双面压印的制作方法

文档序号:20886986发布日期:2020-05-26 17:36阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种双面压印的方法,包括:

沿着第一辊拉动第一幅材,并且沿着第二辊拉动第二幅材,所述第一幅材包括第一模板,并且所述第二幅材包括第二模板;

将所述第一幅材和所述第二幅材上的参考标记对准,以使得所述第一模板和所述第二模板彼此对准;

在第一方向上沿着所述第一辊拉动所述第一幅材以将所述第一模板暴露于第一分配器,并且在第二方向上沿着所述第二辊拉动所述第二幅材以将所述第二模板暴露于第二分配器;

通过所述第一分配器在所述第一模板上分配第一抗蚀剂,并且通过所述第二分配器在所述第二模板上分配第二抗蚀剂;

在与所述第一方向相反的方向上沿着所述第一辊拉动所述第一幅材,并且在与所述第二方向相反的方向上沿着所述第二辊拉动所述第二幅材,以使得具有所述第一抗蚀剂的所述第一模板和具有所述第二抗蚀剂的所述第二模板彼此面对;

在具有所述第一抗蚀剂的所述第一模板和具有所述第二抗蚀剂的所述第二模板之间插入基板;

固化所述第一抗蚀剂和所述第二抗蚀剂,以使得固化的第一抗蚀剂在所述基板的第一面上具有与所述第一模板相关联的第一被压印特征,并且固化的第二抗蚀剂在所述基板的第二面上具有与所述第二模板相关联的第二被压印特征;以及

卸载在所述第一面上具有所述第一被压印特征以及在所述第二面上具有所述第二被压印特征的所述基板。

2.根据权利要求1所述的方法,还包括:

在所述对准之后,在与所述参考标记相邻的位置处夹紧所述第一幅材和所述第二幅材,以使得夹紧的第一幅材和第二幅材随着彼此对准的所述第一模板和所述第二模板移动,以及

在所述固化之后,松开所述第一幅材和所述第二幅材,以使得具有固化的第一抗蚀剂和第二抗蚀剂的所述基板能够穿过所述第一幅材和所述第二幅材之间的间隙。

3.根据权利要求2所述的方法,其中,夹紧所述第一幅材和所述第二幅材包括:

利用夹具致动卡盘,以使得所述卡盘在所述第一幅材上以及所述夹具在所述第二幅材上。

4.根据权利要求3所述的方法,其中,所述卡盘包括真空卡盘,所述真空卡盘被配置为利用真空卡紧在所述第一幅材上。

5.根据权利要求3所述的方法,其中,所述卡盘被配置为能够沿着平行于由所述第一辊限定的轴线的轨道移动,以及

其中,在所述夹紧之后,所述卡盘和所述夹具与所述第一幅材和所述第二幅材一起移动。

6.根据权利要求5所述的方法,其中,所述卡盘位于一对引导件上,并且每个所述引导件能够在连接到框架的相应的轨道上移动。

7.根据权利要求6所述的方法,其中,将所述第一幅材和所述第二幅材上的参考标记对准包括:在x、y或θ方向中的至少一个方向上调整所述引导件在所述相应的轨道上的相对位置。

8.根据权利要求1所述的方法,其中,所述第一辊和所述第二辊被布置为使得:在所述插入之后,所述基板与所述第一模板和所述第二模板一起移动,并且所述第一抗蚀剂被按压到所述基板的所述第一面上并被填充到所述第一模板上的第一压印特征中,并且所述第二抗蚀剂被按压到所述基板的所述第二面上并被填充到所述第二模板上的第二压印特征中。

9.根据权利要求1所述的方法,还包括:

在所述第一幅材上移动第一挤压辊以将所述第一模板推入所述第一抗蚀剂中,以使得所述第一抗蚀剂填充到所述第一模板上的第一压印特征中;以及

在所述第二幅材上移动第二挤压辊以将所述第二模板推入所述第二抗蚀剂中,以使得所述第二抗蚀剂填充到所述第二模板上的第二压印特征中。

10.根据权利要求9所述的方法,其中,在一起移动所述第一挤压辊和所述第二挤压辊期间,所述第一挤压辊和所述第二挤压辊被定位成彼此相对。

11.根据权利要求1所述的方法,其中,将所述第一幅材和所述第二幅材上的参考标记对准包括:将所述第一幅材上的第一参考标记与所述第二幅材上的第二参考标记对准,以及将所述第一幅材上的第三参考标记与所述第二幅材上的第四参考标记对准。

