微纳压印模具的制作方法

本实用新型涉及纳米压印技术领域，尤其涉及一种微纳压印模具。

背景技术：

模具，工业生产上用以注塑、吹塑、挤出、压铸或锻压成型、冶炼、冲压等方法得到所需产品的各种模子和工具。简而言之，模具是用来成型物品的工具，这种工具由各种零件构成，不同的模具由不同的零件构成。它主要通过所成型材料物理状态的改变来实现物品外形的加工。素有“工业之母”的称号。

光学元件等的微纳结构的成型更是离不开模具。一般的，先将流质或塑性变形材料涂覆在基材上，再以微纳压印模具压印出结构，然后利用热固化或者 UV光固化定型。然，在压印过程中，微纳压印模具受力容易使其上的微纳结构遭到变形或破坏，从而影响微纳压印模具的使用寿命。

鉴于此，本实用新型通过改善微纳压印模具以解决所存在的技术问题。

技术实现要素：

基于此，有必要提供一种微纳压印模具以解决上述的技术问题。

本实用新型的一个技术方案是：

一种微纳压印模具，其包括承载体、设置于所述承载体呈凸起和/或凹陷设置的压印纹理和邻近所述压印纹理用于压印时承受压印力的凸台，所述微纳压印模具还包括设置于所述承载体且具有遮光或绝热功能的遮掩结构。

在其中一实施例中，所述承载体包括纹理区，所述压印纹理设置于所述纹理区，所述纹理区外设置有所述凸台。

在其中一实施例中，若干所述纹理区间隔设置，所述纹理区间的间隙设置有所述凸台。

在其中一实施例中，所述纹理区内的压印纹理间隔设置，所述压印纹理间的间隙设置有所述凸台。

在其中一实施例中，所述压印纹理间隔设置，所述压印纹理间的间隙设置有所述凸台。

在其中一实施例中，所述承载体设置有第一侧面及与所述第一侧面相对设置的第二侧面，所述压印纹理和凸台设置于所述第一侧面，所述凸台相对于所述第二侧面的高度不低于所述压印纹理相对于所述第二侧面的高度。

在其中一实施例中，所述承载体的第一侧面划分有沉入所述第一侧面内的纹理区，所述第一侧面除所述纹理区外的区域为所述凸台。

在其中一实施例中，所述凸台具有不同的高度。

在其中一实施例中，所述凸台分布于所述第一侧面上和所述压印纹理的间隙上，位于所述第一侧面上的凸台的高度不同于位于所述压印纹理的间隙上的凸台的高度。

在其中一实施例中，同一所述纹理区内的所述压印纹理的长、宽、高、形状、凹凸、排布密度中的至少一个参数有变化。

在其中一实施例中，所述遮掩结构对应于所述凸台设置，和/或，所述遮掩结构与部分所述压印纹理在投影面上部分重叠或完全重叠。

在其中一实施例中，所述承载体包括第一侧面及与所述第一侧面相对设置的第二侧面，所述压印纹理和所述凸台设置于所述第一侧面，所述遮掩结构设置于所述第二侧面并与所述凸台相对设置。

在其中一实施例中，还包括基层和保护层，所述保护层设置于所述基层和承载体之间，所述遮掩结构设置于所述基层上，所述保护层覆盖所述遮掩结构并位于所述遮掩结构远离所述基层的一侧。

