变型中已加压的气体85，并且形成室88。
出口导管86通过接口62紧固到阀构件60上。
推进构件80进一步包括爆破模块，所述爆破模块被配置成用于将室88内的气体85快速加压到比外壳41中的压力值更高的压力值。
爆破模块包括框架82、爆破元件89(或材料)、以及起爆器84，所述框架在此呈u形并且被引入到本体81的主要部分85中，所述爆破元件布置在框架82的底部中，所述起爆器被容纳在主要部分85中形成的凹陷83中并且被配置成用于使爆破元件89爆破。
起爆器84可以是自主的或者被配置成由系统1的控制单元2控制，以使爆破元件89爆破，使得室88具有比外壳41中的压力值更高的内部压力值，以便使推进构件80进入工作状态。
爆破元件89可以是例如可由电火花点燃以形成低能量爆破的甲烷和分子氧的混合物。
系统1的控制单元2可以借助于电阻、能够产生火花的电容、或者可以通过非接触式电路或者通过接触件或针或者rfid电路所供养的感应电路来控制起爆器84，所述接触件或针被容纳在喷涂设备中并被配置成用于与机器中的对应接触器接触；所述rfid电路被配置成用于从位于机器上的非接触式能量源收集能量。
类似于参照图4和图5所描述的喷涂设备，图8和图9所示的喷涂设备40被配置为使得当外壳41容纳液态涂覆组合物50时，推进构件80处于工作状态并且阀构件60处于打开状态，因此喷涂设备40被配置成用于进行涂覆处理。
在此，如以上所提及的，室88中的内部压力通过室88内的爆破元件89的爆破来增大，以便对气体85加压并使推进构件80进入工作状态。
当阀构件60被控制并且准许进入其打开状态时，加压气体85流过通道87、阀构件60和管道61，进入外壳41的内部空间43，并且通过推动内部空间43中所容纳的液态涂覆组合物50而作用于其上。
因此，液态组合物在汽化导管49的插接管58中被非常快速地推动和汽化。
已汽化的涂覆组合物穿过通道59并且通过出口51排到外壳41之外，在所述出口中，涂覆组合物被雾化成朝向眼镜镜片28引导的气雾剂微滴薄雾。
更一般地，外壳内的液态涂覆组合物可以用外壳中接纳的气态涂覆组合物替换。
在这种情况下，外壳可以没有插接管，并且推进构件的加压气体将(未加压的)气态涂覆组合物朝向汽化鼻部推动，使得被推动的气态涂覆组合物在外壳外部被汽化。
进一步地，在这种情况下，外壳可以在内部空间中包括活化剂，所述活化剂被配置成用于活化气态涂覆组合物。
在未展示的变型中，喷涂设备或更一般地涂覆设备包括充当推进构件的单个件，例如活塞。在这样的情况下，可以不需要阀构件。
这样的活塞可以直接位于外壳的内部空间中，从而界定了用于活塞的致动器的第一室以及用于接纳预定涂覆组合物(液体或气体)的第二室。
第一室和第二室有利地位于单个外壳中以形成盒。
活塞的致动器可以形成为上述推进构件(例如待加热的气体、爆破构件)，或者可以形成为由控制单元控制的机械致动器。
当致动器被控制时，活塞在单个外壳的第二室中移动并且推动其中容纳的液态涂覆组合物。因此，液态组合物在汽化导管的插接管中被非常快速地推动和汽化。已汽化的涂覆组合物穿过通道并且通过出口排到外壳之外，在所述出口中，涂覆组合物被雾化成朝向眼镜镜片引导的气雾剂微滴薄雾。
在未展示的变型中，涂覆组合物可以放置在不是刚性的而是柔性的、可变形但不具有弹性(不是橡胶)的外壳中。
应指出的是，在上述涂覆设备的所有实施例和/或变型中，推进构件可以根据有待汽化的预定涂覆组合物被预先配置，反之亦然。
在此这是特别方便的，因为预定涂覆组合物和推进设备两者都被容纳在同一单个盒单元中，并且因此不是独立提供的。还可以更简单地实现所述系统的设置。
还可以为确定的处理、根据被配置成用于容纳所述盒的室的一些结构参数来预先制备这个盒，例如通过考虑用于盒的支撑件与用于光学制品的支撑件之间的距离。
具体地，可以根据所述室的、和/或待涂覆的光学制品的、和/或待汽化的涂覆组合物的参数来配置汽化导管和/或外壳和/或推进构件。