12.根据权利要求11所述的方法,其中,所述第一参考标记和所述第三参考标记限定所述基板被配置为用所述第一模板压印的范围。

13.根据权利要求1所述的方法,其中,将所述第一幅材和所述第二幅材上的参考标记对准包括:在x、y或θ方向中的至少一个方向上移动所述第一辊中的z辊。

14.根据权利要求1所述的方法,其中,将所述第一幅材和所述第二幅材上的参考标记对准包括:通过使用相机系统或激光系统中的至少一个来定位所述参考标记。

15.根据权利要求1所述的方法,其中,所述第一辊包括至少一个空气转向辊,所述至少一个空气转向辊被配置为通过气压使所述第一幅材漂浮。

16.根据权利要求1所述的方法,其中,所述第一辊包括至少一个空气转向辊,所述至少一个空气转向辊被配置为通过真空来卡紧所述第一幅材。

17.根据权利要求1所述的方法,其中,所述第一方向是逆时针方向,并且所述第二方向是顺时针方向。

18.根据权利要求1所述的方法,其中,所述第一辊包括在垂直方向上布置的两个第一z辊,以及所述第二辊包括在垂直方向上布置的两个第二z辊。

19.根据权利要求18所述的方法,其中,通过所述第一分配器在所述第一模板上分配第一抗蚀剂包括:当所述第一模板在水平方向上时,在所述第一模板上分配所述第一抗蚀剂;以及

其中,通过所述第二分配器在所述第二模板上分配所述第二抗蚀剂包括:当所述第二模板在水平方向上时,在所述第二模板上分配所述第二抗蚀剂。

20.根据权利要求1所述的方法,其中,插入所述基板包括:沿着插入方向通过第一保持器插入所述基板,以及

其中,卸载所述基板包括以下之一:

沿着与所述插入方向相反的方向移动具有所述第一被压印特征和所述第二被压印特征的所述基板,以及通过所述第一保持器卸载具有所述第一被压印特征和所述第二被压印特征的所述基板,以及

沿着所述插入方向移动具有所述第一被压印特征和所述第二被压印特征的所述基板,以及通过不同的第二保持器卸载具有所述第一被压印特征和所述第二被压印特征的所述基板。

21.根据权利要求1所述的方法,还包括:

通过第一张力传感器测量所述第一幅材的第一张力;以及

通过第二张力传感器测量所述第二幅材的第二张力。

22.根据权利要求1所述的方法,还包括:

控制至少包围所述第一模板和所述第二模板的腔室的温度或清洁度中的至少一个。

23.根据权利要求1所述的方法,还包括:

在将所述第一模板拉动到压印区域中之前,并且当所述第一幅材处于静态时,使用位于所述第一辊中的上游辊的检测系统来定位所述第一幅材上的第一参考标记。

24.根据权利要求1所述的方法,还包括:

定位所述第一幅材上的第一参考标记与所述基板上的参考标记;

将所述第一幅材上的所述第一参考标记与所述基板上的所述参考标记对准;以及

在所述对准之后,夹紧所述第一参考标记以移动所述第一幅材,以使得所述第一模板移动到与所述基板的压印开始位置同步的压印开始位置。

25.根据权利要求1所述的方法,还包括:

通过布置在所述第一幅材的边缘上的一个或多个传感器来测量所述第一幅材的角度;以及

基于所测量的所述第一幅材的角度来重新定位所述基板。

26.一种用于双面压印的系统,包括:

第一辊,用于移动包括第一模板的第一幅材;

第二辊,用于移动包括第二模板的第二幅材;

对准系统,被配置为将所述第一幅材和所述第二幅材上的参考标记对准,以使得所第一模板和所述第二模板彼此对准;

第一分配器,被配置为在所述第一模板上分配第一抗蚀剂;

第二分配器,被配置为在所述第二模板上分配第二抗蚀剂;