本实用新型的有益效果：微纳压印模具在压印时，设置凸台来承受压印时的绝大多数的压印力，可保护压印纹理免遭变形或损坏，进而提高微纳压印模具的使用寿命。

附图说明

图1为本实用新型微纳压印模具的结构示意图；

图2为本实用新型微纳压印模具另一种的结构示意图；

图3为本实用新型微纳压印模具又一种结构示意图；

图4为本实用新型微纳压印模具又一种结构示意图；

图5为本实用新型微纳压印模具又一种结构示意图；

图6为本实用新型微纳压印模具又一种结构示意图；

图7为本实用新型微纳压印模具又一种结构示意图；

图8为本实用新型微纳压印模具又一种结构示意图；

图9为本实用新型微纳压印模具又一种结构示意图；

图10为本实用新型微纳压印模具又一种结构示意图；

图11为图10中A-A’截面结构示意图。

具体实施方式

为了便于理解本实用新型，下面将参照相关附图对本实用新型进行更全面的描述。附图中给出了本实用新型的较佳实施方式。但是，本实用新型可以通过许多不同的形式来实现，并不限于下面所描述的实施方式。相反地，提供这些实施方式的目的是使对本实用新型的公开内容理解的更加透彻全面。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本实用新型。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

本实用新型揭示一种微纳压印模具，其包括承载体、设置于承载体呈凸起和/或凹陷设置的压印纹理和邻近压印纹理用于压印时承受压印力的凸台。微纳压印模具在压印时，设置凸台来承受压印时的绝大多数的压印力，可保护压印纹理免遭变形或损坏，进而提高微纳压印模具的使用寿命。

优选的，承载体包括纹理区，压印纹理设置于纹理区，纹理区外设置有凸台。凸台承受绝大多数的压印力后可保护位于纹理区内的压印纹理。

优选的，若干纹理区间隔设置，纹理区间的间隙设置有凸台。凸台分布于纹理区的间隙上，使受力更加均匀，压印稳定性更好，也能进一步保证对压印纹理的保护。进一步的，凸台上凹设有具有排气作用的凹槽，可使压印过程中的可能产生的少量气体或多余的胶有容纳的地方，进一步保证压印质量。

优选的，纹理区内的压印纹理间隔设置，压印纹理间的间隙设置有凸台。纹理区外的凸台和压印纹理间的凸台具有相同或不同的高度。例如，纹理区外的凸台的高度大于压印纹理间的凸台的高度，纹理区外的凸台承受大部分的压印力后，其余的压印力由位于压印纹理间的凸台承受，对压印纹理具有双重保护的作用，从而增加微纳压印模具的使用寿命。

优选的，承载体设置有第一侧面及与第一侧面相对设置的第二侧面，压印纹理和凸台设置于第一侧面，凸台相对于第二侧面的高度不低于压印纹理相对于第二侧面的高度。从而保证凸台对压印力的承受能力。

优选的，承载体的第一侧面划分有沉入第一侧面内的纹理区，第一侧面除纹理区外的区域为凸台。

优选的，凸台可具有不同的高度。比如，纹理区内的凸台高度低于纹理区外的凸台高度。又比如，位于第一侧面边缘的凸台高度低于位于第一侧面中间位置的凸台高度。又比如，凸台分布于第一侧面上和压印纹理的间隙上，位于第一侧面上的凸台的高度高于压印纹理的间隙上的凸台的高度。

优选的，同一纹理区内的压印纹理的长、宽、高、形状、凹凸、排布密度等等中的至少一个参数有变化。变化的压印纹理压印成型的微纳结构具有更好的装饰效果或者更好的防伪效果。

优选的，微纳压印模具还包括设置于承载体且具有遮光或绝热功能的遮掩结构，遮掩结构对应于凸台设置，和/或，遮掩结构与部分压印纹理在摄影面上部分重叠或完全重叠。遮掩结构对应压印后不需要固化的部分，从而在压印固化后仅留下需求的结构。遮掩结构对应凸台设置，且遮掩结构的边缘与部分压印纹理对应设置，也即遮掩结构在投影面上部分与压印纹理重叠，可遮挡压印纹理的边缘部分，在固化清洗后，可保证压印出的纹理边缘的完整性和美观性。遮掩结构还可以完全被压印纹理在投影面上重叠和覆盖，此时在投影面上，遮掩结构的面积小于压印纹理所在区域的面积，可将部分压印纹理遮挡，压印固化后清洗掉该部分的压印胶后，仅留下未被遮掩的压印纹理。比如遮掩结构对应手机前盖的屏幕区域，清洗后只留下屏幕区域四周的纹理结构。比如遮掩结构对应摄像模组盖板的窗口区域，清洗后只留下窗口区域外围的CD纹。

