一种温度均匀的低温设备的制作方法

文档序号:4788253阅读:223来源:国知局
专利名称:一种温度均匀的低温设备的制作方法
技术领域
本实用新型涉及一种温度均匀的低温设备。
背景技术
现有低温设备存在的技术问题1)在低温处理室内易存在液氮,并且低温室内温度梯度大;2)聚胺脂发泡的堆积绝热方式保温。

实用新型内容本实用新型提供一种温度均匀的低温设备,解决目前在低温处理设备中存在的温度不均匀性,液氮消耗大的问题。一种温度均匀的低温设备,包括喷塑箱体出),喷塑箱体出)内部为高真空多层绝热处理室(I),高真空多层绝热处理室(I)采用真空、多层绝热结构;高真空多层绝热处理室(I)上盖安装将液氮分散汽化的循环系统(2)。所述的温度均匀的低温设备,还包括提篮(7),提篮(7)放置在高真空多层绝热处理室(I)内。通过安装在处理室上盖上的循环系统,将液氮分散汽化,让工件始终处于气态环境中,避免液氮直接冲击工件,提篮使取放工件更加方便,整个处理室的温度均匀,温度梯度在2°C内。

图1为本实用新型结构示意图;I高真空多层绝热处理室,2循环系统,3泄压口,4制冷管,5升温管,6喷塑箱体,7提篮,8传感器,9制冷升温系统,10金属软管,11自增压低温容器。
具体实施方式
以下结合具体实施例,对本实用新型进行详细说明。参考图1,温度均匀的低温设备包括喷塑箱体6,喷塑箱体6内部为高真空多层绝热处理室1,高真空多层绝热处理室I采用真空、多层绝热结构,保温效果好,消耗液氮量最少;高真空多层绝热处理室I内设置泄压口 3、制冷管4、升温管5和传感器8,提篮7放置在高真空多层绝热处理室I内,用于盛放工件,高真空多层绝热处理室I上盖安装循环系统2,用于将液氮分散汽化;自增压低温容器11里的液氮通过金属软管10和制冷管4均匀喷射进高真空多层绝热处理室1,通过安装在处理室上盖上的循环系统2,将液氮分散汽化,让工件始终处于气态环境中,避免液氮直接冲击工件,提篮7使取放工件更加方便,整个处理室的温度均匀,温度梯度在2 °C内。制冷升温系统9控制整个装置的制冷和升温过程,升温时可采用电阻加热升温管5的方式将温度升到室温,实验结束以后,通过泄压口 3排出气体,卸除内部气体压力。[0012]应当理解的是,对本领域普通技术人员来说,可以根据上述说明加以改进或变换,而所有这些改进和变换都应属于本实用新型所附权利要求的保护范围。
权利要求1.一种温度均匀的低温设备,包括喷塑箱体¢),其特征在于,喷塑箱体¢)内部为高真空多层绝热处理室(I),高真空多层绝热处理室(I)采用真空、多层绝热结构;高真空多层绝热处理室(I)上盖安装将液氮分散汽化的循环系统(2)。
2.根据权利要求1所述的温度均匀的低温设备,其特征在于,还包括提篮(7),提篮(7)放置在高真空多层绝热处理室(I)内。
专利摘要本实用新型公开了一种温度均匀的低温设备,包括喷塑箱体(6),喷塑箱体(6)内部为高真空多层绝热处理室(1),高真空多层绝热处理室(1)采用真空、多层绝热结构;高真空多层绝热处理室(1)上盖安装将液氮分散汽化的循环系统(2)。通过安装在处理室上盖上的循环系统,将液氮分散汽化,让工件始终处于气态环境中,避免液氮直接冲击工件,整个处理室的温度均,温度梯度在2℃内。
文档编号F25B19/04GK202902685SQ20122045952
公开日2013年4月24日 申请日期2012年9月11日 优先权日2012年9月11日
发明者李国继, 汪学其, 董立新, 周友龙, 李文杰 申请人:李国继
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