相比之下，可以独立于例如与所述室、并且更一般地与系统相关的参数来制备所述盒。
可以方便地提供一组标准类型的已制备盒，所述已制备盒彼此不同之处在于所容纳的推进构件和/或所容纳的涂覆组合物。
可以方便地提供一组标准类型的半制备盒，所述半制备盒是模块化的并且具有例如由容纳涂覆组合物的已制备外壳和已制备推进构件形成的已制备模块，所述已制备外壳和已制备推进构件可以被组装在一起。这样的系统因此可以包括不同的涂覆组合物模块，所述涂覆组合物模块可以结合到单一类型的推进构件、或者多个推进构件模块中的任何一个，至少一个推进构件模块与另一个推进构件不同之处在于例如排出速度、所施加能量等。
因此，如以上所讨论的系统的使用者可以从多个已制备盒中选择一个盒并使用它，或者可以从多个半制备盒中选择一个盒、然后组装所述已制备模块并且然后使用组装好的盒。
根据本发明的盒更易于操作并且安全。
所述盒可以是用后可弃性的或者可以重新充电以便重复使用。
以一种方便的方式，系统1因此被配置成提供给眼睛护理专业人员或下文的眼镜商，所述眼镜商可以在眼镜镜片28的配戴者进入他的商店时使用所述系统1。
眼镜镜片28在此包括眼科镜片基材，在这些眼镜镜片上首先涂覆减反射涂层并且其次涂覆初始防污涂层(初始防污涂层形成表面涂层)。
如果初始防污层的作用降低(这可能在配戴数月之后发生)，眼镜商可以在眼镜镜片28上重新涂覆新的防污层。
在变型中，初始涂层不是防污涂层而是防雾涂层。在冬季之后，配戴者可能希望用防污涂层替换防雾涂层。
现在将参考图10详细地描述用于使用机器1以便用在眼镜镜片28上重新涂覆防污涂覆组合物的方法。
为此目的，使用者带上眼镜镜片28并且选择适合的盒子40用于重新涂覆处理，盒40包括预定涂覆组合物(盒提供步骤100)。
在变型中，使用者将确定体积的组合物引入盒40的外壳中。
在另一变型中，使用者选择具有足够量的所选择涂覆组合物的涂覆组合物模块，选择与所述涂覆组合物的量相对应的推进模块并且将两个模块组装到盒中。
使用者打开真空室8的门9，并在步骤101将眼镜镜片28并优选地将盒装载到支撑件27上。镜片例如在此是65mm直径的成品镜片、或已根据镜架的形状进行了切割的镜片，或甚至是包括镜架和安装在在镜架中的镜片的眼镜。
眼镜商关闭真空室8的门9。
接下来，眼镜商通过键盘7和图形界面6开始对眼镜镜片28进行重新涂覆的处理程序。
控制单元2然后接管重新涂覆处理。
在步骤102起动真空泵20并且在步骤103打开真空阀19以便将真空泵20连接(流动连接)到真空室8以便通过出口回路15来排空真空室8的内部空间31。真空泵20因此能够从真空室8中抽吸气体。
控制单元2等待并且通过压力传感器17进行压力测量直到真空室压力达到预定压力，例如约0.4毫巴。
任选地，然后在步骤104打开进气阀13以便允许气体通过入口回路12进入真空室8中以便在真空室8中具有稳定压力。
气体在此是大气。
例如，真空室8的排空时间是大致120秒。
然后在步骤105处将等离子体发生器11设置为具有预定功率并且持续一段预定时间以便进行真空等离子体处理，以除去眼镜镜片28上的效果已经减弱的初始最外防污涂层。
在此，等离子体发生器功率例如是约50-200w(根据真空室8的体积(在此是10l)是5-20w/l)，并且等离子体处理的时间例如是大约等于120秒。
真空等离子体处理允许在不损害减反射涂层的情况下除去眼镜镜片28的全部初始最外涂层。
此外，等离子体处理允许活化眼镜镜片28的表面35和36、特别是减反射涂层以便增加粘附特性。
然后在步骤106闭合真空阀19以便使真空泵20与真空室8断开连接(流动中断)。真空泵20因此能够不从真空室8中抽吸气体。
在等离子体处理期间，由真空泵20抽吸的气体在排出到大气之前通过过滤设备23过滤。