加载系统,被配置为在所述第一模板和所述第二模板之间插入基板;以及

光源,配置为固化所述第一抗蚀剂和所述第二抗蚀剂,以使得固化的第一抗蚀剂在所述基板的第一面上具有与所述第一模板相关联的第一被压印特征,并且固化的第二抗蚀剂在所述基板的第二面上具有与所述第二模板相关联的第二被压印特征,

其中,在操作时,在第一方向上沿着所述第一辊拉动所述第一幅材以将所述第一模板暴露于所述第一分配器,并且在第二方向上沿着所述第二辊拉动所述第二幅材以将所述第二模板暴露于所述第二分配器,然后,在与所述第一方向相反的方向上沿着所述第一辊拉动所述第一幅材,并且在与所述第二方向相反的方向上沿着所述第二辊拉动所述第二幅材,以使得具有所述第一抗蚀剂的所述第一模板和具有所述第二抗蚀剂的所述第二模板彼此面对。

27.一种双面压印的方法,包括:

沿着第一辊拉动第一幅材,所述第一幅材包括具有第一压印特征的第一模板;

在所述第一模板上分配第一抗蚀剂;

将基板加载到所述第一模板上,以使得所述基板的第一面与所述第一模板上的所述第一抗蚀剂接触;

将所述基板夹紧到所述第一模板上,以使得所述基板能够与所述第一模板一起移动;

在所述基板的第二面上分配第二抗蚀剂;

将所述第一幅材上的第一参考标记与第二幅材上的第二参考标记对准,所述第二幅材包括具有第二压印特征的第二模板,以使得所述第二压印特征与所述第一压印特征对准;

在所述对准之后,以相同的速率同时沿着所述第一辊拉动所述第一幅材以及沿着第二辊拉动所述第二幅材;

固化所述第一抗蚀剂和所述第二抗蚀剂,以使得固化的第一抗蚀剂在所述基板的所述第一面上具有与所述第一压印特征相对应的第一被压印特征,并且固化的第二抗蚀剂在所述基板的所述第二面上具有与所述第二压印特征相对应的第二被压印特征;以及

卸载在所述第一面上具有所述第一被压印特征以及在所述第二面上具有所述第二被压印特征的所述基板。

28.一种用于双面压印的系统,包括:

第一辊,用于移动第一幅材,所述第一幅材包括具有第一压印特征的第一模板;

第二辊,用于移动第二幅材,所述第二幅材包括具有第二压印特征的第二模板;

第一分配器,被配置为在所述第一模板上分配第一抗蚀剂;

加载系统,被配置为将基板加载到所述第一模板上,以使得所述基板的第一面与所述第一模板上的所述第一抗蚀剂接触;

夹紧系统,被配置为将所述基板夹紧到所述第一幅材上,以使得所述基板能够与所述第一幅材一起移动;

第二分配器,配置为在所述基板的第二面上分配第二抗蚀剂;

定位系统,被配置为定位所述第一幅材上的第一参考标记与所述第二幅材上的第二参考标记,以用于将所述第一参考标记与所述第二参考标记对准;

光源,配置为固化所述第一抗蚀剂和所述第二抗蚀剂,以使得固化的第一抗蚀剂在所述基板的所述第一面上具有与所述第一压印特征相对应的第一被压印特征,并且固化的第二抗蚀剂在所述基板的所述第二面上具有与所述第二压印特征相对应的第二被压印特征;以及

卸载系统,被配置为卸载在所述第一面上具有所述第一被压印特征以及在所述第二面上具有第二被压印特征的所述基板,

其中,在将所述第一参考标记和所述第二参考标记彼此对准之后,以相同的速率同时拉动所述第一幅材和所述第二幅材。

29.一种双面压印的方法,包括:

沿着第一辊拉动第一幅材以及沿着第二辊拉动第二幅材,直到所述第一幅材的第一模板和所述第二幅材的第二模板被一起带入压印区域中;

将所述第一模板和所述第二模板的参考标记对准;

在基板的第一面上分配第一抗蚀剂,以及在所述基板的第二面上分配第二抗蚀剂;

将所述基板进给到所述第一模板与所述第二模板之间的所述压印区域中;