优选的，承载体包括第一侧面及与第一侧面相对设置的第二侧面。压印纹理和凸台设置于第一侧面，遮掩结构设置于第二侧面并与凸台相对设置。

优选的，微纳压印模具还包括基层和保护层，保护层设置于基层和承载体之间，遮掩结构设置于基层上，保护层覆盖遮掩结构并位于遮掩结构远离基层的一侧。

以下，请参附图，举例描述本实用新型的微纳压印模具。

请参图1，本实用新型结构一种微纳压印模具100a，其包括承载体1a、设置于承载体1a呈凸起设置的压印纹理2a和邻近压印纹理2a用于压印时承受压印力的凸台3a。比如在玻璃盖板上涂布可固化压印胶，用微纳压印模具100a进行压印，固化并脱模后即可在玻璃表面形成需要的微纳结构。压印时，需要对微纳压印模具100a施加一定的压印力，以确保压印纹理2a对压印胶的作用。同时，凸台3a承担了压印时的主要的压印力，确保微纳压印模具100a对可压印胶的压印深度又不会使压印纹理2a承担过多的压印力而使压印纹理2a变形或破坏，并且容易脱模，保证了压印质量，增加微纳模具100a的使用寿命。承载体1a包括纹理区11a，压印纹理2a设置于纹理区11a，凸台3a设置于纹理区11a外。若干纹理区11a间隔设置，纹理区11a间的间隙设置有凸台3a。承载体1a设置有第一侧面12a及与第一侧面12a相对设置的第二侧面13a。压印纹理2a和凸台3a设置于第一侧面12a。凸台3a相对于第二侧面13a的高度不低于压印纹理3a相对于第二侧面13a的高度。第一侧面12a除纹理区11a的部分为凸台3a。压印纹理2a为下沉的凸起结构，复数凸起结构无间隔设置。凸台3a可保护凸起结构变形或破坏，且容易脱模。

请参图2，一种微纳压印模具100b，其包括承载体1b、设置于承载体1b呈凹陷设置的压印纹理2b和邻近压印纹理2b用于压印时承受压印力的凸台3b。压印纹理2b为凹陷结构且截面呈弓形，相邻压印纹理2b之间设置有间隙，间隙处设置有凸台3b。第一侧面12b与凸台3b平齐。微纳压印模具100b容易脱模，且能最大限度的保护压印纹理2b在压印时不受变形或破坏。

请参图3，微纳压印模具100c相较于微纳压印模具100b的区别在于，凸台3c 凸伸于第一侧面12c设置。

请参图4，微纳压印模具100d相较于微纳压印模具100b的区别在于，压印纹理2d的截面为三角形。

请参图5，微纳压印模具100e包括承载体1e、设置于承载体1e呈凸起设置的压印纹理2e和邻近压印纹理2e用于压印时承受压印力的凸台3e。承载体1e包括纹理区11e、第一侧面12e和第二侧面13e。纹理区11e设置于第一侧面12e，第一侧面12e和第二侧面13e相对设置。压印纹理2e为随机设置凸起结构并设置于纹理区11e内，凸台3e设置于第一侧面12e除纹理区11e外的区域。纹理区11e内的压印纹理无间隔设置。微纳压印模具100e还包括遮掩结构4e和基层5e。基层5e 设置于第二侧面13e，遮掩结构4e位于基层5e和承载层1e之间，遮掩结构4e对应于凸台3e设置，同时对应于压印纹理2e的边缘。压印固化后，遮掩结构4e对应的区域未被固化，只保留由压印纹理2e压印出的微纳结构；同时遮掩结构4e对应的压印纹理2e的边缘，该部分也被清洗掉，如此可保证最后形成的纹理结构边缘的完成性和美观性。而凸台3e的设置使脱模更加容易，微纳压印模具100e 的使用寿命更加长久。