在重新涂覆处理的这一阶段，取决于雾化所需的压力，控制单元2任选地实施通气步骤107。将进气阀33打开持续一段预定时间，例如10-20秒，以便使真空室8通气并且使室8中的压力升高。然后将进气阀33关闭以结束通气步骤。
接下来，在步骤108打开真空阀19以便将真空泵20重新连接(流动连接)到真空室8从而排空所述真空室8。真空泵20因此能够从真空室8中抽吸气体。
将真空阀19打开持续一段预定时间，例如约20秒，直到真空室压力达到汽化所需的压力。
汽化所需的压力取决于待汽化的材料。更一般地，真空室8的内部空间的压力例如包括在100毫巴与0.01毫巴或更低之间。
控制单元2被配置成通过用压力传感器17进行测量来控制真空室8中的压力。
真空阀19关闭，并且控制单元被配置成用于在步骤110进行汽化处理。
更确切地，如上所述，控制单元被配置成在必要时通过作用在加热元件74上或在起爆器84上将推进构件70、80置于工作状态。
当推进构件52、70、80处于工作状态时，控制单元2被配置成用于作用在阀构件60上以使其处于打开状态，以便允许推进构件52、70、80与外壳41之间处于流体连通。
在变型中，控制单元2被配置成用于直接作用在位于外壳(如上所述)中的活塞上。
涂覆组合物50因此被汽化并且朝向眼镜镜片28引导。
更一般地，真空泵20可以能够在汽化处理期间从或不从真空室8中抽吸气体。
在汽化处理期间，涂覆组合物在真空室8中汽化并且已汽化的组合物沉积在眼镜镜片28上。
接下来，在步骤111打开真空阀19以便将真空泵20重新连接(流动连接)到真空室8上以排空所述真空室8，并且具体地说以排空在汽化处理期间放出的气体，因为这类气体可能是有毒的。真空泵20因此能够从真空室8中抽吸气体。
在步骤112将气体从真空泵20送到过滤设备23，所述气体在所述过滤设备中进行过滤。进行过滤步骤111持续一段预定时间，例如约120秒。
然后在步骤113关闭真空阀19，这样使得真空泵20与真空室8断开连接(流动中断)。真空泵20因此能够不从真空室8中抽吸气体。
如在步骤107中，进行通气步骤114，从而使所述室压力与大气压平衡。通气步骤114与通气步骤107相同。
将进气阀33打开持续一段预定时间，例如60秒，以便使真空室8通气，然后关闭进气阀13。
任选地，通气步骤114可以用作干燥步骤，用于蒸发可能含有沉积在镜片上的液态组合物的溶剂。
任选地，取决于所使用的粘附组合物，可以进行聚合步骤。由于所沉积的涂层的厚度和所涉及的高表面能，所述聚合可能不需要任何外部源并且自然地发生。在变型中，所述聚合可能需要活化并且控制单元因此启动聚合设备并且设置在预定功率且持续一段预定时间，以便聚合所述通用粘附涂层。如果所沉积的液体含有与光活化的单体或光聚合物混合的光活化剂，则这种聚合设备可以是uv灯，或所述聚合设备可以是ir灯或甚至在一些情况下可以是所述等离子体发生器。
应注意，干燥步骤和聚合步骤可以同时或相继地进行。
重新涂覆处理因此完成。
眼镜商打开真空室8的门9。
不存在风险，因为所有有毒气体已经被过滤并且在处理期间的空气已经被排出。
在步骤115，眼镜商卸下重新涂覆有新的防污涂层的眼镜镜片28。
眼镜商用比如ipa(“异丙醇(isopropylalcohol或isopropanol)”)等清洁溶液清洗眼镜镜片28。
具体地，表面涂层可以是防污组合物、防雾组合物之一。可替代地，表面涂层可以是聚合物层(以下称为粘接涂层)，可以沉积所述聚合物层以便改进表面涂层的沉积性能。具体地，当希望在未知来源的眼镜表面的顶部上沉积这种表面涂层时，可能需要沉积通用粘附层。
可以插入在最外面的涂层与表面涂层之间的粘接涂层包括至少一种助粘剂。如上所描述的，这种助粘剂包含并且优选由以下各项组成：(i)-sixyz头基，其中x、y和z独立地选自于卤素原子或-or基团，其中，每个r独立地为具有1至6个碳原子的直链烷基或具有3至6个碳原子的支链烷基；(ii)反应性末基，其能够任选地在物理处理、化学处理或物理化学处理后与由包含在表面涂层组合物中的至少一种化合物携带的至少一个官能团反应；以及(iii)连接头基和端基的间隔基。