将所述第一模板和所述第二模板按压到所述基板上,以使得在所述基板的所述第一面上所述第一抗蚀剂填充到所述第一模板的第一压印特征中,以及在所述基板的所述第二面上所述第二抗蚀剂填充到所述第二模板的第二压印特征中;

固化所述第一抗蚀剂和所述第二抗蚀剂,以使得固化的第一抗蚀剂在所述基板的所述第一面上具有与所述第一压印特征相对应的第一被压印特征,并且固化的第二抗蚀剂在所述基板的所述第二面上具有与所述第二压印特征相对应的第二被压印特征;以及

卸载在所述第一面上具有所述第一被压印特征以及在所述第二面上具有所述被压印特征的所述基板。

30.一种双面压印的方法,包括:

沿着第一辊和第二辊拉动第一幅材,所述第一幅材包括具有第一压印特征的第一模板;

沿着第三辊和第四辊拉动第二幅材,所述第二幅材包括具有第二压印特征的第二模板,所述第一辊和所述第三辊彼此相对定位并限定辊隙;

将所述第一模板和所述第二模板的参考标记对准;

在所述基板的第一面和所述第一模板中的一个上分配第一抗蚀剂;

在所述基板的第二面和所述第二模板中的一个上分配第二抗蚀剂;

同时将所述第一模板和所述第二模板拉动到所述辊隙中,并将所述基板进给到所述辊隙中,所述第一压印特征面向所述基板的所述第一面,所述第二压印特征面向所述基板的所述第二面,以使得所述第一抗蚀剂在所述基板的所述第一面上被所述第一辊按压到所述第一压印特征中,以及所述第二抗蚀剂在所述基板的所述第二面上被所述第三辊按压到所述第二压印特征中;

固化所述第一抗蚀剂和所述第二抗蚀剂,以使得固化的第一抗蚀剂在所述基板的所述第一面上具有与所述第一压印特征相对应的第一被压印特征,并且固化的第二抗蚀剂在所述基板的所述第二面上具有与所述第二压印特征相对应的第二被压印特征;以及

卸载在所述第一面上具有第一被压印特征以及在所述第二面上具有所述第二被压印特征的所述基板。

31.一种用于双面压印的系统,包括:

第一辊,被配置为移动第一幅材,所述第一幅材包括具有第一压印特征的第一模板;

第二辊,被配置为移动第二幅材,所述第二幅材包括具有第二压印特征的第二模板;

一个或多个分配器,被配置为分配抗蚀剂;

定位系统,被配置为将所述第一幅材和所述第二幅材上的参考标记对准以用于对准所述第一模板和所述第二模板;

光源,被配置为固化所述抗蚀剂,以使得固化的第一抗蚀剂在所述基板的第一面上具有与所述第一压印特征相对应的第一被压印特征,并且固化的第二抗蚀剂在所述基板的第二面上具有与所述第二压印特征相对应的第二被压印特征;以及

移动系统,其被配置为在所述第一模板和所述第二模板之间进给所述基板,以及卸载在所述第一面上具有所述第一被压印特征以及在所述第二面上具有第二被压印特征的所述基板。


技术总结
提供了用于双面压印的系统、装置和方法。示例系统包括:用于移动第一幅材的第一辊,第一幅材包括具有第一压印特征的第一模板;用于移动第二幅材的第二辊,第二幅材包括具有第二压印特征的第二模板;用于分配抗蚀剂的分配器;用于定位第一幅材和第二幅材上的参考标记从而使第一模板和第二模板对准的定位系统;用于固化抗蚀剂的光源,使得固化的第一抗蚀剂在基板的一侧上具有与第一压印特征相对应的第一压印的特征,并且固化的第二抗蚀剂在基板另一侧上具有与第二压印特征相对应的第二压印的特征;以及用于在第一模板和第二模板之间进给基板并从第一幅材和第二幅材卸载双压印的基板的移动系统。

技术研发人员:C·J·福莱肯斯坦;R·帕特森;C·S·卡登;S·萨达姆;M·S·沙夫兰;V·辛格;M·N·米勒;K·罗;R·克里斯蒂安森
受保护的技术使用者:奇跃公司
技术研发日:2018.05.25
技术公布日:2020.05.26
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