请参图6，微纳压印模具100f相交于微纳压印模具100e的区别在于，压印纹理2f凹陷设置，为无间隔设置的柱面镜，其截面形状为弓形。凸台3f能更好的保护柱面镜与柱面镜的交接点。

请参图7，微纳压印模具100g相较于微纳压印模具100e的区别在于，压印纹理2g为凸起的柱面镜，其截面形状为弓形。弓形的顶点低于凸台3g设置，凸台 3g能更好的保护柱面镜的形状。

请参图8，微纳压印模具100h相较于微纳压印模具100g的区别在于，凸台3h 上凹设有具有排气作用的凹槽14h。底面13h和承载层5h之间设置有保护层6h。保护层6h覆盖遮掩结构4h且位于遮掩结构4h远离承载层5h的一侧。保护层6h可保护遮掩结构4h在压印时产生漂移，从而保证压印质量。

请参图9，微纳压印模具100i包括承载体1i、设置于承载体1i呈凹陷设置的压印纹理2i和邻近压印纹理2i用于压印时承受压印力的凸台3i。承载体1i包括纹理区11i、第一侧面12i和第二侧面13i。纹理区11i设置于第一侧面12i，第一侧面12i和第二侧面13i相对设置。纹理区11i内，压印纹理2i为间隔设置的柱面镜，其截面呈弓形。纹理区11i外及柱面镜的间隙中均为凸台3i。微纳压印模具 100i还包括基层5i、遮掩结构4i和保护层6i。保护层6i设置于基层5i和承载层 1i之间，遮掩结构4i设置于基层5i上，保护层6i覆盖所述遮掩结构4i，遮掩结构4i对应于非纹理区的凸台3i设置。微纳压印模具100i容易脱模，寿命长，成型的微纳结构质量好。

请参图10和图11，一种微纳压印模具100j，可应用于成型例如手机前盖上的微纳结构，成型的微纳结构具有较好的装饰效果。微纳压印模具100j包括承载体1j、设置于承载体1j呈凹陷设置的压印纹理2j和邻近压印纹理2j用于压印时承受压印力的凸台3j。承载体1j包括纹理区11j、第一侧面12j和第二侧面13j。纹理区11j设置于第一侧面12j，第一侧面12j和第二侧面13j相对设置。纹理区 11j内具有压印纹理2j，压印纹理2j为无间隙的柱面镜，其截面形状为弓形。凸台3j设置于第一侧面12j除纹理区11j外的区域。压印纹理2j于凸台3j凹陷设置。微纳压印模具100j还包括遮掩结构4j、基层5j和保护层6j。保护层6j设置于基层5j和承载层1j之间，遮掩结构4j设置于基层5j上，保护层6j一面覆盖遮掩结构4j相对的另一面与第二侧面13j接触。遮掩结构4j对应于凸台3j和位于凸台3j 旁的压印纹理2j的边缘部分，及遮掩结构4j对应于屏幕区域的压印纹理2j。纹理区11j设置于第一侧面12j的周边。例如，可在手机的玻璃前盖上涂布UV胶后，用微纳压印模具100j压印并固化，脱模后清洗掉被遮掩结构4j遮住而未被固化的部分，主要为对应的屏幕区域和外围边缘，同时被固化的部分形成微纳结构，即可成型位于手机前盖周边的微纳结构，具有较好的装饰效果。压印纹理2j延伸至整个屏幕区域，可方便压印纹理的形成。微纳压印模具100j方便脱模，且压印出的微纳结构性能稳定，模具使用寿命较长。

为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，上面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。在上面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以很多不同于上面描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进，因此本实用新型不受上面公开的具体实施例的限制。并且，以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。