，用于供应流动气体的孔(供应孔)444在周向上以等间隔设置4个，流动气体通过孔444供应至流动层炉130内。
[0088]而且，在孔444中设置有具有如下功能的过滤器446:使空气通过，并且防止水蒸气的通过。
[0089]控制部490由包含CPU(中央处理装置)的半导体集成电路构成，从ROM读出用于使CPU自身动作的程序和参数等，与作为工作区域的RAM和其它电子电路协作而管理和控制流动层系统400整体。在本实施方式中，控制部490控制燃烧炉110的驱动、介质分离器112的驱动、供应部360的驱动。
[0090]具体地说明，控制部490在启动运行流动层系统400时，驱动供应部360，向风箱440供应空气。在这种情况下，由于设置于喷嘴442群中的过滤器446具有使空气通过的功能，因而，能够不仅通过喷嘴342群还通过喷嘴442群向流动层炉130内供应空气，可以利用供应的空气在流动层炉130内形成流动介质的流动层。
[0091]另一方面，在常规运行流动层系统400时，如果控制部490驱动供应部360而向风箱440供应水蒸气，那么由于设置于喷嘴442群的过滤器446具有防止水蒸气的通过的功能，因而不会从喷嘴442群的孔444向流动层炉130内供应水蒸气。因而，仅仅通过喷嘴342群，向流动层炉130内供应水蒸气，并在流动层炉130中形成流动介质的流动层。
[0092]换而言之，在本实施方式中，过滤器446和控制部490构成降低启动运行时的压力损失和常规运行时的压力损失之差的控制机构。
[0093]这样，能够利用在喷嘴442的孔444中设置过滤器446这样简易的构成，使启动运行时流动气体流通的孔444的总面积比常规运行时的流动气体流通的孔444的总面积大，并降低启动运行时的压力损失和常规运行时的压力损失之差。
[0094]虽然在上面参照附图并说明了本发明的优选实施方式，但是本发明不限于相关的实施方式是自不必说的。若为本领域技术人员，在权利要求书中所记载的范畴内能想到各种变更例和修改例是明白的，应了解，关于这些也当然属于本发明的技术范围。
[0095]例如，在上述实施方式中，以启动运行时向流动层炉130供应的气体为空气、在常规运行时向流动层炉130供应的气体为水蒸气的情况为例进行了说明。但是，在向流动层炉130供应的气体的种类上没有限定，也可例如代替水蒸气和空气，而导入氮等惰性气体。而且，也可在启动运行时和常规运行时向流动层炉130供应相同的气体。例如，即使是相同的气体，只要温度不同，在供应孔处的压力损失就不同。因而，通过利用上述构成，能够降低启动运行时的压力损失和常规运行时的压力损失之差。
[0096]而且，虽然在上述的实施方式中，说明了流动层系统100、300、400具备燃烧炉110的构成，但是燃烧炉I1不是必须的构成，也可用加热器等加热流动介质。
[0097]而且，虽然在上述实施方式中，以如下情况为例进行了说明，但是也可使孔径不同，孔数不同:仅仅在启动运行时利用的喷嘴152、342b、442和在启动运行时和常规运行时双方利用的喷嘴142、342a、342中的孔142a、152a、344、444的孔径和孔数实质上相等。而且，虽然在上述的实施方式中，说明了孔在喷嘴的周向上等间隔地形成的情况，但是孔没必要一定在周向上等间隔地形成。
[0098]而且，在上述实施方式中，虽然主喷嘴群144、辅助喷嘴群154、喷嘴342a群、喷嘴342b群、喷嘴342群、喷嘴442群由多根喷嘴构成，但是也可由I个喷嘴构成。
[0099]而且，在上述的第I实施方式中，以如下情况为例进行了说明:控制部190在将向流动层炉130供应的气体从空气替换成水蒸气时，控制第I供应部160和第2供应部180，来减少空气的流量且增加水蒸气的流量。但是，控制部190在将向流动层炉130供应的气体从空气替换成水蒸气时，也可首先停止向流动层炉130的空气的供应，随后开始水蒸气的供应。
[0100]而且，本说明书的流动层系统(流动层炉)的运行方法中的各个工序没必要一定沿着作为流程图记载的顺序以时间序列处理，也可包含并列的处理。
[0101]而且，在上述专利文献2中也记载了流动气体向使用多个喷嘴群的流动层炉内的供应。但是，专利文献I以在喷射喷嘴上设置缩紧部而使压力损失变大作为目的，而且，不具备仅仅通过多个喷嘴群中的任一方而向流动层炉内供应流动气体的构成，这点与本发明不同。
[0102]而且，在上述专利文献3中也记载了从喷嘴向流动层炉内的流动气体的供应量的控制。但是，专利文献3不将喷嘴分成多个喷嘴群并对这些喷嘴群进行不同的控制，这点与本发明不同。
[0103]产业上的可利用性
