一种用于薄膜熔体流道的截流机构的制作方法

1.本实用新型涉及高分子薄膜生产设备，尤其涉及一种用于薄膜熔体流道的截流机构。


背景技术：

2.在一种薄膜的生产过程中，薄膜原料形成的熔体通过输送流管进入挤出机构形成薄膜，由于其内部流道的直径较大，并且受到流速不稳定及主机过滤器压力不稳定的影响，熔体在流道中容易产生结晶体，挤出后在薄膜成品中形成晶点破洞，影响产品质量。因此，有必要在这种熔体流管的流道内设置截流机构，以克服上述缺陷。


技术实现要素：

3.本实用新型的目的是提供一种用于薄膜熔体流道的截流机构，以减少薄膜中的晶点破洞缺陷。
4.本实用新型为解决其技术问题所采用的技术方案是：
5.一种用于薄膜熔体流道的截流机构，包括支承截流端头，该支承截流端头安装于输送流管中，其内部开设有转接通道，输送流管内的熔体通过转接通道流动，其中，转接通道包括：
6.进料开口段，该进料开口段为圆台形状，其底部位于支承截流端头的进料端，输送流管内的熔体进入进料开口段内；
7.导料缩径段，该导料缩径段为单叶双曲面形状，并接合于进料开口段的顶部，进料开口段内的熔体进入导料缩径段内，其流速逐步增大；
8.导料直管段，该导料直管段为圆柱形状，并接合于导料缩径段的顶部，导料缩径段内的熔体进入导料直管段内；
9.出料敞口段，该出料敞口段为倒圆台形状，其底部接合于导料直管段的顶部，其顶部位于支承截流端头的出料端，导料直管段内的熔体进入出料敞口段后进入输送流管内，熔体中包含的结晶体被冲击破碎。
10.支承截流端头上设有配接凸环，配接凸环向支承截流端头外侧凸出，支承截流端头通过配接凸环安装于输送流管中，在本实用新型的一个实施例中，配接凸环中开设有一组定位通孔，各定位通孔分别沿配接凸环的周向顺次排布，可通过紧定螺栓将配接凸环固定于输送流管的进口处。
11.配接凸环中开设有轴向密封槽，该轴向密封槽沿支承截流端头的轴向向配接凸环内部凹陷，并沿配接凸环的周向延伸，可在轴向密封槽中安装轴向密封圈体，对配接凸环与输送流管的接合部位进行轴向密封。
12.支承截流端头外壁开设有周向密封槽，该周向密封槽沿支承截流端头的径向向支承截流端头内部凹陷，并沿支承截流端头的周向延伸，可在周向密封槽中安装周向密封圈体，对支承截流端头外壁与输送流管的配接部位进行周向密封。
13.在本实用新型的一个实施例中，周向密封槽位于支承截流端头与配接凸环衔接处。
14.进料开口段的顶角为85
°
～95
°
。
15.出料敞口段的顶角为40
°
～50
°
。
16.本实用新型的优点在于：
17.该截流机构在支承截流端头中设置了由进料开口段、导料缩径段、导料直管段及出料敞口段组成的转接通道，输送流管内的熔体进入进料开口段后流动空间急剧缩小，在导料缩径段及导料直管段流速急剧增大，并在出料敞口段流动空间迅速放大，使得熔体内的结晶体被冲击破碎后流出，避免在后续挤出成型过程中形成晶点破洞，从而提升产品质量。
附图说明
18.图1是本实用新型提出的用于薄膜熔体流道的截流机构的结构示意图。
具体实施方式
19.为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本实用新型实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此，以下对在附图中提供的本实用新型的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本实用新型的范围，而是仅仅表示本实用新型的选定实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
20.如图1所示，本实用新型提出的用于薄膜熔体流道的截流机构包括支承截流端头100，该支承截流端头安装于输送流管中，其内部开设有转接通道200，输送流管内的熔体通过转接通道流动，其中，转接通道包括进料开口段210、导料缩径段220、导料直管段230及出料敞口段240，进料开口段为圆台形状，其底部位于支承截流端头的进料端，输送流管内的熔体通过进料开口段的底部进入，导料缩径段为单叶双曲面形状，并接合于进料开口段的顶部，进料开口段内的熔体进入导料缩径段内，其流速逐步增大，导料直管段为圆柱形状，并接合于导料缩径段的顶部，导料缩径段内的熔体进入导料直管段内，出料敞口段为倒圆台形状，其底部接合于导料直管段的顶部，其顶部位于支承截流端头的出料端，导料直管段内的熔体经出料敞口段再次进入输送流管内。支承截流端头上设有配接凸环110，配接凸环向支承截流端头外侧凸出，支承截流端头通过配接凸环安装于输送流管中。配接凸环中开设有轴向密封槽111，该轴向密封槽沿支承截流端头的轴向向配接凸环内部凹陷，并沿配接凸环的周向延伸。支承截流端头外壁开设有周向密封槽120，该周向密封槽沿支承截流端头的径向向支承截流端头内部凹陷，并沿支承截流端头的周向延伸。在本实施例中，周向密封槽位于支承截流端头与配接凸环衔接处，进料开口段的顶角为90
°
，出料敞口段的顶角为45
°
。该截流机构在支承截流端头中设置了由进料开口段、导料缩径段、导料直管段及出料敞口段组成的转接通道，输送流管内的熔体进入进料开口段后流动空间急剧缩小，在导料
缩径段及导料直管段流速急剧增大，并在出料敞口段流动空间迅速放大，使得熔体内的结晶体被冲击破碎后流出，避免在后续挤出成型过程中形成晶点破洞，从而提升产品质量。
21.在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“内”、“外”、“左”、“右”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该实用新型产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，或者是本领域技术人员惯常理解的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的设备或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。在本实用新型的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，“设置”、“连接”等术语应做广义理解，例如，“连接”可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接连接，也可以通过中间媒介间接连接，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。


