一种回转窑伸缩机构的制作方法

本实用新型涉及回转窑设备领域，特别是涉及一种回转窑伸缩机构。

背景技术：

回转窑分为内热式和外热式两种，回转窑受热后都会不同程度膨胀伸长，伸长量跟其温度密切相关。目前回转窑都是通过托轮对其进行支撑，回转窑可以在托轮上滚动工作，在受热后需要克服托轮对其的摩擦才能进行伸缩，一般回转窑与托轮之间的摩擦力相对比较大的，尤其回转窑不转动时，摩擦力会成倍增加，因此回转窑所受热应力往往比较大；再者，回转窑有时在工作过程中温度变化频繁进而影响回转窑长度的变化，回转窑长度的频繁变化又大大增加了其所受热应力。这种种原因都会很大程度地降低回转窑的使用寿命。

公告号为CN202304368U的中国专利文献公开了一种回转窑的托轮装置，该技术方案中在底架上通过轴承座可转动地设置有两个平行的托辊轴，托辊轴上各固定一托辊，至少一根托辊轴两端的轴承座在垂直于托辊轴的方向上可滑动地设置在底架上。上述方案通过改变两个托辊轴之间的间距，进而解决回转窑受热后不能自由伸缩的问题，但是仅设置两个托辊轴用于支撑托轮，对托辊轴的要求较高。

公告号为CN201811567U的中国专利文献，针对回转窑体不均匀热胀冷缩的技术问题，公开了一种回转窑体热胀冷缩补偿机构，该补偿机构包括与窑头下部连接的支撑架，所述支撑架的下部设置弹性支撑部件。通过弹性支撑部件能够对窑头提供一个稳定的支撑，当回转窑体温度变化时，会引起窑头在横向或者纵向的不同轴，因为有弹性支撑部件的设置，弹性支撑部件会及时补偿不同轴问题，使得窑头和回转窑体尽可能同轴，在横向或纵向受到的力尽可能的小，保证了回转窑的顺利运行。该技术方案一定程度上能有效地降低窑体在转动的过程中与窑头窑尾的强度磨擦，但主要是从保证窑头和回转窑体尽可能同轴的角度去解决窑头窑尾磨擦的技术问题。

技术实现要素：

有鉴于此，本实用新型提出了一种回转窑伸缩机构，用于解决回转窑受热后不能自由伸缩的问题，使回转窑受热膨胀后能自由伸缩，不受外力影响，降低回转窑所受热应力，增加回转窑的使用寿命。

一方面，本实用新型提供了一种回转窑伸缩机构，包括回转窑筒体、底架、托轮和挡轮，所述底架的两端均设置有托轮及挡轮，所述回转窑筒体设置于托轮上，所述挡轮用于防止回转窑筒体沿其轴线方向窜动，所述回转窑伸缩机构还包括滑道总成，所述底架第一端的托轮和挡轮均固定设置于滑道总成上，其第二端的托轮和挡轮固定于底架上，所述底架第一端的托轮通过滑道总成可沿回转窑筒体的轴线方向移动。

进一步地，所述滑道总成包括支撑台、滑轨和滑块，所述滑轨沿回转窑筒体的轴线方向设置于底架的第一端，所述滑块可移动地安装于滑轨上，所述支撑台通过滑块安装在滑轨上，并可在滑轨上沿回转窑筒体的轴线方向滑行。

进一步地，所述滑道总成包括支撑台、滑轨和滑轮，所述滑轨沿回转窑筒体的轴线方向设置于底架的第一端，所述滑轮可移动地安装于滑轨上，所述支撑台通过滑轮安装在滑轨上，并可在滑轨上沿回转窑筒体的轴线方向滑行。

进一步地，所述滑道总成包括支撑台、滑轨和滚筒，所述滑轨沿回转窑筒体的轴线方向设置于底架的第一端，所述滚筒可移动地套设于滑轨上，所述支撑台通过滚筒安装在滑轨上，并可在滑轨上沿回转窑筒体的轴线方向滑行。

进一步地，所述底架第一端的托轮和挡轮均固定设置于支撑台上。

进一步地，所述底架第一端开设有凹槽，所述滑轨沿回转窑筒体的轴线方向安装于所述凹槽内。

进一步地，所述滑块与滑轨的接触面安装有直线轴承。

进一步地，所述滑轮与滑轨的接触面安装有直线轴承。

进一步地，所述滚筒与滑轨的接触面安装有直线轴承。

进一步地，所述滑轨的数量为多根，多根所述滑轨平行设置。

本实用新型提供的回转窑伸缩机构，包括回转窑筒体、底架、托轮、挡轮和滑道总成，在底架的两端均设置有托轮及挡轮，回转窑筒体设置于托轮上，挡轮用于防止回转窑筒体沿其轴线方向窜动，具体地，底架第一端的托轮和挡轮均固定设置于滑道总成上，其第二端的托轮和挡轮固定于底架上，底架第一端的托轮通过滑道总成可沿回转窑筒体的轴线方向移动，由于回转窑在受热以后，回转窑筒体会根据其温度的不同都有不同程度的膨胀伸缩，通过上述设置，回转窑筒体两端都由挡轮固定，其一端挡轮固定在底架上，另一端挡轮固定在滑道总成上，在回转窑筒体受热膨胀后，通过滑道总成的滑动来实现其伸缩，具有降低回转窑所受热应力，提高回转窑使用寿命的优点。