本发明能够利用于流动介质形成流动层的流动层系统和流动层炉的运行方法。
[0104]附图标记
100、300、400流动层系统 110燃烧炉 130流动层炉 142、152、342、442 喷嘴 142a、152a、344、444 孔144主喷嘴群(第I喷嘴群)154辅助喷嘴群(第2喷嘴群)160第I供应部180第2供应部190控制部
350开闭部(控制机构)
360供应部
390、490控制部(控制机构)446过滤器(控制机构)。
【主权项】
1.一种流动层系统，具备: 流动层炉，其容纳流动介质； 第I喷嘴群，其设置于所述流动层炉内，由具有用于供应气体的孔的一个或多个喷嘴构成； 第2喷嘴群，其为与所述第I喷嘴群不同的喷嘴群，设置于所述流动层炉内，由具有用于供应气体的孔的一个或多个喷嘴构成； 第I供应部，其通过所述第I喷嘴群和第2喷嘴群中的任一方，向所述流动层炉内供应气体； 第2供应部，其通过所述第I喷嘴群和第2喷嘴群双方，向所述流动层炉内供应气体； 控制部，其在启动运行时，控制所述第2供应部并向所述流动层炉内供应气体，从而在所述流动层炉内形成流动介质的流动层，在常规运行时，停止所述第2供应部导致的气体的供应并且控制所述第I供应部，向所述流动层炉内供应气体，从而在所述流动层炉内形成流动介质的流动层。2.根据权利要求1所述的流动层系统，其特征在于，所述第I供应部供应的气体为水蒸气，所述第2供应部供应的气体为空气。3.—种流动层炉的运行方法，其特征在于，在启动运行容纳流动介质的流动层炉时，通过第I喷嘴群和第2喷嘴群双方，向所述流动层炉内供应气体并在所述流动层炉内形成流动介质的流动层，所述第I喷嘴群设置于所述流动层炉内并由具有孔的一个或多个喷嘴构成，所述第2喷嘴群为与所述第I喷嘴群不同的喷嘴群，设置于所述流动层炉内并由具有孔的一个或多个喷嘴构成， 在常规运行所述流动层炉时，通过所述第I喷嘴群和所述第2喷嘴群中的任一方，向所述流动层炉内供应气体，并在所述流动层炉内形成流动介质的流动层。4.一种流动层系统，具备: 流动层炉，其容纳流动介质； 多个喷嘴，其设置于所述流动层炉内，具有用于供应气体的孔； 供应部，其通过所述多个喷嘴向所述流动层炉内供应气体； 控制机构，其在其启动运行时，通过所述多个喷嘴向所述流动层炉内供应气体，从而在所述流动层炉内形成流动介质的流动层，在常规运行时，通过所述多个喷嘴中的比在所述启动运行时成为气体的供应源的喷嘴更少的数量的特定的喷嘴，向所述流动层炉内供应气体，从而在所述流动层炉内形成流动介质的流动层。5.根据权利要求4所述的流动层系统，其特征在于，所述供应部在所述启动运行时供应的气体为空气，在所述常规运行时供应的气体为水蒸气。6.根据权利要求4或5所述的流动层系统，其特征在于，所述控制机构包含下列而构成:开闭部，其开放或闭塞所述特定的喷嘴的孔；控制部，其在启动运行时，控制所述开闭部而使所述特定的喷嘴的孔开放，在常规运行时，控制所述开闭部而使所述特定的喷嘴的孔闭塞。7.根据权利要求5所述的流动层系统，其特征在于，所述控制机构包含过滤器而构成，所述过滤器设置于所述多个喷嘴中的所述特定的喷嘴所具有的孔中， 所述过滤器具有使空气通过并且防止水蒸气的通过的功能。8.—种流动层炉的运行方法，在启动运行容纳流动介质的流动层炉时，通过设置于所述流动层炉内的具有孔的多个喷嘴，向所述流动层炉内供应气体，并在所述流动层炉内形成流动介质的流动层，在常规运行所述流动层炉时，通过在所述多个喷嘴中的比在所述启动运行时成为气体的供应源的喷嘴更少的数量的特定的喷嘴，向所述流动层炉内供应气体，并在所述流动层炉内形成流动介质的流动层。
【专利摘要】一种流动层系统，具备：喷嘴群(144)(第1喷嘴群)，其设置于流动层炉(130)内；辅助喷嘴群(154)(第2喷嘴群)，其设置于流动层炉内；第1供应部(160)，其通过第1喷嘴群向流动层炉内供应气体；第2供应部(180)，其通过第1喷嘴群和第2喷嘴群双方向流动层炉内供应气体；控制部(190)，其在启动运行时，控制第2供应部并向流动层炉内供应气体，从而在流动层炉内形成流动介质的流动层，在常规运行时，停止第2供应部导致的气体的供应并且控制第1供应部，向流动层炉内供应气体，从而在流动层炉内形成流动介质的流动层。
【IPC分类】F27B15/10, F27B15/18, F23C10/28, C10J3/54, F23C10/20
【公开号】CN105143805
【申请号】CN201480022322
【发明人】舩越弘
【申请人】株式会社Ihi
【公开日】2015年12月9日
【申请日】2014年4月21日
【公告号】WO2014175208A1