技术特征：
1.一种用于薄膜熔体流道的截流机构，包括支承截流端头，该支承截流端头安装于输送流管中，其内部开设有转接通道，输送流管内的熔体通过转接通道流动，其特征在于，转接通道包括：进料开口段，该进料开口段为圆台形状，其底部位于支承截流端头的进料端，输送流管内的熔体进入进料开口段内；导料缩径段，该导料缩径段为单叶双曲面形状，并接合于进料开口段的顶部，进料开口段内的熔体进入导料缩径段内；导料直管段，该导料直管段为圆柱形状，并接合于导料缩径段的顶部，导料缩径段内的熔体进入导料直管段内；出料敞口段，该出料敞口段为倒圆台形状，其底部接合于导料直管段的顶部，其顶部位于支承截流端头的出料端，导料直管段内的熔体进入出料敞口段后进入输送流管内。2.根据权利要求1所述的一种用于薄膜熔体流道的截流机构，其特征在于：支承截流端头上设有配接凸环，配接凸环向支承截流端头外侧凸出。3.根据权利要求2所述的一种用于薄膜熔体流道的截流机构，其特征在于：配接凸环中开设有轴向密封槽，该轴向密封槽沿支承截流端头的轴向向配接凸环内部凹陷，并沿配接凸环的周向延伸。4.根据权利要求2所述的一种用于薄膜熔体流道的截流机构，其特征在于：支承截流端头外壁开设有周向密封槽，该周向密封槽沿支承截流端头的径向向支承截流端头内部凹陷，并沿支承截流端头的周向延伸。5.根据权利要求4所述的一种用于薄膜熔体流道的截流机构，其特征在于：周向密封槽位于支承截流端头与配接凸环衔接处。6.根据权利要求1所述的一种用于薄膜熔体流道的截流机构，其特征在于：进料开口段的顶角为85
°
～95
°
。7.根据权利要求1所述的一种用于薄膜熔体流道的截流机构，其特征在于：出料敞口段的顶角为40
°
～50
°
。

技术总结
本实用新型提出一种用于薄膜熔体流道的截流机构，属于高分子薄膜生产设备，其包括支承截流端头，该支承截流端头安装于输送流管中，其内部开设有转接通道，输送流管内的熔体通过转接通道流动，转接通道包括进料开口段、导料缩径段、导料直管段及出料敞口段，该截流机构在支承截流端头中设置了由进料开口段、导料缩径段、导料直管段及出料敞口段组成的转接通道，输送流管内的熔体进入进料开口段后流动空间急剧缩小，在导料缩径段及导料直管段流速急剧增大，并在出料敞口段流动空间迅速放大，使得熔体内的结晶体被冲击破碎后流出，避免在后续挤出成型过程中形成晶点破洞，从而提升产品质量。品质量。品质量。


技术研发人员：王俊 王道亮
受保护的技术使用者：浙江皓智新材料科技有限公司
技术研发日：2022.04.21
技术公布日：2022/11/17