附图说明

构成本实用新型的一部分的附图用来提供对本实用新型的进一步理解，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中：

图1为本实用新型实施例提供的回转窑伸缩机构的结构简图；

图2为本实用新型一实施例提供的滑道总成5的立体结构示意图；

图3为本实用新型另一实施例提供的滑道总成5的立体结构示意图；

图4为本实用新型再一实施例提供的滑道总成5的立体结构示意图。

其中：1-回转窑筒体、2-底架、3-托轮、4-挡轮、5-滑道总成、501-支撑台、502-滑轨、503-滑块、504-滑轮、505-滚筒。

具体实施方式

需要说明的是，在不冲突的情况下，本实用新型中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本实用新型。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“左”、“右”、“顶”、“底”“内”、“外”、“上”、“下”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型保护范围的限制。

图1是根据本实用新型实施例提供的回转窑伸缩机构的结构简图。图2-图4分别为不同实施例的滑道总成5的立体结构示意图。

如图1所示的回转窑伸缩机构，包括回转窑筒体1、底架2、托轮3、挡轮4和滑道总成5，底架2的两端均设置有托轮3及挡轮4，回转窑筒体1设置于托轮3上，挡轮4用于防止回转窑筒体1沿其轴线方向窜动，具体地，底架2右端的托轮3和挡轮4均固定设置于滑道总成5上，其左端的托轮3和挡轮4固定于底架2上，底架2右端的托轮3即通过滑道总成5可沿回转窑筒体1的轴线方向移动。通过上述设置，回转窑在工作过程中受热膨胀，其左端固定，右端通过滑道总成5自由伸缩，很大程度上降低了回转窑所受热应力，增加了回转窑的使用寿命。

具体地，在图2所示的实施例中，滑道总成5包括支撑台501、滑轨502和滑块503，滑轨502沿回转窑筒体1的轴线方向设置于底架2的右端，滑块503可移动地安装于滑轨502上，支撑台501通过滑块503安装在滑轨502上，并可在滑轨502上沿回转窑筒体1的轴线方向滑行。需要说明的是，底架2右端的托轮3和挡轮4均固定设置于支撑台501上。

在进一步地技术方案中，滑块503与滑轨502的接触面优选安装有直线轴承，将原滑动摩擦变成了滚动摩擦，可大大地减少托轮3和回转窑筒体1间的摩擦力。

在图3所示的实施例中，具体地，滑道总成5包括支撑台501、滑轨502和滑轮504，滑轨502沿回转窑筒体1的轴线方向设置于底架2的右端，滑轮504可移动地安装于滑轨502上，支撑台501通过滑轮504安装在滑轨502上，并可在滑轨502上沿回转窑筒体1的轴线方向滑行。需要说明的是，底架2右端的托轮3和挡轮4均固定设置于支撑台501上。

在进一步地技术方案中，滑轮504与滑轨502的接触面安装有直线轴承，将原滑动摩擦变成了滚动摩擦，可大大地减少托轮3和回转窑筒体1间的摩擦力。

在图4所示的实施例中，具体地，滑道总成5包括支撑台501、滑轨502和滚筒505，滑轨502沿回转窑筒体1的轴线方向设置于底架2的第一端，滚筒505可移动地套设于滑轨502上，支撑台501通过滚筒505安装在滑轨502上，并可在滑轨502上沿回转窑筒体1的轴线方向滑行。需要说明的是，底架2右端的托轮3和挡轮4均固定设置于支撑台501上。

在进一步地技术方案中，滚筒505与滑轨502的接触面安装有直线轴承，将原滑动摩擦变成了滚动摩擦，可大大地减少托轮3和回转窑筒体1间的摩擦力。

需要说明的是，在其上所述的所有实施例中，为便于滑道总成5更好地沿回转窑筒体1的轴线方向移动，底架2右端开设有凹槽，滑轨502沿回转窑筒体1的轴线方向安装于该凹槽内。

此外，需要提及的是，本实用新型中滑轨502的数量优选为多根，多根滑轨502平行设置，通过上述设置可以延长单根滑轨502的使用寿命。

上述回转窑伸缩机构工作原理简述如下：回转窑在受热以后，回转窑筒体1会根据其温度的不同都有不同程度的膨胀伸缩，回转窑筒体1两端都有挡轮4固定，其左端挡轮4固定在底架2上，右端挡轮4固定在支撑台501上，在回转窑筒体1受热膨胀后，通过支撑台501的滑动进而实现回转窑筒体1的伸缩。尤其是当回转窑在高温状态下因故不能转动需停机的情况下，能保证回转窑在冷却的过程中的回缩，回转窑在不旋转时其筒体1与托轮3间摩擦力是其转动时的数倍，因此在这种情况下能有效避免因回转窑不能及时得到回缩而造成的变形、开裂等不可逆损坏。

综上所述，本实用新型的回转窑伸缩机构，回转窑筒体1两端都由挡轮4固定，其左端的挡轮4固定在底架2上，右端的挡轮4固定在滑道总成5上，同时，底架2右端的托轮3固定设置于滑道总成5上，其左端的托轮3固定于底架2上，底架2右端的托轮3通过滑道总成5可沿回转窑筒体1的轴线方向移动，在回转窑筒体1受热膨胀后，通过滑道总成5的滑动来实现回转窑筒体1的伸缩具有降低回转窑所受热应力，提高回转窑使用寿命的优点。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。