专利名称：超低温循环设备的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种提供超低温循环恒温场的设备，尤其是涉及一种利用液氮作为冷源 的超低温循环设备。
背景技术：
电子显微镜、电子探针、超高真空溅射仪、X光机、激光器、加速器，高纯金属、物质 提纯、环境实验、磁控溅射、真空镀膜，化学、生物、物理、遗传工程、高分子工程等实验 都需要在超低温(《-6(TC)冷却循环恒流、恒压条件下进行。
而现有的低温循环设备大多数只能提供》-6(TC温度场，且大多数采用压縮机制冷，体 积大、噪音较大、能耗高、制冷量小。因此如何制造体积小、噪音小、能耗低、制冷量大、 温度场在室温 -195'C的超低温循环设备是低温行业发展的重要方向之一。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是提供一种在室温 -195 °C的温度范围环境的超低温循 环设备。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是超低温循环设备，其夹层反应釜通过 管路连接有超低温设备，所述超低温设备包括通过输送管路连通的真空杜瓦处理室与液氮罐 ，在真空杜瓦处理室内设置有低温流体储存容器。
作为上述技术方案的优选方案，所述管路为循环管路。
进一步的是，在低温流体储存容器内设置有与真空杜瓦处理室相通的管式换热器。 进一步的是，在低温流体储存容器内设置有测温传感器。 进一步的是，在真空杜瓦处理室的顶部设置有冒气口。
本实用新型的有益效果是在真空杜瓦处理室内设置低温流体储存容器，并采用液氮作 为冷源对低温流体储存容器内的工作介质进行冷却，可使工作介质冷却后的最低温度可达 -195°C，达到为生产和科研提供室温 -195。C超低温循环恒温场的目的，同时可降低噪音污 染，减少生产制造成本。尤其适合在需要超低温条件的各个领域推广使用。
图l是本实用新型的结构示意图。
图中标记为超低温设备l、低温流体储存容器2、夹层反应釜3、液氮罐4、测温传感器
5、管式换热器6、冒气口7、管路8、输送管路9、真空杜瓦处理室IO。图中箭头所示为液体 工作介质的循环流动线路。
具体实施方式
以下结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。
如图1所示，本实用新型的超低温循环设备，包括夹层反应釜3，夹层反应釜3通过管路8 连接有超低温设备l ，所述超低温设备1包括通过输送管路9连通的真空杜瓦处理室10与液氮 罐4，在真空杜瓦处理室10内设置有低温流体储存容器2。在工作时，液氮罐4中的液氮通过 输送管路9输送到真空杜瓦处理室10内，对低温流体储存容器2内的液体工作介质进行冷却， 同时，将冷却以后的液体工作介质通过管路8输送到夹层反应釜3内进行工作，可使夹层反应 釜3内的温度在室温到-195°C之间进行变换，达到不同的工作条件要求。
为了能循环使用低温流体储存容器2内的液体工作介质，所述管路8为循环管路。这样， 当冷却后的液体工作介质输送到夹层反应釜3内工作以后，可将液体工作介质又输送回低温 流体储存容器2内，进行二次冷却，从而达到循环利用的目的，节约原材料。
为了能更快地对液体工作介质进行冷却，在低温流体储存容器2内设置有与真空杜瓦处 理室10相通的管式换热器6。这样，液氮在进入真空杜瓦处理室10内后，可通过管式换热器6 从液体工作介质内部进行冷却，縮短冷却周期，提高液氮的利用率，降低整个工作过程的成 本。
在以上的实施方式中，为了能精确地测量液体工作介质冷却后的温度，在低温流体储存 容器2内设置有测温传感器5。这样就可方便地对液体工作介质进行监控，使其达到工作的需 要，提高控制精度。
在低温流体储存容器2内的液体工作介质进行冷却的过程中，真空杜瓦处理室IO内的液 氮蒸发，为了能将蒸发的氮气排出，在真空杜瓦处理室10的顶部设置有冒气口7。从而将蒸 发后的液氮从冒气口7处排出。
权利要求1.超低温循环设备，包括夹层反应釜(3)，其特征是夹层反应釜(3)通过管路(8)连接有超低温设备(1)，所述超低温设备(1)包括通过输送管路(9)连通的真空杜瓦处理室(10)与液氮罐(4)，在真空杜瓦处理室(10)内设置有低温流体储存容器(2)。
2、如权利要求l所述的超低温循环设备，其特征是所述管路(8) 为循环管路。
3、如权利要求1或2所述的超低温循环设备，其特征是在低温流体 储存容器(2)内设置有与真空杜瓦处理室(10)相通的管式换热器(6)。
4、如权利要求l所述的超低温循环设备，其特征是在低温流体储存 容器(2)内设置有测温传感器(5)。
5、如权利要求l所述的超低温循环设备，其特征是在真空杜瓦处理 室(10)的顶部设置有冒气口 (7)。
专利摘要本实用新型公开了一种利用液氮作为冷源的超低温循环设备，可提供室温～-195℃的温度环境。该超低温循环设备，包括夹层反应釜，夹层反应釜通过管路连接有超低温设备，所述超低温设备包括通过输送管路连通的真空杜瓦处理室与液氮罐，在真空杜瓦处理室内设置有低温流体储存容器。通过在夹层反应釜上连接超低温设备，并采用液氮作为冷源对低温流体储存容器内的工作介质进行冷却，可使工作介质冷却后的温度达到室温～-195℃，从而为化学，电子，医学等行业提供超低温恒定温度场；同时可降低噪音污染，减少生产制造成本，尤其适合在需要超低温恒定温度场的各个领域推广使用。
文档编号F25D3/10GK201184718SQ20082030043
公开日2009年1月21日 申请日期2008年3月26日 优先权日2008年2月19日
发明者李玉春, 王慈航, 王绍钢 申请人:王绍钢;王慈航;李玉春