一种焙烧窑体连续敲打装置的制作方法

文档序号:20534752发布日期:2020-04-24 22:01阅读:270来源:国知局
一种焙烧窑体连续敲打装置的制作方法

本实用新型属于化工设备技术领域,具体涉及一种焙烧窑体连续敲打装置。



背景技术:

焙烧窑在化工领域是一种有效高温处理粉体或颗粒物料的一种转动焙烧装置,通过窑体将热源和物料分开,在生产过程中热源通过加热窑体将能量传输至物料,但对有粘性或遇水汽容易粘结的物料来说,一旦物料粘壁就会造成物料焙烧不充分或结块现象,进而导致物料不合格,需二次处理或直接烧结,对成本控制和生产都会造成很大影响。为缓解物料粘壁现象,需要借助外力对窑体进行连续敲打,传统的敲打模式是在窑体上直接安装振动锤,此方法能起到一定的敲打作用,但敲打频率有限,一个锤子窑体转动一圈只能敲打一次,对于粘性大的物料作用有限,且振动锤只限于窑头和窑尾安装,其他位置因为空间问题无法匹配,尤其是对于窑中位置无法兼顾。



技术实现要素:

本实用新型的目的是针对现有的技术存在的上述问题,提供一种焙烧窑体连续敲打装置,本实用新型所要解决的技术问题是在烧窑体外加装续敲打装置,是其能够在焙烧窑旋转焙烧的过程中,对窑体进行持续敲打,以缓解焙烧窑内的物料粘壁现象。

本实用新型的目的可通过下列技术方案来实现:一种焙烧窑体连续敲打装置,其特征在于,本连续敲打装置包括固定于焙烧窑体一侧的安装平台,所述安装平台上设有摆臂和电机;所述摆臂的一端铰接于安装平台上,摆臂的另一端于焙烧窑体上方铰接有铁锤;所述电机的转轴固定有凸轮,所述凸轮位于摆臂的下方,且凸轮的转动恰好能够推动摆臂摆动。

本敲打装置设于焙烧窑体一侧,其摆臂的一端铰接在平台上,而中间位置设置一凸轮,凸轮在电机的驱动下转动,凸轮上突出部分将推动摆臂摆动,进而带动铁锤向上运动;待凸轮转动至非突出部分接触摆臂时,其对摆臂的推动力消失,铁锤及摆臂将在重力的作用下下行,实现对焙烧窑体的敲打;凸轮连续转动将实现铁锤对焙烧窑体的连续敲打。而日常生产时,是边加热边转动的,铁锤可实现对焙烧窑体上位于下方的外周各处进行敲打。我们还可将电机连接变频器,实现敲打的频率调节,从而使敲打频率更合理。

本实用新型优点:

本敲打装置投入小,连续性好,有效降低了物料粘壁导致的焙烧不充分、需二次焙烧等现象,提高物料处理效果,实用性强。

附图说明

图1是本焙烧窑体连续敲打装置的立体结构示意图。

图2是本焙烧窑体连续敲打装置的剖视图。

图中,1、焙烧窑体;2、安装平台;3、摆臂;4、电机;5、铁锤;6、凸轮。

具体实施方式

以下是本实用新型的具体实施例并结合附图,对本实用新型的技术方案作进一步的描述,但本实用新型并不限于这些实施例。

如图1和图2所示,本焙烧窑体连续敲打装置,包括固定于焙烧窑体1一侧的安装平台2,安装平台2上设有摆臂3和电机4;摆臂3的一端铰接于安装平台2上,摆臂3的另一端于焙烧窑体1上方铰接有铁锤5;电机4的转轴固定有凸轮6,凸轮6位于摆臂3的下方,且凸轮6的转动恰好能够推动摆臂3摆动;本敲打装置设于焙烧窑体1一侧,其摆臂3的一端铰接在平台上,而中间位置设置一凸轮6,凸轮6在电机4的驱动下转动,凸轮6上突出部分将推动摆臂3摆动,进而带动铁锤5向上运动;待凸轮6转动至非突出部分接触摆臂3时,其对摆臂3的推动力消失,铁锤5及摆臂3将在重力的作用下下行,实现对焙烧窑体1的敲打;凸轮6连续转动将实现铁锤5对焙烧窑体1的连续敲打。而日常生产时,是边加热边转动的,铁锤5可实现对焙烧窑体1上位于下方的外周各处进行敲打。我们还可将电机4连接变频器,实现敲打的频率调节,从而使敲打频率更合理。

本文中所描述的具体实施例仅仅是对本实用新型精神作举例说明。本实用新型所属技术领域的技术人员可以对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代,但并不会偏离本实用新型的精神或者超越所附权利要求书所定义的范围。



技术特征:

1.一种焙烧窑体连续敲打装置,其特征在于,本连续敲打装置包括固定于焙烧窑体(1)一侧的安装平台(2),所述安装平台(2)上设有摆臂(3)和电机(4);所述摆臂(3)的一端铰接于安装平台(2)上,摆臂(3)的另一端于焙烧窑体(1)上方铰接有铁锤(5);所述电机(4)的转轴固定有凸轮(6),所述凸轮(6)位于摆臂(3)的下方,且凸轮(6)的转动恰好能够推动摆臂(3)摆动。


技术总结
本实用新型提供了一种焙烧窑体连续敲打装置,包括固定于焙烧窑体一侧的安装平台,安装平台上设有摆臂和电机;摆臂的一端铰接于安装平台上,摆臂的另一端于焙烧窑体上方铰接有铁锤;电机的转轴固定有凸轮,凸轮位于摆臂的下方,且凸轮的转动恰好能够推动摆臂摆动。本实用新型具有投入小、连续性好等优点。

技术研发人员:甘海军;王金河;张荣榜;石光奇
受保护的技术使用者:湖北赛因化工有限公司
技术研发日:2019.07.03
技术公布日:2020.04.24
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