反应性端基优选地是以下基团中的任一项：氨基、羟基、巯基、乙酰氨基、卤基、卤硅烷基团、烷氧基硅烷基团、乙酰氧基硅烷基团、环氧基、硫代环氧基、醛基团、炔烃基团、羧基或可以通过化学反应转化成这些之一的基团，例如醚、硫醚、烯烃、酮或羧酸酯基团。
助粘剂优选地使得满足以下条件中的至少一项、并且优选满足以下全部条件：
-sixyz头基选自于单烷氧基硅烷基团、二烷氧基硅烷基团和三烷氧基硅烷基团，优选是三烷氧基硅烷基团，并且烷氧基是选自于甲氧基和乙氧基；
-间隔基为具有1到10个碳原子的直链亚烷基链或具有3到10个碳原子的支链亚烷基链，其中，至多3个碳原子可以被氧原子或硫原子取代，优选是具有2到4个碳原子的直链亚烷基链；以及
-反应性端基选自于由以下各项组成的组：氨基、羟基、巯基、乙酰氨基、卤基、卤硅烷基团、烷氧基硅烷基团、乙酰氧基硅烷基团、环氧基、硫代环氧基、醛基团、炔烃基团、羧基、醚基团、硫醚基团、烯烃基团、酮基团和羧酸酯基团，优选氨基或环氧基团。
助粘剂可以具有150g/mol与1000g/mol之间、优选在165g/mol与450g/mol之间的分子量。
助粘剂的实例是3-氨丙基三甲氧基硅烷(aptms)、3-氨丙基三乙氧基硅烷(aptes)、3-氨丙基三(甲氧基乙氧基乙氧基)硅烷、乙酰氨基丙基三甲氧基硅烷、γ缩水甘油醚氧基丙基三甲氧基硅烷(glymo)、γ-缩水甘油醚氧基丙基三乙氧基硅烷、及其混合物。
粘接涂层通常包括助粘剂，并且除了由于其合成而在助粘剂中任选存在的杂质以外不包含任何其他化合物。
粘接涂层一般具有范围从1nm至100nm的厚度。
可以通过真空蒸镀或喷涂沉积将粘合层组合物施涂到最外面的有机涂层上。根据本发明的过程，可以使用不同蒸镀设备，诸如基于离子或电子束加热方法的设备、基于高频加热方法的设备、基于光加热方法的设备(例如，这种设备包括钨丝灯)、焦耳效应设备或电阻加热设备、以及更一般地提供足够的热量来蒸发液态涂覆层材料的任何加热设备。这些设备是本领域内众所周知的。
本发明优选使用的防污表面涂层是使光学物品的表面能减小到小于14mj/m2的那些表面涂层。当使用具有小于13mj/m2并且甚至更好地小于12mj/m2的表面能的防污表面涂层时，本发明有特别的意义。这些表面能值根据以下文献中描述的owenswendt方法来计算：owens,d.k.；wendt,r.g.“聚合物的表面力能的估计[estimationofthesurfaceforceenergyofpolymers]”，j.appl.polym.sci.1969,51,1741-1747。
根据本发明的防污表面涂层优选具有有机性质。对于“有机性质”，它是指相对于涂层的总重量包含按重量计至少40％，优选按重量计至少50％的有机材料的层。优选的防污表面涂层由包含至少一种氟化化合物的、特别是含有(多个)全氟化碳或全氟聚醚基团的液态涂覆材料制成的。举例来讲，将提到的是包含一个或多个含氟基团(诸如在此以上提到的那些)的硅氮烷、聚硅氮烷或硅酮化合物。此类化合物已在现有技术中、例如在专利us4410563、ep0203730、ep0749021、ep0844265和ep0933377中进行了广泛披露。
优选的氟化化合物是带有至少一个选自以下项的基团的硅烷和硅氮烷：氟化烃、全氟化碳、氟化聚醚诸如f3c-(oc3f6)24-o-(cf2)2-(ch2)2-o-ch2-si(och3)3以及全氟聚醚，特别是全氟聚醚。
在氟硅烷中，可以提及具有以下化学式的化合物：
其中n＝5、7、9或11并且r是烷基、典型地c1-c10烷基，诸如甲基、乙基和丙基；cf3ch2ch2sicl3；cf3-cf2-(ch2ch2)n'-sicl3；并且
其中n’＝7或9，并且r是如上所定义的。
还有用于制备疏水性和/或疏油性表面涂层的含氟化化合物的组合物在us6,183,872中进行了披露。us6,183,872的含硅有机氟聚合物由以下通式表示，并且具有5.102到1.105的数均分子量。
化合物的其他实例具有以下公式：
其中，rf表示全氟烷基，z表示氟原子或三氟甲基，a、b、c、d和e各自独立地表示0或等于或大于1的整数，条件是a+b+c+d+e不小于1且由下标a、b、c、d和e所括起来的重复单元在上式中出现的顺序不限于所示那样；y表示氢原子或含1到4个碳原子的烷基；x表示氢原子、溴原子或碘原子；r1表示羟基或可水解取代基；r2表示氢原子或一价烃基；i表示0、1或2；m表示1、2或3；并且n"表示等于或大于1、优选等于或大于2的整数。
其他用于形成防污表面涂层的优选组合物是含有包含氟化聚醚基团、特别是全氟聚醚基团的化合物的防污表面涂层。一类特别优选的含有氟化聚醚基团的组合物在us6,277,485中进行了披露。us6,277,485的防污表面涂层是至少部分固化的涂层，所述涂层包含氟化硅氧烷、通过涂覆包含至少一种具有以下化学式的氟化硅烷的涂覆组合物(典型地呈溶液形式)来制备：
其中rf为一价或二价氟化聚醚基团，r1为二价亚烷基、亚芳基或其组合，任选地含有一个或多个杂原子或官能团，并且任选被卤素原子取代，并且优选含有2到16个碳原子；r2是低级烷基(即c1-c4烷基)；y是卤素原子、低级烷氧基(即c1-c4烷氧基，优选甲氧基或乙氧基)或低级酰氧基(即-oc(o)r3，其中r3是c1-c4烷基)；x是0或1；并且y是1(rf是一价的)或2(rf是二价的)。适合的化合物典型地具有至少约1000的(数均)分子量。优选地，y是低级烷氧基并且rf是氟化聚醚基团。
用于制作防污表面涂层的商业组合物是信越化学公司(shin-etsuchemical)销售的组合物ky130和kp801m以及大金工业公司(daikinindustries)销售的组合物optooldsx(包含全氟丙烯部分的基于氟的树脂)。optooldsx是最优选的用于防污表面涂层的涂覆材料。
防雾表面涂层通常包括亲水性涂层，所述涂层提供与水的低静态接触角，优选地小于50°，更优选地小于25°。这些涂层通常是由高度亲水物(诸如磺酸盐或聚氨酯)制成。
可商购产品包括若干微米厚亲水层。
防雾涂层可以是永久防雾涂层，其是亲水性化合物永久性地结合到另一种涂层或支持体上的亲水性涂层。这类涂层例如在ep1324078、us6,251,523、和us6,379,776中进行了描述。
可替代地，防雾涂层可以是通过将亲水性溶液施用到防雾涂层前体的表面上而产生的临时防雾涂层。
例如，ep1275624描述了涂覆有基于金属氧化物和氧化硅的硬无机亲水层的镜片。其亲水性质和在其表面上纳米凹面部分的存在使得能够浸渍一种表面活性剂并且经一段长的时间保持相同吸附，由此维持防雾作用若干天。然而，防雾作用也可以在不存在任何表面活性剂的情况下观察到。
例如在ep1276624中使用的防雾涂层前体通常从包含有机化合物的组合物中获得，所述有机化合物包含亲水性基团(如聚氧乙烯)、选自于烷氧基硅烷si(or)n、硅烷醇sioh或异氰酸酯基团的反应性基团，以及任选地氟化疏水基团。选择组合物以使得防雾涂层前体与水的静态接触角在50°至90°之间变化。用于防雾涂层前体中的有机化合物优选具有700g/mol至5000g/mol或430g/mol至3700g/mol范围内的分子量。作为此类化合物的实例，提及的是ch3o(ch2ch2o)22conh(ch2)3si(och3)3或c8f17o(ch2ch2o)2conh(ch2)3-si(och3)3化合物。防雾涂层前体通常为0.5nm至20nm厚。
wo2011/080472中描述了另一防雾涂层前体。通过接枝至少一种具有包含小于80个碳原子的聚氧化烯基团以及至少一个带有至少一个可水解基团的硅原子的有机硅烷化合物获得这种防雾涂层前体。所述防雾涂层前体具有小于或等于5nm的厚度并且与水的静态接触角大于10°且小于50°。
优选沉积以便为防雾涂层前体的表面提供防雾特性的溶液是可商购的defogittm溶液或诸如由gelest提供的硅酮聚氧乙烯(sipeo]。
防雾特性、尤其是与wo2011/080472中描述的防雾涂层前体有关的防雾作用的耐久性，是令人非常满意的。
表面涂层可以是一种复合杂化化合物，其包含例如金属或矿物颗粒或纳米颗粒。其可以包含单体或单体的混合物以便形成聚合物材料。其甚至可以包含活性化合物，诸如染料、光致变色染料、电致变色材料、液晶等。
待沉积的预定液态涂覆组合物可以是任何可喷涂液体溶液。在大多数情况下，为了使化合物可喷涂，在溶剂(例如水或乙醇或甲醇或hfe7100或其他溶剂)中提供所需的化合物是有用的。
预定液态涂覆组合物具有一定浓度的化合物到溶剂中，所述浓度可以从0.1％直至100％变化。
预定液态涂覆组合物具有一定浓度的化合物vs溶剂，这取决于溶剂和化合物的粘度和/或溶剂在环境温度下的汽化压力。
待喷涂的预定液态涂覆组合物的粘度可以取决于所使用的溶剂(如果有的话)；并且使用溶剂的一个主要目的是使溶液能够具有足够低的粘度，使得当其从盒中被推出时可以达到将其雾化的速度。
预定涂覆组合物的必要体积可以根据所需材料的最终厚度、溶液中材料的浓度、溶液中化合物的浓度、以及在待处理表面外部汽化的材料量。
喷涂设备可以包括多个出口开口以例如用于将雾化气雾剂微滴推动到所述室中，从而提供多个输出到所述室中。
涂覆设备可能能够移动到位，和/或室可以包括用于移动光学制品以将其定位在涂覆设备的出口开口的前方的装置。
涂覆设备的出口开口与光学制品之间的距离可以包括在约1cm与约10cm之间、优选地在约2cm与约8cm之间、并且更优选地在约4cm与约6cm之间。
涂覆设备可以用于沉积尽可能少的材料在待覆盖的光学制品的表面之外。
人们可能能够根据所沉积的膜(化合物和溶剂)、待覆盖的表面的材料、待覆盖的表面的形状和组合物、表面张力以及例如可喷涂液体的粘度来适配出口开口的形状、投射的距离、确切真空压力、投射拟圆锥形与待覆盖的表面的相对位置和取向。
可以操控所有那些参数以便使液体适应于可供使用的机器抑或相反地使所述机器适应于可供使用的溶液。
在一种变型中，真空阀不用于引起真空泵从或不从真空室抽吸气体，而是控制单元被配置成用于直接打开或关闭真空泵(流动连接和流动中断)。
在没有展示出的变型中：
-所述机器不包括等离子体发生器和/或蒸镀设备和/或聚合设备；
-所述机器的控制单元被配置成用于控制涂覆设备以沉积粘接涂层和/或表面涂层到光学制品上(无需预先等离子体处理)；
-所述机器的控制单元被进一步配置成用于控制聚合设备以便聚合已汽化和/或已雾化的粘接涂层；
-所述支撑件可移动并被配置成用于选择光学产品与涂覆设备的出口开口之间的距离；
-所述支撑件未被布置在所述室的门上，而是直接布置在所述室内；
-所述机器包括被配置成用于接纳光学制品的第一支撑件和与第一支撑件不同并被配置成用于接纳涂覆设备的第二支撑件；
-过滤设备未被放置在真空泵后方，而是在真空泵与真空室之间；
-涂覆设备不是与眼镜镜片同时装载在所述室中(在真空等离子体处理之前)，而是在等离子体处理之后且在涂覆处理之前；
-压力传感器未通过分支点连接到出口回路，而是压力传感器直接连接到真空室；和/或
-压力、温度和时间的值是不同的，例如等离子体处理压力是约0.1-1毫巴而不是0.3-0.35毫巴，蒸镀处理压力是约1-1000毫巴而不是50毫巴。
更一般来讲，应注意到，本发明不局限于所描述和展现的示例。